JP3231970B2 - 回転カップ式塗布方法及び塗布装置 - Google Patents
回転カップ式塗布方法及び塗布装置Info
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- JP3231970B2 JP3231970B2 JP01451795A JP1451795A JP3231970B2 JP 3231970 B2 JP3231970 B2 JP 3231970B2 JP 01451795 A JP01451795 A JP 01451795A JP 1451795 A JP1451795 A JP 1451795A JP 3231970 B2 JP3231970 B2 JP 3231970B2
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- cup
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＳＯＧ（Spin-On-Glas
s：珪素化合物を有機溶媒に溶解した溶液、及びこの溶
液を塗布・焼成することで形成される酸化珪素膜）、或
いはレジスト液等の塗布液をガラス基板等や半導体ウェ
ーハ等の基板表面に塗布する回転カップ式の塗布方法及
び塗布装置に関する。
s：珪素化合物を有機溶媒に溶解した溶液、及びこの溶
液を塗布・焼成することで形成される酸化珪素膜）、或
いはレジスト液等の塗布液をガラス基板等や半導体ウェ
ーハ等の基板表面に塗布する回転カップ式の塗布方法及
び塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】アウターカップ内にスピンナーによって
回転せしめられるインナーカップを配置した回転カップ
式塗布装置を用いた塗布方法は、インナーカップ内に基
板をセットし、この基板表面に塗布液を滴下した後、イ
ンナーカップ上面を蓋体で閉塞し、この状態でインナー
カップを回転せしめ遠心力にて基板表面に滴下した塗布
液を均一に拡散せしめる。このような回転カップ式塗布
方法と装置は特開平６−１７０３１５号公報等に開示さ
れている。
回転せしめられるインナーカップを配置した回転カップ
式塗布装置を用いた塗布方法は、インナーカップ内に基
板をセットし、この基板表面に塗布液を滴下した後、イ
ンナーカップ上面を蓋体で閉塞し、この状態でインナー
カップを回転せしめ遠心力にて基板表面に滴下した塗布
液を均一に拡散せしめる。このような回転カップ式塗布
方法と装置は特開平６−１７０３１５号公報等に開示さ
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、回転
カップ式塗布装置を用いた場合には、インナーカップと
蓋体との間に形成される小空間に基板を収納した状態で
インナーカップを回転せしめるので、乱流の発生と圧力
の変動が抑えられ、基板上に塗布された塗布液を均一に
拡げることができるのであるが、小空間内には塗布液の
溶剤蒸気が溜まってしまい、このため膜厚は均一である
が虹様の反射を生じる塗布ムラが発生する。
カップ式塗布装置を用いた場合には、インナーカップと
蓋体との間に形成される小空間に基板を収納した状態で
インナーカップを回転せしめるので、乱流の発生と圧力
の変動が抑えられ、基板上に塗布された塗布液を均一に
拡げることができるのであるが、小空間内には塗布液の
溶剤蒸気が溜まってしまい、このため膜厚は均一である
が虹様の反射を生じる塗布ムラが発生する。
【０００４】上記課題を解決すべく本発明に係る回転カ
ップ式塗布方法は、アウターカップ内側に配置されるイ
ンナーカップ内に基板をセットし、この基板表面に塗布
液を滴下した後、インナーカップ上面を蓋体で閉塞し、
この状態でインナーカップを回転せしめ遠心力にて基板
表面に滴下した塗布液を均一に拡散せしめるようにした
回転カップ式塗布方法において、前記インナーカップと
前記蓋体とで形成される小空間内に供給口を介して希釈
ガスを供給し、この後、この供給口を介して小空間内の
ガスを排出することにより、この小空間の溶媒濃度を希
釈しつつ前記塗布液を均一に拡散せしめるようにした。
ップ式塗布方法は、アウターカップ内側に配置されるイ
ンナーカップ内に基板をセットし、この基板表面に塗布
液を滴下した後、インナーカップ上面を蓋体で閉塞し、
この状態でインナーカップを回転せしめ遠心力にて基板
表面に滴下した塗布液を均一に拡散せしめるようにした
回転カップ式塗布方法において、前記インナーカップと
前記蓋体とで形成される小空間内に供給口を介して希釈
ガスを供給し、この後、この供給口を介して小空間内の
ガスを排出することにより、この小空間の溶媒濃度を希
釈しつつ前記塗布液を均一に拡散せしめるようにした。
【０００５】また本発明に係る回転カップ式塗布装置
は、アウターカップ内側にスピンナーによって回転せし
められるインナーカップを配置し、このインナーカップ
の上面をインナーカッブと一体的に回転する蓋体で閉塞
するようにした回転カップ式塗布装置の前記蓋体を上半
体と下半体とを結合して構成し、下半体はガス透過体で
構成するとともに上半体と下半体との間には蓋体の略全
域に広がる隙間を形成し、この隙間に排気口としても機
能する希釈ガスの供給口を開口せしめた。
は、アウターカップ内側にスピンナーによって回転せし
められるインナーカップを配置し、このインナーカップ
の上面をインナーカッブと一体的に回転する蓋体で閉塞
するようにした回転カップ式塗布装置の前記蓋体を上半
体と下半体とを結合して構成し、下半体はガス透過体で
構成するとともに上半体と下半体との間には蓋体の略全
域に広がる隙間を形成し、この隙間に排気口としても機
能する希釈ガスの供給口を開口せしめた。
【０００６】
【作用】回転塗布中に、蓋体を構成する上半体と下半体
との間の隙間に供給された窒素ガス等の希釈ガスは、下
半体を透過してインナーカップ上面と蓋体下面との間の
小空間に供給され、小空間内の溶剤雰囲気を希釈する。
一方、開口を排気口とした場合にも小空間内の溶剤雰囲
気は希釈される。
との間の隙間に供給された窒素ガス等の希釈ガスは、下
半体を透過してインナーカップ上面と蓋体下面との間の
小空間に供給され、小空間内の溶剤雰囲気を希釈する。
一方、開口を排気口とした場合にも小空間内の溶剤雰囲
気は希釈される。
【０００７】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図１は本発明に係る回転カップ式塗
布装置の蓋体を開けた状態の断面図、図２は同回転カッ
プ式塗布装置の蓋体を閉じた状態の断面図である。
説明する。ここで、図１は本発明に係る回転カップ式塗
布装置の蓋体を開けた状態の断面図、図２は同回転カッ
プ式塗布装置の蓋体を閉じた状態の断面図である。
【０００８】回転カップ式塗布装置はベース等に固定さ
れたアウターカップ１の内側にインナーカップ２を配置
し、このインナーカップ２の中央にスピンナーの回転軸
３を貫通せしめ、インナーカップ２を回転せしめるよう
にしている。尚、スピンナーの回転軸３の上部はガラス
基板や半導体ウェーハ等の基板Ｗを固定する吸引チャッ
ク３ａとなっている。
れたアウターカップ１の内側にインナーカップ２を配置
し、このインナーカップ２の中央にスピンナーの回転軸
３を貫通せしめ、インナーカップ２を回転せしめるよう
にしている。尚、スピンナーの回転軸３の上部はガラス
基板や半導体ウェーハ等の基板Ｗを固定する吸引チャッ
ク３ａとなっている。
【０００９】また、アウターカップ１には環状のドレイ
ン回収通路４が形成され、インナーカップ２の外壁には
ドレイン回収通路４に開口するドレイン孔５が穿設され
ている。
ン回収通路４が形成され、インナーカップ２の外壁には
ドレイン回収通路４に開口するドレイン孔５が穿設され
ている。
【００１０】一方、アウターカップ１及びインナーカッ
プ２の上方にはアウターカップ１用蓋体６及びインナー
カップ２用蓋体７を配置している。アウターカップ１用
蓋体６は直線動、回転動、上下動或いはこれらを合成し
た動きが可能なアームに支持ブロック８を介して取り付
けられ、この支持ブロック８には上下方向の貫通孔９が
形成され、この貫通孔９内に中空軸１０が挿通され、こ
の中空軸１０の下端にインナーカップ２用蓋体７が取り
付けられている。
プ２の上方にはアウターカップ１用蓋体６及びインナー
カップ２用蓋体７を配置している。アウターカップ１用
蓋体６は直線動、回転動、上下動或いはこれらを合成し
た動きが可能なアームに支持ブロック８を介して取り付
けられ、この支持ブロック８には上下方向の貫通孔９が
形成され、この貫通孔９内に中空軸１０が挿通され、こ
の中空軸１０の下端にインナーカップ２用蓋体７が取り
付けられている。
【００１１】また、中空軸１０の中間部は大径部とさ
れ、この大径部に雄テーパ部１１が形成され、また前記
アウターカップ１用蓋体６の中央部に雄テーパ部１１に
対応する雌テーパ部１２が設けられている。
れ、この大径部に雄テーパ部１１が形成され、また前記
アウターカップ１用蓋体６の中央部に雄テーパ部１１に
対応する雌テーパ部１２が設けられている。
【００１２】而して、雄テーパ部１１が雌テーパ部１２
に当接することで、インナーカップ２用蓋体７の落下が
阻止され、またインナーカップ２用蓋体７が下方から突
き上げられた場合には、インナーカップ２用蓋体７のみ
が上昇する落とし蓋構造になっている。
に当接することで、インナーカップ２用蓋体７の落下が
阻止され、またインナーカップ２用蓋体７が下方から突
き上げられた場合には、インナーカップ２用蓋体７のみ
が上昇する落とし蓋構造になっている。
【００１３】インナーカップ２用蓋体７は、上半体７ａ
と下半体７ｂとを結合して構成され、下半体はガス透過
体で構成されるとともに上半体７ａと下半体７ｂとの間
には蓋体７の略全域に広がる隙間１３が形成され、この
隙間１３に前記中空軸１０内につながる希釈ガスの供給
口または排気口１４が開口している。
と下半体７ｂとを結合して構成され、下半体はガス透過
体で構成されるとともに上半体７ａと下半体７ｂとの間
には蓋体７の略全域に広がる隙間１３が形成され、この
隙間１３に前記中空軸１０内につながる希釈ガスの供給
口または排気口１４が開口している。
【００１４】以上において、基板Ｗ表面に塗布液を均一
に塗布するには、アウターカップ１及びインナーカップ
２の上面を開放して吸引チャック３ａ上に基板Ｗを固着
し、この基板Ｗの表面に塗布液を滴下し、次いで蓋体６
によりアウターカップ１の上面を閉塞し、蓋体７により
インナーカップ２の上面開口を閉塞する。
に塗布するには、アウターカップ１及びインナーカップ
２の上面を開放して吸引チャック３ａ上に基板Ｗを固着
し、この基板Ｗの表面に塗布液を滴下し、次いで蓋体６
によりアウターカップ１の上面を閉塞し、蓋体７により
インナーカップ２の上面開口を閉塞する。
【００１５】この後、スピンナーによって吸引チャック
３ａとインナーカップ２とを一体的に回転せしめ、遠心
力により塗布液を基板Ｗの表面に均一に拡散塗布する。
このとき、中空軸１０内部及び希釈ガスの供給口１４を
介して蓋体７を構成する上半体７ａと下半体７ｂとの間
の隙間１３に窒素ガス等の希釈ガスを供給する。
３ａとインナーカップ２とを一体的に回転せしめ、遠心
力により塗布液を基板Ｗの表面に均一に拡散塗布する。
このとき、中空軸１０内部及び希釈ガスの供給口１４を
介して蓋体７を構成する上半体７ａと下半体７ｂとの間
の隙間１３に窒素ガス等の希釈ガスを供給する。
【００１６】一方、インナーカップ２上面と下半体７ｂ
下面とで画成される小空間Ｓ内は遠心力によって減圧さ
れているので、隙間１３に供給された窒素ガス等の希釈
ガスは下半体７ｂを透過して、小空間Ｓ内に供給され、
小空間Ｓ内の溶媒濃度を希釈する。また、希釈ガスの供
給口１４を排気口とし、この口を通して排気すれば、小
空間Ｓ内はさらに減圧され溶媒濃度は希釈される。
下面とで画成される小空間Ｓ内は遠心力によって減圧さ
れているので、隙間１３に供給された窒素ガス等の希釈
ガスは下半体７ｂを透過して、小空間Ｓ内に供給され、
小空間Ｓ内の溶媒濃度を希釈する。また、希釈ガスの供
給口１４を排気口とし、この口を通して排気すれば、小
空間Ｓ内はさらに減圧され溶媒濃度は希釈される。
【００１７】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
回転カップ式塗布装置を用いて基板表面に塗布液を塗布
する際に、インナーカップ上面と蓋体下面との間の小空
間に窒素ガス等を供給し、または、排気し、小空間内の
溶剤雰囲気を希釈しつつ塗布を行うようにしたので、溶
剤ムラを抑制することができる。
回転カップ式塗布装置を用いて基板表面に塗布液を塗布
する際に、インナーカップ上面と蓋体下面との間の小空
間に窒素ガス等を供給し、または、排気し、小空間内の
溶剤雰囲気を希釈しつつ塗布を行うようにしたので、溶
剤ムラを抑制することができる。
【図１】本発明に係る回転カップ式塗布装置の蓋体を開
けた状態の断面図
けた状態の断面図
【図２】同回転カップ式塗布装置の蓋体を閉じた状態の
断面図
断面図
１…アウターカップ、２…インナーカップ、３…スピン
ナーの回転軸、６…アウターカップ用蓋体、７…インナ
ーカップ用蓋体、７ａ…インナーカップ用蓋体の上半
体、７ｂ…インナーカップ用蓋体の下半体、１０…中空
軸、１３…隙間、１４…希釈ガスの供給口。
ナーの回転軸、６…アウターカップ用蓋体、７…インナ
ーカップ用蓋体、７ａ…インナーカップ用蓋体の上半
体、７ｂ…インナーカップ用蓋体の下半体、１０…中空
軸、１３…隙間、１４…希釈ガスの供給口。
フロントページの続き (72)発明者 宮本 英典 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東京応化工業株式会社内 (56)参考文献 特開 平６−170315（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−27667（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−361524（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−361524（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−333857（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−293055（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−291127（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B05C 11/08 B05D 1/40 G03F 7/16 502 H01L 21/027
Claims (2)
- 【請求項１】 アウターカップ内側に配置されるインナ
ーカップ内に基板をセットし、この基板表面に塗布液を
滴下した後、インナーカップ上面を蓋体で閉塞し、この
状態でインナーカップを回転せしめ遠心力にて基板表面
に滴下した塗布液を均一に拡散せしめるようにした回転
カップ式塗布方法において、この塗布方法はインナーカ
ップと蓋体とで形成される小空間内に供給口を介して希
釈ガスを供給した後、この供給口を介して小空間内のガ
スを排出することにより、この小空間内の溶媒濃度を希
釈しつつ行うようにしたことを特徴とする回転カップ式
塗布方法。 - 【請求項２】 アウターカップ内側にスピンナーによっ
て回転せしめられるインナーカップを配置し、このイン
ナーカップの上面をインナーカッブと一体的に回転する
蓋体で閉塞するようにした回転カップ式塗布装置におい
て、前記蓋体は上半体と下半体とを結合して構成され、
下半体はガス透過体で構成されるとともに上半体と下半
体との間には蓋体の略全域に広がる隙間が形成され、こ
の隙間に排気口としても機能する希釈ガスの供給口を開
口せしめたことを特徴とする回転カップ式塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01451795A JP3231970B2 (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | 回転カップ式塗布方法及び塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01451795A JP3231970B2 (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | 回転カップ式塗布方法及び塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08196972A JPH08196972A (ja) | 1996-08-06 |
| JP3231970B2 true JP3231970B2 (ja) | 2001-11-26 |
Family
ID=11863293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01451795A Expired - Fee Related JP3231970B2 (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | 回転カップ式塗布方法及び塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3231970B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6396209B1 (en) | 1998-12-16 | 2002-05-28 | International Manufacturing And Engineering Services Co., Ltd. | Organic electroluminescent device |
| US6423429B2 (en) | 1998-03-02 | 2002-07-23 | Junji Kido | Organic electroluminescent devices |
| US6589673B1 (en) | 1999-09-29 | 2003-07-08 | Junji Kido | Organic electroluminescent device, group of organic electroluminescent devices |
| US7326473B2 (en) | 1998-02-17 | 2008-02-05 | Junji Kido | Organic electroluminescent devices |
| US7659659B2 (en) | 2003-06-04 | 2010-02-09 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Organic electroluminescent device and display using same |
| US7740908B2 (en) | 2005-02-28 | 2010-06-22 | Fujifilm Corporation | Method for forming a film by spin coating |
| US8080279B2 (en) | 2006-12-04 | 2011-12-20 | Sqi Diagnostics Systems Inc. | Method for double-dip substrate spin optimization of coated micro array supports |
-
1995
- 1995-01-31 JP JP01451795A patent/JP3231970B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7326473B2 (en) | 1998-02-17 | 2008-02-05 | Junji Kido | Organic electroluminescent devices |
| US6423429B2 (en) | 1998-03-02 | 2002-07-23 | Junji Kido | Organic electroluminescent devices |
| US6396209B1 (en) | 1998-12-16 | 2002-05-28 | International Manufacturing And Engineering Services Co., Ltd. | Organic electroluminescent device |
| US6589673B1 (en) | 1999-09-29 | 2003-07-08 | Junji Kido | Organic electroluminescent device, group of organic electroluminescent devices |
| US7659659B2 (en) | 2003-06-04 | 2010-02-09 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Organic electroluminescent device and display using same |
| US7740908B2 (en) | 2005-02-28 | 2010-06-22 | Fujifilm Corporation | Method for forming a film by spin coating |
| US8080279B2 (en) | 2006-12-04 | 2011-12-20 | Sqi Diagnostics Systems Inc. | Method for double-dip substrate spin optimization of coated micro array supports |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08196972A (ja) | 1996-08-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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