JPS63241799A - 半導体メモリへのデータの並列書込み回路装置 - Google Patents

半導体メモリへのデータの並列書込み回路装置

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JPS63241799A
JPS63241799A JP63059192A JP5919288A JPS63241799A JP S63241799 A JPS63241799 A JP S63241799A JP 63059192 A JP63059192 A JP 63059192A JP 5919288 A JP5919288 A JP 5919288A JP S63241799 A JPS63241799 A JP S63241799A
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    • G11C29/18Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
    • G11C29/30Accessing single arrays
    • G11C29/34Accessing multiple bits simultaneously

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体メモリの多数のメモリセルから成るブ
ロックに検査パターンの形態でデータを書込むための方
法と、この方法を実施するための回路装置とに関する。
(従来の技術] 半導体メモリ、特にRAM形式(DRAM、SRAM)
の集積された半導体メモリは現在大きなメモリ容量を有
する(たとえばIMBXI)、これまで実現可能なメモ
リ容量は3ないし4年毎に4倍になっている。このよう
な半導体メモリの検査の際に周知のように検査に要する
時間は、半導体メモリに与えるべき検査パターンに関係
して、メモリの大きさが係数Nだけ増大すると少なくと
も係数2Nだけ増大する。
検査時間を節減するため、ヨーロッパ特許第40186
040号明細書には、1つの半導体メモリを内部で多数
の同一のブロックに分割し、これらを検査作動中に並列
に作動させ、また1つの評価回路を介しであるいは生ず
るエラーのほとんど大部分を検出することが提案されて
いる。実際に、1つの半導体メモリをこの意味で4つま
たは8つの同一のブロックに分割することは、そのため
に必要な配線追加費用および回路追加費用をほとんど高
めることなしに可能である。しかし、もっと多数のブロ
ックに分割することは、高められた回路および配線追加
費用を必要とし、このことは集積半導体メモリでは特に
占有場所の点で不利である(チップ面積)。
米国特許第A4.055,754号明細書から、続出す
べきワード線のすべてのメモリセルが同一の情報を含ん
でいるかぎり、単一のワード線へのすべてのメモリセル
の列並列な読出しを許す検査回路が公知である。しかし
、メモリセルへの情報の書込みは従来の仕方で行われる
(発明が解決しようとする課題〕 本発明の課題は、半導体メモリのメモリセルの書込みを
公知の半導体メモリにくらべてできるかぎりわずかな回
路および場所追加費用でできるかぎり短い時間で可能に
する方法を見出すことである。さらに、この方法の実施
を可能にする回路装置を提供することも本発明の課題で
ある。
〔課題を解決するための手段〕
この課題は、本発明によれば、請求項1の特徴部分およ
び請求項6の特徴部分に記載の手段により解決される。
〔実施例〕
以下、図面により本発明を一層詳細に説明する。
第1図には半導体メモリの1つのブロックBが示されて
おり、このブロックは2)L+N個の通常のメモリセル
SZを含んでいる。半導体メモリとしてのDRAMが使
用される場合には、これらのメモリセルは一般にいわゆ
るlトランジスターメモリセルである。メモリセルSZ
は、一般に通常のように、行および列から成るマトリッ
クスの形態に配置されている。列ごとのアドレス指定は
ワード線WL+を介して、また行ごとのアドレス指定は
ビット線Bj、Bjを介して行われる。メモリセルSZ
から読出された情報は内部評価回路のなかで評価されか
つ予め増幅される。メモリセルSZの各行に対して内部
評価回路BWSintが設けられている。
ビット線の導き方には原理的に2種類のコンセプトが知
られている。一方は歴史的に古いほうの、いわゆるオー
ブン−ビット線コンセプトであり、他方はいわゆるフォ
ールデッド−ピット線コンセプトである0両ビット線コ
ンセプトは米国特許第4.044,340号明細書に説
明かつ図示されている。
本発明は両ビット線コンセプトに応用可能である。
しかし、図示をより簿単にするため、フォールデッド−
ビット線コンセプトによってのみ本発明を説明する。
一般に各ビット線に1つの内部評価回路BWSintが
対応付けられている。このことは、フォールデッド−ビ
ット線コンセプトでは各内部評価回路BWS i n 
tに2つの平行に並び合うて延びているビット線半部B
j、Bjが全体として1つの単一のビット線として接続
されていることを意味する。この配置にオープン−ビッ
ト線コンセプトにおけるそれぞれ1つの左ビット線半部
および1つの右ビット線半部およびこれらの間に配置さ
れた1つの評価回路が相当する。以下では両ビット線半
部は全体として“内部ビット線Bj、Bj”と呼ばれる
有利な回路装置はさらに、第1の集合ビット線半部(X
B)および第2の集合ビット線半部(又百)を有する外
部集合ビット線が接続されている外部評価回路BWS 
e x tを有する。外部集合ビット線XB、XBはそ
れぞれトランスファトランジスタTTjを介して各内部
ビット線Bj、Bjおよび付属の内部評価回路BWS 
i n tと接続されている。外部評価回路13Ws 
e x tは半導体メモリからのデータの読出しの場合
には、半導体メモリから読出され内部評価回路BWS 
i n tの1つにより評価されかつ予め増幅されたデ
ータを増幅し、またこのデータDOをたとえば(図示さ
れていない)データ出力バッフプ回路へ伝達する役割を
する。
しかし、外部評価回路BWSextは半導体メモリへの
データDIの書込みの場合には、書込むべきデータDI
を外部評価回路BWSextと接続されているデータ入
力回路DINから受けて、外部集合ビット線XB、XB
へ伝達する役割をもし、そこから相応に能動化された内
部ビット線Bj、Bjを介してアドレス指定されたメモ
リセルSZへの書込みが行われる。
通常のように、ワード線WLiはワード線デコーダWL
DECにより、また内部ビット線Bj。
Bjはビット線デコーダBLDECおよび前記のトラン
スファトランジスタ対TTjにより能動化可能、すなわ
ち選択可能である。さらにデータ入力回路DINが、書
込むべきデータDIの可能な信号値に相応する2つの互
いに相補性の論理レベルD、Dに対応付けられている値
を有する2つの電位POT1、POT2と接続されてい
ることは有利である。一般に電位POT1、POT2の
値はデータDIの可能な信号値に等しく、また半導体メ
モリ自体の供給電圧vccSvssに等しい。
しかし、このことは本発明の実施に不可欠ではない。両
電位POT1、POT2とデータ入力回路DINとの接
続はそれぞれスイッチングトランジスタSTを介して行
われる。
さらに本発明による回路装置は制御回路SSを有する。
この制御回路SSは入力側で制御信号P1ないしPkと
接続されている。回路装置の実際の作動中、制御信号P
1ないしPkは、並列書込みが行われるべきか否か、ま
たどの検査パターンを並列書込みの際に使用すべきかに
関する情報を含んでいる。制御回路SSの第1の出力信
号T1はスイッチングトランジスタSTをそのゲートに
より駆動する。第1の出力信号T1によるスイッチング
トランジスタSTの導通は、駆動されたブロックBのメ
モリセルSZが互いに並列に書込まれるべきときにのみ
行われる。
第2の出力信号T2はデータ入力回路DINと接続され
ている。第2の出力信号T2は並列書込みの場合にデー
タ入力回路DINのなかで、スイッチングトランジスタ
STを介して与えられた電位POT1、POT2のどち
らを論理レベルDとして外部評価回路BWSextを介
して外部集合ビット線XB、XBの第1の半部XBに与
えるべきか、またスイッチングトランジスタSTを介し
て与えられた電位POT1、POT2のどちらを論理レ
ベルDとして外部評価回路BWSextを介して外部集
合ビット線XB、¥Bの第2の半部XBに与えるべきか
を制御する。論理レベルDおよび凸の値はメモリ内に書
込むべき検査パターンおよびメモリセルSZの目下のア
ドレス指定により決定されている。
切換装置USは付属のトランスファトランジスタ対TT
jを介しての多数または全部の内部ビット線Bj、Bj
の同時駆動を可能にする。切換袋WUSは本発明により
たとえばビット線デコーダBLDECの出力端ごとに、
すなわち内部ビット線Bj、Bjごとに別のトランスフ
ァトランジスタWTTJの1つの対を含んでいる。この
ような対WTTjの一方のトランスファトランジスタは
たとえばnチャネルトランジスタとして構成されている
。このトランスファトランジスタはソースおよびドレイ
ンでビット線デコーダBLDECの対応付けられている
デコーダ出力端とそのつどのビット線B」、口に対応付
けられているトランスファトランジスタ対TTjのゲー
トとの間に接続されている。このような対WTTjの他
方の別のトランスファトランジスタは相応にたとえばρ
チャネルトランジスタとして構成されている。このトラ
ンスファトランジスタはソースで半導体メモリの供給電
位vCCと、またドレインで相応のトランスファトラン
ジスタ対TTjのゲートと接続されている。前記別のト
ランスファトランジスタ対WTTJの両トランジスタは
それらのゲートで制御回路SSの第3の出力信号T3と
接続されている。第1図中に示されている切換装置US
の第1の実施例では、すべての前記別のトランスファト
ランジスタ対WTTjのゲートは制御回路SSの単一の
出力信号T3と接続されている。正常作動中は第3の出
力信号T3が能動化されており、従ってすべての前記別
のトランスファトランジスタ対WTTJのnチャネルト
ランジスタは導通させられている。すなわち、トランス
ファトランジスタ対TTjのゲートは、ビット線デコー
ダBLDECの出力を存する信号により駆動される。
検査作動中、少なくとも1つのワード線WLiにおける
多数のメモリセルSzにデータを並列に書込むため第3
の出力信号T3が非能動化され、従って前記別のトラン
スファトランジスタ対WTTjのすべてのnチャネルト
ランジスタが遮断状態となる。しかし相応のpチャネル
トランジスタは導通ずる。すべてのトランスファトラン
ジスタTTjのゲートは電位■CCを受ける。すなわち
すべてのトランスファトランジスタTTjは導通する。
こうして、1つの能動化されたワード線WLiと接続さ
れているすべてのメモリセルSZのなかに、外部集合ビ
ット線XB、XBを介して与えられているデータD、D
が書込まれ得る。それによって“すべて0′°、“すべ
て1”、“半部0および半部1″のような簡単な検査パ
ターンが半導体メモリのブロックBのなかに非常に迅速
にかつ著しい面積追加費用なしに書込まれ得る。
切換装置USの別の有利な実施例(第3図参照)では、
前記別のトランスファトランジスタ対WTTjのゲート
は全部が制御回路SSの第3の出力信号T3と接続され
ていない、その代わりに制御回路SSは多数の、すなわ
ち少な(とも2つの互いに無関係な第3の出力信号を有
する(図示されている例では3つの信号T3’、T3’
、T3”)。さらに前記別のトランスファトランジスタ
対WTTJのゲートは多数の、すなわち少なくとも2つ
の互いに無関係な群にまとめられており(第3図では3
つの群)、その際に各群は第3の出力信号(第3図では
T3’、T3”、T3”)の1つと接続されている。そ
れによって、たとえばチェッカーボードのような複雑な
検査パターンも現在のワード線WL+のメモリセルのな
かに書込まれ得る。
これに関しては本件特許出願人の同日付堤出特許願(D
)および(6)の明細書を参照されたい。そこに提寓さ
れているビット線デコーダは本発明のビット線デコーダ
BLDECおよび切換装置USと有利に置換することが
でき、また簡単な仕方で種々のビットパターンをワード
線WLのメモリセルSZのなかに書込むことを可能にす
る。
本発明による回路装置により本発明方法を以下簡単に説
明する。
半導体メモリの1つのブロックBのなかに検査目的で1
つの検査パターン、たとえば“すべてO”が書込まれる
べきであれば、本発明による方法は下記のように行われ
る。
最初にすべての内部評価回路13Wsintが非能動状
態に切換えられる。これは、交叉結合されたトランジス
タから成る現在通常使用されている内部評価回路BWS
int(第2図参照)では、各内部評価回路BWSin
tの共通の脚点FPが先ず高電位に保たれることにより
行われる(たとえばCMO3またはnチャネルテクノロ
ジーの場合には正論理)、続いて、一般に通常のように
、すべての内部ビット線Bj、Bjが、使用される読出
し原理により定められている予充電電位に予め充電され
る。供給電位vSSまたはvCCに予め充電するのが以
前は通常であったが、現在はまスマス、平均供給電圧(
VSS+VCC)/2に予め充電されるいわゆるミッド
ーレベルーコンセプトが使用される。第1図中でたとえ
ばミッドーレベルーコンセプトに従って行われるべき予
充電は予充電パルスPCにより予充電トランジスタTP
を介して行われる。これ以上詳細な説明は、予充電が従
来の技術に従って行われるで、省略する。
遅くとも予充電の終了後に、後で一層詳細に説明する制
御回路SSに制御信号P1ないしPkが与えられる。こ
れらは制御回路SSにより、1つのワード線WL+の多
数のメモリセルSZへのデータの並列書込みが同時に望
まれているか否か、また、もし望まれているならば、ど
の検査パターンを使用すべきかを決定する。いまの場合
には、スイッチングトランジスタSTを導通させて電位
POTIおよびPOT2をデータ入力回路DINに与え
る第1の出力信号T1が能動化される。制御回路SSの
第2の出力信号T2はデータ入力回路DIHに与えられ
る。データ入力回路DINは電位POTIおよびPOT
2により外部評価回路BWS e x tを介して外部
集合ビット線XB、又Bの第1の半部XBに特定の論理
レベルDを、また外部集合ビット線XB、XBの第2の
半部71にこの特定の論理レベルDに対して相補性の論
理レベルbを与える。どの論理状u(Oまたは1)が論
理レベルDとして外部集合ビット線XB、又Bの第1の
半部XBに与えられるか、またどの論理レベル百が相応
に第2の半部r1に与えられるかは、第2の出力信号T
2の状態が決定する。これは制御回路SSを介して制御
信号P1ないしPkにより決定される。なぜならば、制
御信号P1ないしPkを介して、どの検査ビットパター
ンを半導体メモリに書込むべきかが定められているから
である。半導体メモリは検査パターンの関係のためにワ
ード線デコーダW、L D E Cを介してのワード線
WLiの能動化に関係している。
いまの例では外部集合ビット線XB、T′r3の第1の
半部XBに論理“1”が与えられる。それに続いて外部
集合ビット線XB、XBの第2の半部XBに論理“O″
が与えられる。続いて、少なくとも2つの内部評価回路
BWSinLおよび最大すべての内部評価回路BWSi
ntに対する切換装ffUsの別のトランスファトラン
ジスタWTTjにより制御されて、これらの内部評価回
路に対応付けられているトランスファトランジスタ対T
Tjが導通状態に切換えられる。それにより、外部集合
ビット線XB、XBに与えられている書込むべきデータ
D、Dが論理レベルの形態で、導通状態に切換えられト
ランスファトランジスタ対TTjと接続されている内部
ビット線Bj、Bjおよび(非能動状態に切換えられた
)内部評価回路BWSintに到達する。いま1つのワ
ード線WLiが能動化される。それにより、一方では能
動化されたワード線WLiと接続されており、他方では
付属のトランスファトランジスタ対TTjが導通状態に
切換えられている内部ビット線Bj、Bjと接続されて
いるすべてのメモリセルSzへのデータD、Dの書込み
が行われる。その後にワード線WLiは再び非能動化さ
れる。
外部集合ビット線XB、XB上に存在するデータD、D
が、既に能動化されたワード線WLiとは別のワード線
と接続されているメモリセルsZに書込まれるべきであ
れば、これらの別のワード線WLiが次々と能動化され
また再び非能動化され、それにより書込みが行われる。
半導体メモリのブロックBが2つ以上のワードt!WL
Iを同時に能動化するワード線デコード装置を存するな
らば(第4図参照)、ワード線デコーダWLDECがそ
れを可能にするかぎり、当該のワード線WLiが同時に
能動化かつ非能動化されることによって、外部集合ビッ
ト線XB、XBの両半部が有するデータと等しいデータ
を書込むべきであるが種々のワード線WLIに配置され
ているメモリセルが同時に書込まれる。
理想的な前提条件〔すべてのワード線WLIがたとえば
切換装置USと類似の装置により同時に能動化可能であ
る。対応付けられているビット線Bj、Bjの第1の半
部と接続されているすべてのメモリセルSzに論理″1
″ (論理“0″)が書込まれるものとする。対応付け
られているビット線Bj、Bjの第2の半部と接続され
ているすべてのメモリセルSZにそれに対して相補性の
論理“0″ (論理″1″)が書込まれるものとする。
すべてのトランスファトランジスタ対TTJが同時に導
通状態に切換可能である。〕のもとに、半導体メモリの
ブロックBのすべてのメモリセルSZに同時に書込むた
めには単一サイクルで十分である。しかし、そのために
は大きい電流が必要であり、このことは実際にこの書込
みサイクルが従来の書込みサイクルにくらべて長くなる
ことに通ずる。それにより必要なエネルギー供給がより
長い時間に非臨界的に配分される。
しかし、使用されている検査パターン(すべて′1”)
から意識的に非常に簡単に保たれているいまの例では、
それぞれの内部ビット線の第2の半部口と接続されてい
るメモリセルSZは必ずしも書込まれる必要はない、な
ぜならば、この第2の半部は論理“0″の状態を有する
からである。
いまの場合には、それぞれの内部ビット線の第1の半部
Bjと接続されているメモリセルSZは同時にまたは次
々と書込まれるが、1つのワード線WL+における多数
またはすべてのメモリセルSZは常に同時に書込まれる
この場合、内部ビット線Bj、Bjの充電状態が切換え
られなければならない、すなわち内部ビット線はそのそ
れまでの論理状態(Bj:D−1:Bj:D=O)に対
して相補性の論理状!!(Bj:D−0:口:D−1)
に到達しなければならない、そのために先ずすべての内
部ビット線Bj。
旧が予充電トランジスタTPを介して、前記のように、
それらの予充電レベルに予め充電される。
いま外部集合ビット線の第1の半部XBがそのそれまで
の論理レベル(論理゛″1”)に対して相補性の論理レ
ベル“0”に充電され、また相応に外部集合ビット線の
第2の半部XBがそのそれまでの論理レベル(論理“O
”)に対して相補性の論理レベル″1″に充電される。
これはデータ入力回路DINを介して、いまそのそれま
での状態に対して相補性の論理状態を有する制御回路S
Sの第2の出力信号T2と結び付いて行われる。
この時点から、なお書込むべき残りのメモリセルSzに
対して前記と類似の方法で書込みが行われる。先ず少な
くとも2つないし最大すべての内部評価回路BWSin
tに対して、これらの内部評価回路BWSintに付属
のトランスファトランジスタ対TTjが導通状態に切換
えられ、従っ′ て外部集合ビット線XB、XBの論理
レベルD、心が導通状態に切換えられたトランスファト
ランジスタ対TTjを介して内部ビット線Bj、Bjに
到達する。続いて、接続されているメモリセルSZがま
だ書込まれていない(または所望のデータを書込まれて
いない)ワード線WLiが個々にもしくは群として次々
とまたはすべてが同時に駆動され、従って内部ビット線
Bj、Bjおよびワード線WLtを介して駆動されるメ
モリセルSZが書込まれる。
こうして、たとえば1つのワード線WLiにおけるそれ
ぞれすべてのメモリセルszが同時に簡単な規則的に構
成された検査パターンを書込まれることによって、全体
として非常に迅速にかつ大きな回路および場所費用なし
に半導体メモリのすべてのメモリセルが検査時に書込ま
れ得る。たとえば1024ワードX1024列を有する
IMB −DRAMのような半導体メモリモジュールと
しての最近のDRAMでは、先に例としてあげた検査ハ
ターン“すべて1′”を書込むために、各ワード1JI
WLiが個々に駆動され、しかしワード線WLlあたり
それに接続されているそれぞれすべてのメモリセルSZ
が書込まれるならば、1024X1024−10485
76書込みサイクルの代わりに1024書込みサイクル
しか必要とされない。
本発明の有利な実施例では、少なくとも、付属のトラン
スファトランジスタ対TTjが導通状態に切換えられる
内部評価回路BWS l n tは、トランスファトラ
ンジスタ対が導通状態に切換えられた後に能動状態に切
換えられ、従ってそれらは、それらに対応付けられてい
る内部ビット線Bj1Bj上の論理信号り、Dに間する
(続出し作動中にいずれにせよ通常の)増幅機能を満た
し得る。
それにより相応の内部ビット線Bj、Bj上への外部集
合ビット線XB、XBの論理レベルDS5の授受が加速
される。しかしながら、この実施例では、外部集合ビッ
ト線XB、XB上の論理レベルD、5の転換前に、内部
ビット線Bj、Bjの予充電が続いて行われ得るように
、内部評価回路BWSintが先ず非能動化されなけれ
ばならない。
さらに、半導体メモリSZが個々の互いに同一のブロッ
クBに分割されている半導体メモリにおいて本方法がた
とえばヨーロッパ特許第AO1B6040号の意味でブ
ロックBごとに行われ、その際に本方法がすべてのブロ
ックBに対して時間的に並列にヨーロッパ特許第AO1
86040号の意味で行われることは有利である。それ
によって、たとえば、1つのブロックBのなかで、1つ
のワード線WLIに配置されているすべてのメモリセル
SZにデータを書込むこと、また同時に他のブロックB
の各々のなかで、それらのブロックBのなかのアドレス
指定が最初にあげたブロックBのなかのアドレス指定に
一致するワード線WLiのすべてのメモリセルSZに同
じく書込むことが可能である。
本方法を実施するための有利な装置は先に記載された0
本発明の実施例として、制御回路SSが制御信号P1な
いしPkを評価するデコーダ部DECを含んでいること
は有利である。デコーダ部DECは一方では、1つのワ
ード線WLiのメモリセルSZへの並列書込みが望まれ
ているか否かを検知する。他方では、デコーダ部DEC
は、種々の可能な検査パラメータのどれが望まれている
かを検知する。
制2’B信号P1ないしPkは、別々の端子を介して半
導体メモリに与えられる信号であってよい。
しかし、それらは、半導体メモリにいずれにせよ既に存
在している端子、たとえばアドレス指定端子を介して導
かれる信号であってもよい、この場合には、デコーダ部
DECが、“正常”アドレス信号が半導体メモリに外部
で与えられているか否か、また制御信号P1ないしPk
が本発明の意味で与えられているか否かを検知し得るよ
うに設計されていることが必要である。この問題を解決
するために当業者は多くの方法を用い得る。一方ではデ
コーダ部DECは、外部で半導体メモリに与えられてい
る信号を、そのうちの(少なくとも)1つが半導体メモ
リ内でさもなければ通常の論理レベルにくらべて明らか
に高い信号レベルを存するならば、制御信号P1ないし
Pkとして検知するように設計されていてよい、これは
たとえば電圧弁別回路により検出され得る(ヨーロッパ
特許第[10046215号明細書参照)、シかし、半
導体メモリに先ず、デコーダ部DECを介して半導体メ
モリを検査作動に切換える特殊な信号組み合わせおよび
信号列を与え、検査作動の間にデータの前記の並列書込
みが行われ得るようにすることも可能である。検査が行
われた後に半導体メモリに、半導体メモリ(従ってまた
制御回路SS)を再び正常作動に復帰させる別の特殊な
信号組み合わせおよび信号列が与えられる。半導体メモ
リの制御および特殊機能のレリーズのための相応の信号
組み合わせおよび信号列は当業者に既に知られている。
たとえば1986年9月9〜11日にミネアポリス/U
SAで開催された”JEDECMosMemory  
Meeting”で、このような信号組み合わせおよび
信号列に関する将来の規格が協議されている。
制御回路SSの中核がPLA回路を含んでいることは有
利である。これは主として、半導体メーカーにより用意
されている検査パターンに関する情報を含んでいる。P
LA回路は、制御信号P1ないしPkを評価するデコー
ダ部DECから作動モード“1つのブロックの多数のセ
ルへの並列書込み′の検知の際に、デコーダ部DECか
ら発生される内部制御信号により駆動される。PLA回
路はその回路構成および内部制御回路に関係して制御回
路SSの出力信号T1・・・を発生する。
PLA回路の代わりに制御回路S3はROM。
FROMなどの形式の不揮発性メモリ範囲を有していで
もよい、その機能はPLA回路の機能と相似である。
第4図に示されている本発明の有利な実施例では、ワー
ド線デコーダWLDECの前にワード線アドレス分離回
路WLTSが接続されている。この回路は入力側で一方
では制御回路SSの第4の出力信号T4と接続されてお
り、また他方では通常の仕方でワード線デコーダを介し
てワード線WLiのアドレス指定の役割をするアドレス
線AOないしAM、、AOないしAMと接続されている
正常作動中、アドレス線AOないしAM、AOないしA
Mはワード線デコーダWLDECに接続されており、従
ってワード線デコーダWLDECは外部で半導体メモリ
に与えられるアドレス信号により駆動可能である。少な
くとも1つのワード線WLiの多数のメモリセルSZへ
のデータの並列書込みの場合には、すなわち検査作動中
は、ワード線アドレス分離回路WLTSの第1の実施例
中の制御回路SSの第4の出力信号T4がワード線デコ
ーダWLDECを、ワード線WLlがデータの書込みの
ために個々に次々と能動化されるように駆動する。第2
の実施例では、ワード線WLiが群として次々と能動化
される。第3の実施例では、すべてのワードlWL+が
データの書込みのために同時に能動化される。その際に
生ずる高いエネルギー需要に基づいて、このような場合
には、一方では半導体メモリの電圧供給が相応に強力に
設計しなければならず、また他方では(単一の)書込み
サイクルが半導体メモリの高められたエネルギー需要に
基づいて通常よりも長く継続することを予期しなければ
ならない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による回路装置の回路図、第2図は従来
技術による内部評価回路の回路図、第3図は切換装置の
回路図、第4図は本発明による回路装置の別の実施例の
回路図である。 SZ・・・メモリセル B・・・メモリセルのブロック M・・・ワード線の数 N・・・ピント線の数 WLi・・・ワード線 Bj、Bj・・・ビット線半部 XB、、XB・・・第1および第2の集合ビット線半部
TTJ・・・トランスファトランジスタ対BWSint
・・・内部評価回路 BWS e x t・・・外部評価回路DO・・・評価
かつ予め増幅されたデータDI・・・書込みデータ DIN・・・データ入力回路 WLDEC・・・ワード線デコーダ BLDEC・・・ビット線デコーダ Pot1、Pot2・・・電位 り、 D・・・互いに相補性の論理レベルvCC1■S
S・・・供給および基準電位ST・・・スイッチングト
ランジスタ SS・・・制御回路 P1〜Pk・・・制御信号  ゛ T1〜T4・・・出力信号 US・・・切換装置 WTTj・・・別のトランスファトランジスタ対FP・
・・脚点 PC・・・予充電パルス TP・・・予充電トランジスタ DEC・・・デコーダ部 WLTS・・・ワード線アドレス分離回路AO〜AM%
AO−AM・・・アドレス線IG1 I03 tG4

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)半導体メモリの多数のメモリセルから成るブロック
    に検査パターンの形態でデータを書込むための方法であ
    って、 a)すべての内部評価器回路(BWSint)が非能動
    状態に切換えられ、 b)すべての内部ビット線(Bj、@Bj@)が予充電
    レベルに予充電され、 c)外部集合ビット線の第1の半部(XB)が第1の論
    理レベル(D)に充電され、ま た外部集合ビット線の第2の半部(@XB@)が第1の
    論理レベル(D)に対して相補性 の第2の論理レベル(@D@)に充電され、その際に論
    理レベル(D、@D@)の少なくとも一方は書込むべき
    データに相当しており、 d)少なくとも2つの内部評価器回路(BWSint)
    および最大すべての2つの内部 評価器回路(BWSint)に対して、内 部評価器回路(BWSint)にそれぞれ 付属のトランスファトランジスタ(TTj)が導通状態
    に切換えられ、それにより外部 集合ビット線(XB、@XB@)に存在する論理レベル
    (D、@D@)が、導通状態に切換えられたトランスフ
    ァトランジスタ(TTj)と接続されている内部ビット
    線(Bj、@Bj@)に到達し、 e)少なくとも1つのワード線(WLi)の駆動のもと
    に、駆動されたワード線(WL i)とも、付属のトランスファトランジス タ(TTj)が導通状態に切換えられてい る内部ビット線(Bj、@Bj@)とも接続されている
    メモリセル(SZ)への所望のデ ータの書込みが行われ、 f)ステップe)が、それぞれ少なくとも1つのまだ駆
    動されていないワード線(WL i)の駆動のもとに、半導体メモリのブロ ック(B)のメモリセル(SZ)のうちで 外部集合ビット線(XB、@XB@)と両論理レベル(
    D、@D@)との間の選択された対応付けに基づいて書
    込みが可能であるすべて のメモリセル(SZ)が書込まれるまで、 何回も行われ、 g)ステップf)の最終回の書込みによりまだすべての
    メモリセル(SZ)が所望の検 査パターンを書込まれていない場合には、 外部集合ビット線(XB、@XB@)と両論理レベル(
    D、@D@)との間の最初に選択された対応付けの交換
    のもとにステップb)以 降のステップが繰り返される ことを特徴とする半導体メモリへのデータの並列書込み
    方法。 2)メモリセル(SZ)へのデータの書込みを加速する
    ため請求項1のステップd)の後に少なくとも付属のト
    ランスファトランジスタ(TTj)が導通状態に切換え
    られている内部評価回路(BWSint)が能動状態に
    切換えられ、また請求項1のステップg)の繰り返しが
    既に請求項1のステップa)から行われることを特徴と
    する請求項1記載の方法。 3)第1の論理レベル(D)として本方法の最初の進行
    の際に論理“0”が選択されることを特徴とする請求項
    1又は2記載の方法。 4)第1の論理レベル(D)として本方法の最初の進行
    の際に論理“1”が選択されることを特徴とする請求項
    1又は2記載の方法。 5)多数の互いに等しいメモリブロック(B)を有する
    半導体メモリにおいて、これらのメモリブロック(B)
    に同時に並列に適用されることを特徴とする請求項1な
    いし4の1つに記載の方法。 6)特に請求項1ないし5の1つによる方法を実施する
    ための回路装置であって、 半導体メモリがマトリックスの形態に配置 された2^N^+^M個のメモリセル(SZ)の少なく
    とも1つのブロック(B)を含んでおり、メモリセル(
    SZ)がワード線(WLi) および内部ビット線(Bj、@Bj@)を介してアドレ
    ス指定可能であり、 各内部ビット線(Bj、@Bj@)に、内部ビット線(
    Bj、@Bj@)を2つの半部に分ける内部評価回路(
    BWSint)が対応付けられており、 各内部評価回路(BWSint)がトラン スファトランジスタ(TTj)を介してすべてのトラン
    スファトランジスタ(TTj)に共通の外部集合ビット
    線(XB、@XB@)と接続されており、 外部集合ビット線(XB、@XB@)に、半導体メモリ
    からデータを読出す場合に読出されたデータを増幅しか
    つ最終的に増幅されたデータ(DO)を伝達する役割を
    すると共に半導体メモリに論理レベル(D、@D@)の
    形態でデータを書込む場合にデータ入力回路(DIN)
    から書込むべきデータを受け入れかつ外部集合ビット線
    (XB、@XB@)に伝達する役割をする外部評価回路
    (BWSext)が接続されており、 ワード線(WLi)がワード線デコーダ( WLDEC)により能動化可能であり、また内部ビット
    線(Bj、@Bj@)がビット線デコーダ(BLDEC
    )により能動化可能である回路装置において、 データ入力回路(DIN)が各1つのスイ ッチングトランジスタ(ST)を介して、両論理レベル
    (D、@D@)に対応付けられている値の電位(POT
    1、POT2)と接続されており、 制御回路(SS)が入力側で制御信号(P 1、・・・、Pk)と接続されており、 制御信号(P1、・・・、Pk)が、並列書込みが行わ
    れるべきか否か、またその際にどの検査パターンが使用
    されるべきかに関する情報を含んでおり、 制御回路(SS)がスイッチングトランジ スタ(ST)を駆動する第1の出力信号(T1)を有し
    、 制御回路(SS)が、データ入力回路(D IN)と接続されておりかつデータ入力回路(DIN)
    の内部で、スイッチングトランジスタ(ST)を介して
    与えられている電位(POT1、POT2)のどれを第
    1の論理レベル(D)として外部評価回路(BWSex
    t)を介して外部集合ビット線の第1の半部(XB)に
    与えるべきかを制御し、またさらに、スイッチングトラ
    ンジスタ(ST)を介して与えられている電位(POT
    1、POT2)のどれを第2の論理レベル(@D@)と
    して外部評価回路(BWSext)を介して外部集合ビ
    ット線の第2の半部(@XB@)に与えるべきかを制御
    する第2の出力信号(T2)を有し、 ビット線デコーダ(BLDEC)が、制御 回路(SS)の第3の出力信号(T3)を介して最大す
    べてのトランスファトランジスタ(TTj)までの少な
    くとも多数のトランスファトランジスタ(TTj)を並
    列に能動化するための切換装置(US)を設けられてい
    る ことを特徴とする半導体メモリへのデータの並列書込み
    回路装置。 7)制御回路(SS)が、制御信号(P1、・・・、P
    k)を評価するデコーダ部分(DEC)を含んでいるこ
    とを特徴とする請求項6記載の回路装置。 8)制御回路(SS)がPLA回路を含んでいることを
    特徴とする請求項6又は7記載の回路装置。 9)制御回路(SS)が不揮発性のメモリ回路を含んで
    いることを特徴とする請求項6又は7記載の回路装置。 10)切換装置(US)が内部ビット線(Bj、@Bj
    @)ごとに2つの互いに相補性のトランジスタを有する
    別のトランスファトランジスタ対(WTTj)を有し、
    このトランスファトランジスタ対(WTTj)ごとに一
    方のトランジスタのソースおよびドレインが1つの内部
    ビット線(Bj、@Bj@)のトランスファトランジス
    タ(TTj)のゲート端子とそのつどの内部ビット線(
    Bj、@Bj@)に対応付けられているビット線デコー
    ダ(BLDEC)の出力端との間に配置されており、他
    方のトランジスタが回路装置の供給電位(VCC)とト
    ランスファトランジスタ(TTj)のゲート端子との間
    に配置されており、また別のトランスファトランジスタ
    対(WTTj)の両トランジスタのゲートが制御回路(
    SS)の第3の出力信号(T3)と接続されていること
    を特徴とする請求項6ないし9の1つに記載の回路装置
    。 11)切換装置(US)が内部ビット線(Bj、@Bj
    @)ごとに2つの互いに相補性のトランジスタを有する
    別のトランスファトランジスタ対(WTTj)を有し、
    このトランスファトランジスタ対(WTTj)ごとに一
    方のトランジスタのソースおよびドレインが1つの内部
    ビット線(Bj、@Bj@)のトランスファトランジス
    タ(TTj)のゲート端子とそのつどの内部ビット線(
    Bj、@Bj@)に対応付けられているビット線デコー
    ダ(BLDEC)の出力端との間に配置されており、他
    方のトランジスタが回路装置の供給電位(VCC)とト
    ランスファトランジスタ(TTj)のゲート端子との間
    に配置されており、またすべての別のトランスファトラ
    ンジスタ対(WTTj)の両トランジスタのゲートが制
    御回路(SS)の第3の出力信号(T3′、T3″、T
    3′″)と接続されていることを特徴とする請求項6な
    いし9の1つに記載の回路装置。 12)入力側で一方では制御回路(SS)の第4の出力
    信号(T4)と接続されており、また他方ではワード線
    (WLi)のアドレス指定の役割をするアドレス線(A
    0ないしAM、@A0@ないし@AM@)と接続されて
    いるワード線アドレス分離器回路(WLTS)をも含ん
    でおり、通常作動中にアドレス線(A0ないしAM、@
    A0@ないし@AM@)をワード線デコーダ(WLDE
    C)に通過接続し、また検査作動中に一方ではアドレス
    線(A0ないしAM、@A0@ないし@AM@)を遮断
    し、また他方ではワード線デコーダ(WLDEC)を、
    これらが書込みのために1つのワード線(Wli)また
    はワード線(Wli)の1つの群を次々と駆動するよう
    に、駆動することを特徴とする請求項6ないし11の1
    つに記載の回路装置。 13)入力側で一方では制御回路(SS)の第4の出力
    信号(T4)と接続されており、また他方ではワード線
    (WLi)のアドレス指定の役割をするアドレス線(A
    0ないしAM、@A0@ないし@AM@)と接続されて
    いるワード線アドレス分離器回路(WLTS)をも含ん
    でおり、通常作動中にアドレス線(A0ないしAM、@
    A0@ないし@AM@)をワード線デコーダ(WLDE
    C)に通過接続し、また検査作動中に一方ではアドレス
    線(A0ないしAM、@A0@ないし@AM@)を遮断
    し、また他方ではすべてのワード線デコーダ(WLDE
    C)を、これらが書込みのためにすべてのワード線(W
    li)を同時に駆動するように、並列に駆動することを
    特徴とする請求項6ないし11の1つに記載の回路装置
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