JPH06223599A - メモリの一括書込み方法および装置 - Google Patents

メモリの一括書込み方法および装置

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JPH06223599A
JPH06223599A JP5138645A JP13864593A JPH06223599A JP H06223599 A JPH06223599 A JP H06223599A JP 5138645 A JP5138645 A JP 5138645A JP 13864593 A JP13864593 A JP 13864593A JP H06223599 A JPH06223599 A JP H06223599A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明の目的は、試験およびストレス印加を
目的とする、ダイナミック・ランダム・アクセス・メモ
リ(DRAM)などのメモリ・デバイスの複数のメモリ
・セルへの一括書込みを提供することである。 【構成】 まず、それぞれビット線対(39T、39
C)の第1ビット線への第1組のメモリ・セルのメモリ
・セルの接続を制御する、第1組のワード線(W1、W
3)をオンにする。その後、ビット線対の2本のビット
線の間の電圧を等化(24)して、ビット線対の第1ビ
ット線の電荷が、ビット線対の第2ビット線の電荷より
高くなるようにする。次に、ビット線対に接続されたセ
ンス増幅器(23)をオンにして、ビット線対の間の電
荷の差を感知し、第1組のメモリ・セルを充電する。そ
の後、それぞれ第2ビット線への第2組のメモリ・セル
のメモリ・セルの接続を制御する第2組のワード線(W
0、W2)を、オンにする。最後に、前にオンになった
ワード線をオフにし、その後、センス増幅器をオフにす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、全般的には集積回路メ
モリ・デバイスの分野に関し、具体的には、試験および
ストレス印加を目的とする、ダイナミック・ランダム・
アクセス・メモリ(DRAM)などのメモリ・デバイス
の複数のメモリ・セルへの一括書込みの方法および装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体メモリ・デバイス、特にDRAM
の記憶キャパシタンスが増加し、集積度が高まるにつれ
て、デバイスを迅速かつ効率的に試験することの必要性
が、その設計および製造においてますます重要な考慮点
となってきている。
【0003】半導体メモリ・デバイス、特にDRAMの
記憶キャパシタンスは、平均して3〜4年ごとに4倍に
なる傾向がある。DRAMのメモリ・キャパシタンスは
不断に増加してきたが、DRAMが占める半導体ウエハ
上の実際の面積は、比較的安定したままである。その結
果、DRAMを構成する諸要素は、数年にわたってかな
り寸法が縮小されてきた。
【0004】これらの開発に伴って、複数の問題が生じ
た。DRAMを構成する要素の寸法が縮小されたので、
最終製品に欠陥が生じる可能性が増加した。また、DR
AMのキャパシタンスが増大したので、従来の方法によ
ってDRAMの欠陥を検査するのに必要な時間が増加し
た。このような試験を実行するのに必要な時間は、適用
される試験パターンに応じて、記憶サイズがN倍に増加
するとき少なくとも2N倍に増加することが知られてい
る。
【0005】試験を行うには、多数のメモリ・セルに同
一の情報をロードすることが非常にしばしば必要とな
る。たとえば、製造時にメモリ・デバイスに対して行わ
れる標準的な試験であるバーンイン試験では、試験中の
ある時点で、すべてのメモリ・セルにすべてハイまたは
すべてローのデータを書き込むことが必要である。バー
ンイン試験は、a)DRAMのメモリ・セル内の電圧
を、そのDRAMが通常動作中に経験するはずの通常電
圧より少なくとも1Vまたは2V高い電位に上げるこ
と、b)DRAMを、通常経験するはずの温度より高い
周囲温度に置くこと、およびc)指定された時間の間こ
れらの条件を維持することからなる。バーンイン試験
は、DRAM全体に見られる様々な酸化物または誘電体
の接続のストレス試験を行うように設計されている。酸
化物層を含めてDRAM上の様々な要素および層の寸法
は、メモリ・キャパシタンスが増大するごとに縮小され
てきたので、酸化物層および誘電体層の品質保証がます
ます重要になっている。
【0006】通常のDRAM動作では、一時にアクセス
できるメモリ・セルの数が比較的少数であるので、通常
のデータ経路を使用して試験を行う従来の試験では、一
時に少数のメモリ・セルしか試験できない。半導体メモ
リ・デバイスの容量が1K、4K、16Kなどしかなか
った時には、試験を完了するのに必要な時間はさほど問
題にはならなかった。しかし、現在、メモリ・デバイス
のキャパシタンスは4MB、16MBなどになってお
り、従来の試験方法では、費用がかさみ時間を浪費す
る。
【0007】一括書き込みとして知られる、複数のメモ
リ・セルに同時に書き込むための様々な方法が、何年も
前から開発されてきた。DRAM試験の問題に対する解
決法のあるものは、メモリ・アレイのビット線に追加デ
ータ経路を組み込んで、一括書込み用のメモリ・セルへ
の代替経路を設けるものであった。英国特許出願第22
32744号がこの手法の1例である。しかし、メモリ
・アレイ内に多数のビット線があると、余分の回路が必
要なために回路がさらに複雑になって望ましくなく、D
RAM上の空間が過度に消費される。提案されたもう1
つの代替案は、メモリ・アレイの列復号器に追加の回路
を加えるものである。このような追加回路は、列復号器
の能力を増補し、その結果、通常のデータ経路が、複数
のメモリ・セルへの同時書込み用のチャネルを提供でき
るようになる。米国特許第4991139号明細書がこ
の手法の1例である。しかし、増補された列復号器と通
常のデータ経路を使用することには、ビット線への別々
のデータ経路を使用するのと同じ欠点がある。この回路
が必要なために、DRAMがかなり複雑になり、チップ
上の乏しい追加空間がかなり犠牲になる。
【0008】したがって、余分の回路とDRAMの構造
の複雑さを最小限しか追加しない、試験目的のためにD
RAMに一括書き込みする方法を提供するという課題が
残されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、追加のデー
タ経路を必要とせず、追加の回路の量が最小限の、メモ
リ・セル・アレイの複数のメモリ・セルに同時に書き込
む方法を提供する。さらに、この追加回路は、製造工程
や結果として得られるDRAMの構造を余り複雑にしな
い。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の原理によれば、
集積回路メモリ・モジュールの複数のメモリ・セルの電
圧を同時に設定する方法が提供される。この方法は、各
ワード線がビット線対の第1ビット線への第1組のメモ
リ・セルの接続を制御する、第1組のワード線をオンに
するステップと、ビット線対の第1ビット線上の電荷が
ビット線対の第2ビット線上の電荷より高くなるように
ビット線対の2つのビット線の間の電圧を等化するステ
ップと、ビット線対の間のこの電荷の差を感知し、第1
組のメモリ・セルを充電するために、ビット線対に接続
されたセンス増幅器をオンにするステップとを含む。第
1組のメモリ・セルが充電された後に、第1組のワード
線をオフにする。
【0011】本発明のもう1つの態様では、第1組のメ
モリ・セルが充電された後、第1組のワード線をオフに
する前に、それぞれ第2組のメモリ・セルの1セルを介
してビット線対の第2ビット線に接続された、第2組の
ワード線をオンにする。第2組と第1組のワード線を一
緒にオフにすることができ、その後、センス増幅器をオ
フにすると、メモリ・セル内に誘導された電荷が保持さ
れる。
【0012】本発明のもう1つの態様では、第1組のワ
ード線をオンにした後、センス増幅器をオンにする前
に、等化ステップを打ち切って、第1ビット線に沿った
メモリ・セル内の電荷の保持を保証する。
【0013】本発明のもう1つの態様では、半導体メモ
リ・デバイスの複数のメモリ・セルに一括書き込みする
ための装置が提供される。この装置は、ビット線対を含
み、そのビット線対の第1ビット線と第2ビット線がセ
ンス増幅器および等化器に接続される。第1組のワード
線が、第1の複数のメモリ・セルを介して第1ビット線
に接続され、第2組のワード線が、第2の複数のメモリ
・セルを介して第2ビット線に接続される。第2組のワ
ード線をオフに保ちながら第1組のワード線をオンに
し、第1組のワード線がオンになる間等化器をオンに保
ち、その後、等化器をオフにし、等化器がオフになった
後にセンス増幅器をオンにし、第1ワード線をオフにす
るための回路が設けられる。
【0014】本発明のもう1つの態様では、センス増幅
器がオンになった後、第1組のワード線がオフになる前
に、第2組のワード線をオンにし、その後、第1組と第
2組のワード線をオフにするための回路が設けられる。
【0015】
【実施例】まず、図中で使用する記号を定義する。
【0016】
【数1】 は以降BL0バーと記載する。
【0017】
【数2】 は以降BL1バーと記載する。
【0018】
【数3】 は以降BLバーと記載する。
【0019】
【数4】 は以降CEバーと記載する。
【0020】
【数5】 は以降WEバーと記載する。
【0021】
【数6】 は以降REバーと記載する。
【0022】序論 本発明は、個々のビット線への余分のデータ経路または
列復号用の追加回路を必要とせずに、DRAMの複数の
メモリ・セルへの一括書込みを簡単にする。DRAMの
内部構造に基づいてDRAMがそれ自体を充電するとい
う固有の能力を利用する。その実施には、DRAMの内
部回路に対する幾つかの簡単な変更および追加が必要で
あるが、これらは、設計中に簡単に達成できる。
【0023】本明細書に記載の例は、センス増幅器に接
続される折り畳まれたビット線対を有するDRAMを用
いる。センス増幅器に結合された折り畳まれたビット線
からなるメモリ・アレイを有するDRAMは、現在広く
使用されているアレイ構造の1つである。しかし、当業
者なら、本発明の方法を他のメモリ構造に適用できるこ
とを簡単に理解するであろう。
【0024】図1は、本発明の原理に従って製造したD
RAM20の全体的概略図である。本発明でも変更され
ないこのDRAMの主要機能部分は、メモリ・アレイ2
1、センス増幅器バンク23、等化器バンク24、標準
の列復号回路22、および通常制御信号回路28であ
る。本発明の好ましい実施例を実施するために、従来の
DRAMの諸要素が、行復号回路25が複数のワード線
を同時に選択でき、制御回路26が等化器バンク24と
センス増幅器バンク23のタイミングを制御し変更で
き、試験回路27が本発明の一括書込みを制御し調節で
きるように変更されている。
【0025】折り畳まれたビット線の対に接続されたメ
モリ・セルは、当業者によく知られた標準的な方式でメ
モリ・アレイ21を構成する。メモリ・アレイのセル
は、複数のビット線対を有するマトリックスを形成す
る。各ビット線対は真ビット線と補ビット線からなり、
それぞれの長さに沿って多数のメモリ・セルがそれに接
続されている。またビット線対は、センス増幅器バンク
23内の特定のセンス増幅器、および等化器バンク24
内の特定の等化器に通常の方式で接続される。複数のワ
ード線が、ビット線を横切り、メモリ・セル内の制御ト
ランジスタのゲートに周期的に接続される。
【0026】ビット線対の真ビット線に沿ったメモリ・
セルに書き込まれる情報は、DRAMから反転なしに出
力される。したがって、真メモリ・セルに記憶された1
は、1として出力され、0の場合も同様である。しか
し、ビット線対の構成とその動作の方式は当技術分野で
周知のようになっているので、補ビット線に沿ったセル
に記憶された1は、0すなわちローとして読み出され、
補ビット線に沿ったメモリ・セルに記憶された0すなわ
ちローは、1すなわちハイとして読み出される。
【0027】DRAMの構造は、当業者には常識であ
り、1つのビット線対とそれに接続されたデバイスのう
ちで本発明を説明するのに必要な部分だけを図2に示
す。図2は、共用されるセンス増幅器35および共用さ
れる等化器36に接続された真ビット線39Tおよび補
ビット線39Cからなる1つの折り畳まれたビット線対
の一部分を示す図である。真ビット線39Tの長さに沿
ってそれに接続された多数のメモリ・セルのうち、メモ
リ・セル30は偶数ワード線W0に、メモリ・セル32
は偶数ワード線W2に、それぞれ標準的な方式で接続さ
れる。真ビット線39Tに接続された各メモリ・セル
は、偶数ワード線がそれに接続されている。補ビット線
39Cの長さに沿ってそれに接続された多数のメモリ・
セルのうち、メモリ・セル31および33も、それぞれ
奇数ワード線W1およびW3に標準的な方式で接続され
ている。補ビット線39Cに接続された各メモリ・セル
は、奇数ワード線がそれに接続されている。図示の構造
では、奇数ワード線が、補ビット線39Cに接続された
メモリ・セルを制御し、偶数ワード線が、真ビット線3
9Tに接続されたメモリ・セルを制御する。
【0028】DRAMの通常の読取りサイクルまたは書
込みサイクルの間、試験回路27は使用されない。制御
回路26に印加される、概略的に符号28で示した通常
制御信号と、行復号回路25に接続されたアドレス線2
9が、DRAMの動作を制御する。図3のタイミング図
は、読取り動作などの通常動作の開始時に、時刻T0
の関係信号の位置を示す図である。サイクルのこの点で
は、活動状態でハイの等化信号EQUが、等化器をオン
にしている。等化器は、当技術分野で周知の方式で動作
して、両方のビット線の電位を等しい電圧レベルに等化
する。その結果、時刻T0に、読み取ろうとするセルが
論理0の時にはビット線がBL0およびBL0バー、ま
た読み取ろうとするセルが論理1の時にはビット線BL
1およびBL1バーが、ビット線上で通常読み取られる
ハイ状態とロー状態の中間の電位VEQで等化される。
【0029】図2に戻って、これから等化処理について
詳細に説明する。真ビット線39Tと補ビット線39C
の等化が行われるのは、等化器36がハイの等化信号E
QUを受け取ってオンになる時である。これによって、
等化器36の3つのトランジスタ36A、36B、36
Cがオンになる。等化器のトランジスタがオンになる
と、ビット線が、トランジスタ36Aを介して閉路で直
接接続される。また、線41上の電圧等化信号VEQ
が、トランジスタ36Bを介して真ビット線39Tに、
トランジスタ36Cを介して補ビット線39Cにそれぞ
れ接続され、真ビット線39Tと補ビット線39Cの電
位を所望の電位VEQに設定する。この例では、ビット
線が、このシステムのハイとローの中間の電位で等化さ
れる。使用されるシステムのうちにはハイまたはローの
レベルで等化するものもあるが、本発明の方法は、これ
らのシステム上でも同様に簡単に動作できる。
【0030】図3に戻って、時刻T1に、他の処置が何
も行われないうちに等化器がオフになる。等化器がオフ
になる時、2本のビット線、真ビット線39Tと補ビッ
ト線39Cは、互いに接続を断たれるが、変更されない
限り同一の電位に留まる。時刻T2に、行復号回路25
が受け取る適当なアドレスによって、選択されたワード
線がオンにされる。図3に示す例では、偶数ワード線W
0がオンになり、メモリ・セル30(図2)のトランジ
スタ・ゲート30Aに電位を生じ、したがって、メモリ
・セル30内のコンデンサ30Cと真ビット線39Tの
間で接続を確立する。0すなわちローの電圧の読みがコ
ンデンサ30Cに記憶されている場合、これによって、
時刻T3(図3)に、線BL0上に示されるように、真
ビット線39Tの電位がわずかに低下する。一方、1す
なわちハイの電圧がコンデンサ30Cに記憶されている
場合、時刻T3(図3)に、線BL1上に示されるよう
に、真ビット線39Tの電位または電荷がわずかに増加
する。
【0031】時刻T4に、センス増幅器がオンになり、
信号NSETが等化状態からローすなわち0に低下し、
信号PSETが、等化状態からハイすなわち1になる。
その後、センス増幅器は、コンデンサ30Cから真ビッ
ト線39Tに移された電荷を感知する。これは、時刻T
4またはその直後に発生する。コンデンサ30Cに0が
記憶されている場合、真ビット線は、図3の線BL0に
示されるように、0に低下する。一方、コンデンサ30
Cにハイの電荷すなわち1が存在する場合、真ビット線
は、時刻T4に、線BL1に示されるように、完全な1
すなわちハイの電位に上昇する。その後、時刻T4と時
刻T6の間のある時点で、そこに含まれる情報を得るた
めに真ビット線の適切な読取りが行われる。センス増幅
器の構造および機能は、当技術分野で周知であり、した
がって、本明細書ではこれ以上詳細に説明しない。
【0032】時刻T5までに、センス増幅器は、コンデ
ンサ30Cをハイである1の状態に再充電しまたはロー
である0の状態に戻し、その後、時刻T5に、偶数ワー
ド線W0が、図3に示すようにオフになる。この時点
で、メモリ・セルの復元によって、メモリ・セルがその
元の状態に戻っている。時刻T6に、等化信号EQUが
ハイになり、等化器をオンにする。等化器は、ビット線
を等化電位に戻し、場合に応じて次の読取りサイクルま
たは書込みサイクルのためにビット線を準備する。時刻
7に、信号NSETと信号PSETがオフになり、等
化状態の電位VEQに戻る。
【0033】外部試験パッドを使用する本発明の実施態
様まだウェハの形であるうちにDRAM上の試験端子ま
たは試験パッドを使用する本発明の実施態様についてこ
れから説明する。
【0034】本発明では、DRAMの動作中に見られる
信号の一部の通常のシーケンスを変更して、複数のワー
ド線をオンにする目的で、4つの新規の制御信号を追加
する。図2に、試験回路27から行復号回路25に走る
信号ESと信号OSが示されている。信号ESまたは偶
数ワード線選択は、すべての偶数ワード線を同時にオン
にする。信号OSまたは奇数ワード線選択は、すべての
奇数ワード線を同時にオンにする。図2にW0およびW
2として示す偶数ワード線は、真ビット線39Tなどの
真ビット線にも接続されたすべてのメモリ・セルに接続
され、これらをオンにする。図2にW1およびW3とし
て示す奇数ワード線は、補ビット線39Cなどの補ビッ
ト線に接続されたすべてのメモリ・セルに接続され、こ
れらをオンにする。
【0035】試験回路27によって生成される信号EO
FFは、制御回路26に送られる。信号EOFFは、等
化信号EQUのタイミングを変更し、この等化信号EQ
Uが等化器を活動化する。信号EOFFは、信号ESが
偶数ワード線を活動化しオンにするか、または信号OS
が奇数ワード線を活動化しオンにするまで、等化信号E
QUをオンに保ち、したがって等化器をオンに保つ。奇
数ワード線または偶数ワード線がオンになると、信号E
OFFはオフになって、等化信号EQUを非活動化し、
したがって等化器をオフにする。等化器がオフになるの
は、セットオン信号SONによってセンス増幅器がオン
になる前である。さらに、試験回路によって生成された
信号SONは、センス増幅器がオンになるのを遅延さ
せ、また信号PSETがオンになる前に信号NSETを
オンにする。図3から、通常動作中は、信号NSETと
信号PSETが同時にオンになることに留意されたい。
しかし、本発明では、センス増幅器内に不平衡を引き起
こすために、信号NSETを信号PSETより前にオン
にする。信号NSETは、ビット線から電荷を抜くトラ
ンジスタを活動化し、信号PSETは、ビット線を充電
するトランジスタを活動化する。センス増幅器とその動
作は、当技術分野で周知である。
【0036】手短かにいうと、本発明の一括書き込み処
理では、まず図2の等化器36をオンにして、真ビット
線39Tと補ビット線39Cを、DRAMのハイ電圧と
ロー電圧の中間の共通電位に等化する。等化回路がオン
のままである間、偶数ワード線はすべてオンになる。こ
れによって結局、偶数ワード線によって制御される、真
ビット線に沿ったメモリ・セル内のコンデンサが真ビッ
ト線に接続される。適当な時間が経過し、真ビット線上
のコンデンサを充電させた後に、等化器36がオフにな
る。その後、センス増幅器35がオンになる。センス増
幅器は、メモリ・セル・コンデンサがすべて接続され充
電されているために大きなキャパシタンスを有する偶数
ビット線である真ビット線39Tと、メモリ・セル・コ
ンデンサがどれも接続されていないためにかなりのキャ
パシタンスを有さない補ビット線39Cの間のキャパシ
タンス差を感知する。その結果、センス増幅器は、真ビ
ット線39Tに接続されたすべてのコンデンサにハイす
なわち1の電荷があることを保証する。
【0037】センス増幅器は、図示の例では、信号PS
ETより前に信号NSETが活動化された結果として、
最終的に、真ビット線39Tに沿ったすべてのメモリ・
セルを充電する。信号NSETは、活動化された時、真
ビット線39Tと補ビット線39Cの両方からの電荷の
抜き取りを開始する。最初は、両方のビット線が等しい
電位を有するが、真ビット線39Tに沿ったキャパシタ
ンスの方が高いので、補ビット線39C上の電荷は、真
ビット線39Tの電荷よりはるかにすばやく使い果たさ
れる。その結果、真ビット線39Tと補ビット線39C
の間に電位差が生じる。この電位差のために、センス増
幅器は、真ビット線39Tとそのメモリ・セルをハイに
充電し、補ビット線をローに充電する。センス増幅器が
電位差を感知した後、補ビット線に沿ったメモリ・セル
を制御する奇数ワード線がオンになっている場合、補ビ
ット線に沿ったメモリ・セルが、センス増幅器によって
ローすなわち0に充電される。補ビット線に沿ったすべ
てのメモリ・セルがハイすなわち1に充電され、真ビッ
ト線に沿ったすべてのメモリ・セルがローすなわち0に
充電されるという反対の効果は、等化段階の間に奇数ワ
ード線をオンにし、センス増幅器が完全に機能するまで
偶数ワード線をオンにしないことによって達成できる。
【0038】本発明の方法について以下でさらに詳細に
説明する。図4は、論理1をメモリ・アレイ全体に同時
に一括書き込みするのに使用される信号のシーケンスを
示す図である。その結果、真ビット線に接続されたすべ
てのメモリ・セルに実際の1すなわちハイが書き込ま
れ、補ビット線に接続されたすべてのメモリ・セルに実
際のローすなわち0が書き込まれる。時刻T0に示され
る最初のステップで、ハイの等化信号EQUで示される
ように、等化回路がオンになる。新しい信号EOFFま
たは等化オフが、オンすなわちハイ状態になり、時刻T
4になるまで等化信号EQUをハイに保つ。時刻T1に、
信号ESすなわち偶数ワード線選択信号がオンになる。
これによって、W0やW2などの偶数ワード線がすべて
活動化され、これらは時刻T2にハイになる。偶数ワー
ド線は、真ビット線に接続されたメモリ・セルへのアク
セスを制御するトランジスタのゲートを活動化する。こ
れによって、これらのメモリ・セルのコンデンサが、真
ビット線に接続される。その結果、等化回路はまだオン
であるので、2本のビット線の等化の影響で、真ビット
線に接続された各メモリ・セルのコンデンサが、両方の
ビット線と同じ電位に充電される。等化信号EQUは、
真ビット線に接続されたメモリ・セルのコンデンサをす
べて完全に充電させるのに十分な時間オンのままにな
る。その後、時刻T4に、等化信号EQUがローにな
り、等化回路をオフにする。等化信号EQUは、信号E
OFFが時刻T3にハイになるのに応答してローにな
る。
【0039】その後、時刻T5に、信号SONがハイに
なり、センス増幅器を活動化する。しかし、信号SON
は、まず時刻T6に信号NSETだけをオンにする。信
号NSETは、時刻T6にローになると、センス増幅器
のうちでビット線から電荷を抜く部分だけを活動化す
る。その後、信号SONは、適当な遅延を介して、信号
NSETが時刻T7に完全に活動状態になった後に、信
号PSETを時刻T8にオンにする。上述のように、こ
の信号NSETと信号PSETの間の遅延の効果として
は、ビット線同士がわずかに不平衡になり、センス増幅
器が、キャパシタンスが大きい方のビット線、すなわち
この例では真ビット線をハイ状態に変化させる。上述の
ように、信号NSETは、センス増幅器のうちで真ビッ
ト線と補ビット線の両方から電荷を抜く部分を開始させ
る。真ビット線に沿ったキャパシタンスの方がはるかに
大きいので、真ビット線は、放電にはるかに長い時間が
かかる。その結果、時刻T8に信号PSETがオンにな
る時、センス増幅器は、真ビット線と補ビット線の間に
生じた電位差を感知する。これは、補ビット線からほと
んどまたはすべての電荷が抜き取られているが、過大な
キャパシタンスのために真ビット線がまだ比較的高い電
位に留まっているからである。その後、センス増幅器
は、通常の動作を進め、真ビット線に接続されたメモリ
・セルをすべてハイである1に充電する。
【0040】補ビット線に沿ったメモリ・セルがすべて
ローすなわち0の状態に充電されることを保証にするた
め、時刻T9に示されるように、信号OSまたは奇数ワ
ード線選択信号がハイになる。これによって、通常の遅
延の後に、W1やW3などの奇数ワード線がすべて、時
刻T10にオンになる。しかし、センス増幅器は、すで
に、キャパシタンスがより大きいために真ビット線に有
利にバイアスされているので、真ビット線とそのメモリ
・セル・コンデンサが、信号BLで示されるように、セ
ンス増幅器によってハイ状態に充電され、補ビット線と
そのメモリ・セル・コンデンサは、信号BLバーで示さ
れるように、ローすなわち0に充電される。
【0041】その後、時刻T11に、奇数ワード線選択信
号と偶数ワード線選択信号の両方がオフになる。したが
って、時刻T12には、ワード線がすべてオフになる。し
かし、通常の動作の過程では、両方の組が同時にオフに
なるが、これらをすべて同時にオフにする必要はないこ
とに留意されたい。
【0042】この時点で、真ビット線に接続されたメモ
リ・セルがすべてハイ電荷すなわち1を有し、補ビット
線に接続されたメモリ・セルがすべてロー電荷すなわち
0を有する。その後、時刻T13に、信号SONがオフに
なり、これに対応して、時刻T14に信号NSETと信号
PSETの両方がオフになる。したがって、センス増幅
器がオフになる。その後、時刻T15に、等化器オフ信号
EOFFがローになり、時刻T16に等化信号EQUがオ
ンになる。したがって、ビット線は、その後、等電位状
態に戻り、次のサイクルを開始することができる。
【0043】上記に非常に類似した処理を使用して、メ
モリ・アレイのメモリ・セルをすべて論理0に充電する
ことができる。これによって結局、真ビット線に接続さ
れたメモリ・セルのすべてにローすなわち0が置かれ、
補ビット線に接続されたメモリ・セルのすべてにハイす
なわち1が置かれることになる。図5は、メモリ・アレ
イのメモリ・セルをすべて論理0に充電するのに必要な
信号のシーケンスを示す図である。図5は、図4と比較
して、セルを論理0に充電するのに必要な信号のシーケ
ンスの相違を示す図である。相違は、時刻T1に、信号
ESまたは偶数ワード線選択信号がハイになる代わり
に、信号OSまたは奇数ワード線選択信号がハイになる
ことである。これによって、メモリ・アレイの補ビット
線に接続されたメモリ・セルに接続された奇数ワード線
がすべてオンになる。他の信号は、信号ESを除いてす
べて同様である。信号ESは、時刻T9にオンになり、
時刻T10に偶数ワード線をオンにする。明らかに、奇数
ワード線を最初にオンにすることによって、補ビット線
に沿ったメモリ・セルのすべてのコンデンサが、補ビッ
ト線に接続され、等化段階の間に充電される。補ビット
線に接続されたメモリ・セルのコンデンサは、両方のビ
ット線と同じ電位に充電される。その後、補ビット線に
沿ったこの過剰キャパシタンスのために、センス増幅器
が補ビット線に沿ったより大きなキャパシタンスを感知
し、その後、補ビット線上のこれらのメモリ・セルをハ
イすなわち1に充電する処理が進行し、最終的に、真ビ
ット線に沿ったセルがローすなわち0に充電される。
【0044】当業者なら、信号OS、ES、EOFFお
よびSONが多数の異なる方法で提供できることを容易
に理解するであろう。モジュール内にウェハを格納する
前に、DRAMを構成するウェハ上のパッドまたは試験
端子を使用する直接配線方式が、1つの可能性をもたら
す。直接配線方式で信号ESおよびOSを実施する方法
の1つでは、1つのパッドをすべての偶数ワード線に直
接配線し、もう1つのパッドをすべての奇数ワード線に
直接配線した、パッドまたは試験端子を提供する。信号
ESおよびOSの生成は、DRAMの外部で行われ、お
そらくは当技術分野で周知の適当な試験装置によって行
われる。信号OSまたは信号ESは、それぞれのパッド
を介して適当な時刻に導入される。同様に、等化器を別
個のパッドまたは試験端子に接続すると、等化器に接続
されたパッドを介して適当な時刻に信号EOFFを導入
することによって、等化器が直接制御できるようにな
る。また、パッドからの線を2本の線に分けて、一方の
線でNSET線を制御し、他方の線で遅延を介した後に
PSET線を制御するならば、専用のパッドまたは試験
端子からの直接線によってセンス増幅器を制御すること
も可能である。したがって、信号SONは、適切な時刻
に指定されたパッドを介して入力されることになる。
【0045】製造時だけに一括書き込み手順を使用し
て、まだ露出したパッドまたは試験端子を有するウエハ
の形である間にメモリ・デバイスを試験するのが、この
配線方式の使用が可能な1つの状況である。パッドにプ
ローブをあてて試験を行った後に、その試験に合格した
ウェハを格納する。製造工程が完了すると、奇数ワード
線と偶数ワード線に接続されたパッドが密封されること
になる。しかし、ウエハを格納するモジュール上で余分
のピンが使用できる場合には、将来の使用のためこれら
のパッドを使って外界に接続することができる。上記方
式の長所は、製造工程の完了前に試験が行えることであ
り、したがってモジュールに格納する前に欠陥ウエハが
除去できるので、コストが大幅に削減される。
【0046】タイミングをメモリ・デバイス内に組み込
んだ論理回路を使用する、本発明の実施態様 以下で説明するように、本発明のもう1つの態様は、必
要な論理回路とタイミング回路を製造時に組み込んだD
RAMを提供するものである。
【0047】モジュール上の余分のピンを使用せずに本
発明の方法を実施する方法が、いくつか存在する。これ
ら複数の可能な方式は、電子素子技術連合評議会(JE
DEC)によって1987年4月22日頃に論文“Opti
mal Special Modes for Address Multiplexed DRAM,”
Ltr. BJC-42.3-86-95A(参照によって本明細書に組み込
む)で公布された標準を利用したものとなる可能性が非
常に高い。しかし、本発明を実施するためには、信号E
Sと信号OSの機能を実施し、かつ信号SONと信号E
OFFを実施するための追加回路を追加しなければなら
ない。JEDEC標準による本発明の実施態様では、モ
ジュール上の余分のピンが不要になる。JEDEC標準
に基づく特殊モード回路を、本発明を実施するための回
路と共にチップ内に組み込んだ後は、一括書き込み処理
の活動化は、行選択信号、列選択信号および適当な行ア
ドレスを含む書込み選択信号の通常のシーケンスの変更
によって行われる。
【0048】図6は、JEDEC標準を使用する代替方
式を実施するために、図2に示した回路に加える必要の
ある変更を示す図である。図6では、信号ESと信号O
Sが削除され、その代りに試験モード(TM)信号が使
用される。試験モード信号TMが、試験回路27によっ
て行復号回路25と制御回路26の両方に供給される。
また、信号SONも、行復号回路25ならびに制御回路
26に供給される。通常制御信号回路28も、試験回路
27ならびに制御回路26に接続される。
【0049】図7は、本発明の方法を実施するのに使用
できる、図6の試験回路27を示す図である。JEDE
C標準に従って製造された標準試験モード回路51を、
破線の輪郭で囲んで示す。列選択信号CEバー、書込み
信号WEバーおよび行選択信号REバーの正しいシーケ
ンスが、適切なアドレス番号A0−Xと共に、試験モー
ド復号器52を活動化する。復号器52は、試験モード
信号TMを生成する。試験モード信号TMは、図示の通
り、分岐して、ANDゲート54ならびに下記で説明す
る他の回路に供給される。試験モード信号TMは、AN
Dゲート54で行選択信号REバーと組み合わされて、
第1遅延回路D1およびインバータ53を通る信号を生
成する。インバータ53を出る際に、この信号は、2つ
の異なる経路56および57に分岐する。経路56で
は、この信号が信号EOFFになる。第2の経路57で
は、信号経路が再度分岐する。経路58では、信号がA
NDゲート55の第1入力に供給される。経路59で
は、この信号は、遅延回路D2を通過してからANDゲ
ート55に入る。ANDゲート55の出力は、信号SO
Nとなる。図6に示すように、信号EOFFは、制御回
路26に送られる。信号SONは、制御回路26と行復
号回路25の両方に送られる。試験モード信号TMは、
行復号回路25と制御回路26の両方に送られる。遅延
回路の効果と目的について、タイミングを検討しながら
下記で論じる。
【0050】図8は、図6の行復号回路25を構成す
る、多少変更を加えた標準回路の一部を示す図である。
復号器61は、最下位アドレス・ビットA0を復号す
る。復号器62は、アドレス・ビットA1ないしANを
復号する。ワード線の実際の選択が行われるのは、行選
択信号REバーが、インバータ67を通過した後に、A
NDゲート64および65で復号器61からの信号出力
と組み合わされる時である。適当な信号によってAND
ゲート64が活動化されると、偶数ワード線W0、W2
などすべての偶数ワード線が選択される。適当な信号に
よってANDゲート65が活動化されると、奇数ワード
線W1、W3などすべての奇数ワード線が選択される。
通常動作中は、奇数ワード線と偶数ワード線の両方が一
緒に選択されることはない。また、通常動作の間、復号
器62は、活動化された実際のワード線すなわちW0な
いしW2n+1−1を選択する。活動化は、線PD0ない
しPD2nのうちの1つを介する信号の伝送によって行
われる。
【0051】本発明を実施するために図8の回路に加え
る必要のある変更としては、信号SONを遅延回路D4
を介して復号器61に導入することが含まれる。復号器
61は、信号線A0を介してハイまたはローのビットを
受け取った時、すべての奇数ワード線またはすべての偶
数ワード線を選択する。信号SONの線から遅延回路D
4を介して遅延信号が来ると、適当な時刻に未選択の奇
数ワード線または偶数ワード線が選択される。さらに、
試験モード信号TMは、復号器62内の適当な回路に、
ワード線PD0ないしPD2nのすべてを選択させ、し
たがってすべての奇数ワード線またはすべての偶数ワー
ド線が一緒にオンになる。その後、遅延回路D4によっ
て遅延された信号SONが、場合に応じて前にオンにさ
れていないすべての奇数ワード線またはすべての偶数ワ
ード線を活動化する。
【0052】図9は、図6の制御回路26を構成する、
本発明を実施するために必要な変更を含む回路を示す図
である。DRAMの通常動作の間、試験モード信号TM
は、活動状態にならず、したがって図9のマルチプレク
サ73は通常のタイミング信号に制御を行わせる。した
がって、マルチプレクサ73からの反転信号によって生
成される等化信号EQUが、通常の時刻に等化器をオン
にし、通常の時刻に等化器をオフにする。したがって、
等化器は、通常の読取り動作または書込み動作中は、ワ
ード線が選択される前にオフになる。しかし、本発明の
一括書込み方法の実施中は、試験モード信号TMによ
り、信号EOFFがマルチプレクサ73によって選択さ
れ、等化信号EQUにより等化器のオン、オフを制御す
る。
【0053】図9には、信号PSETと信号NSETを
制御する回路も示されている。通常動作中、マルチプレ
クサ71は、通常タイミング信号に制御を行わせる。こ
の信号は、インバータ79を通過し、PFETトランジ
スタ75をオンにし、ハイの信号PSETを送る。次に
マルチプレクサ72は、通常タイミング信号にNFET
トランジスタ76をオンにさせ、NFETトランジスタ
76が、適当な時刻にローの信号NSETを送る。しか
し、一括書込みモードの使用中は、試験モード信号TM
により、マルチプレクサ71および72が信号SONを
受け入れる。信号SONは、信号PSETおよびNSE
Tのオン、オフを制御する。信号SONは、PSET線
に向う途中で遅延回路D3とANDゲート80を通過す
る。この配置は、信号NSETがローになった後に信号
PSETがハイになる際に必要な遅延をもたらす。
【0054】図10は、大部分の点で図4と非常に類似
しているが、本発明の方法で図6、図7、図8および図
9の回路を使用するメモリ・アレイのメモリ・セルに論
理1を一括書き込みできるようにする信号のタイミング
図である。時刻T0に、信号EOFFを受け取った時、
等化回路と等化信号EQUが活動化された後、行選択信
号REバーと試験モード信号TMが活動化される。この
場合、図8の復号器61に入る論理1が、すべての偶数
ワード線を選択することになる。これが、復号器62に
入る試験モード信号TMとあいまって、すべての偶数ワ
ード線の選択を可能にする。これらの偶数ワード線は、
その後、時刻T1(図10)に活動化される。しかし、
第1遅延回路D1(図7)があるので、信号EOFF
は、ワード線がオンになった後の時刻T2まで活動化さ
れない。その後、時刻T3に、等化信号がローになっ
て、等化器をオフにする。したがって、本発明の方法で
必要とされるとおり、等化器がオフになる前に偶数ワー
ド線がオンになる。
【0055】その後、時刻T4に、遅延回路D2の結果
として、信号SON(図10)がハイになる。その後、
信号SONは、図9に示した回路によって、まず信号N
SETをローにし、その後、遅延回路D3(図9)の結
果として、本発明の方法で必要とされるとおり、信号N
SETがローになった後、時刻T7に、信号PSETが
ハイになる。
【0056】図10を参照すると、遅延回路D4(図
8)の結果として、時刻T4に活動化された信号SON
は、最終的に時刻T8またはその前後に図8の復号器6
1に入り、奇数ワード線を活動化する。その後、時刻T
9に、行選択信号REバーがハイになり、その結果とし
て時刻T10にすべてのワード線がオフになる。この時点
で、このメモリ・アレイのセルは論理1に充電されてい
る。真ビット線のセルはハイすなわち1に充電され、補
ビット線のセルはローすなわち0に充電される。
【0057】時刻T11に、信号SONがローになり、そ
の結果、信号NSETと信号PSETが等化状態に戻
る。時刻T12に、信号EOFFがローになり、時刻T13
に等化信号をオンにし、それによってビット線BLとB
Lバーが等化状態に戻る。
【0058】図11は、メモリ・アレイのすべてのメモ
リ・セルに論理0を書き込むのに必要な信号のシーケン
スを示す図である。図11と図10を比較すると、2つ
の例外だけを除いて同じであることがわかる。第1に、
奇数ワード線が時刻T1に活動化され、第2に、偶数ワ
ード線が時刻T8に活動化される。これは、復号器61
(図8)が線A0を介して1ではなく0を受け取ること
によるものである。その結果、すべての奇数ワード線が
最初にオンになる。したがって、偶数ワード線は、信号
SONが遅延回路D4を通過した後に復号器61に入る
まで、オンにならない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の試験装置を利用する、DRAMの主要
構成要素の全体的概略図である。
【図2】本発明の1態様を実施したDRAMの回路の関
連部分を示す図である。
【図3】通常動作中のDRAMの主な信号の一部を示す
タイミング図である。
【図4】本発明の装置がメモリ・アレイのすべてのセル
を論理1で充電する時の、関連信号のシーケンスを示す
タイミング図である。
【図5】本発明の装置がメモリ・アレイのすべてのセル
を論理0で充電する時の、関連信号のシーケンスを示す
タイミング図である。
【図6】本発明の代替実施態様を実施したDRAMの回
路の関連部分を示す図である。
【図7】図6に示した試験制御回路の一部分の可能な構
成の1つを示す図である。
【図8】図6の行制御回路の一部分の可能な構成の1つ
を示す図である。
【図9】図6の制御回路のうち、等化信号とPSET信
号およびNSET信号を制御する部分の可能な構成の1
つを示す図である。
【図10】本発明の実施中に図6、図7、図8および図
9に示した回路を使用して生成される、メモリ・アレイ
のメモリ・セルを論理1で充電するための信号のシーケ
ンスを示すタイミング図である。
【図11】本発明の実施中、図6、図7、図8および図
9に示した回路を使用して生成される、メモリ・アレイ
のメモリ・セルを論理0で充電するための信号のシーケ
ンスを示すタイミング図である。
【符号の説明】
20 DRAM 21 メモリ・アレイ 22 列復号回路 23 センス増幅器バンク 24 等化器バンク 25 行復号回路 26 制御回路 27 試験回路 28 通常制御信号回路 30 メモリ・セル 31 メモリ・セル 32 メモリ・セル 33 メモリ・セル 35 センス増幅器 36 等化器 39T 真ビット線 39C 補ビット線 51 標準試験モード回路 52 試験モード復号器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハワード・レオ・カルター アメリカ合衆国 05446 バーモント州 コルチェスター ヴィレッジ・ドライブ 14

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】それぞれビット線対の第1ビット線への第
    1組のメモリ・セルのセルの接続を制御する、第1組の
    ワード線をオンにするステップと、 ビット線対の第1ビット線上の電荷がビット線対の第2
    ビット線上の電荷より高くなるようにするために、ビッ
    ト線対のビット線の間の電圧を等化するステップと、 ビット線対の間の電荷の差を感知し、第1組のメモリ・
    セルを充電するために、ビット線対に接続されたセンス
    増幅器をオンにするステップとを含む、集積回路メモリ
    ・モジュールの複数のメモリ・セル内の電圧を同時に設
    定する方法。
  2. 【請求項2】さらに、第1組のメモリ・セルを充電した
    後に、第1組のワード線をオフにするステップを含む、
    請求項1の方法。
  3. 【請求項3】センス増幅器および等化手段に接続され
    た、対になった第1ビット線および第2ビット線と、 第1の複数のメモリ・セルへの第1ビット線の接続を制
    御する、第1組のワード線と、 第2の複数のメモリ・セルへの第2ビット線の接続を制
    御する、第2組のワード線と、 第2組のワード線をオフに保ちながら第1組のワード線
    をオンにする手段と、 第1組のワード線がオンになる間等化手段をオンに保
    ち、その後、等化手段をオフにする手段と、 等化手段がオフになった後に、センス増幅器をオンにす
    る手段と、 その後、第1組のワード線をオフにする手段とを具備す
    る、半導体メモリ・デバイスの複数のメモリ・セルに一
    括書込みするための装置。
  4. 【請求項4】さらに、センス増幅器がオンになった後に
    第2組のワード線をオンにする手段と、第2組のワード
    線と第1組のワード線とを同時にオフにする手段とを具
    備する、請求項3の装置。
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JPH01196797A (ja) * 1988-01-30 1989-08-08 Hitachi Ltd 半導体記憶装置

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