JPS63233982A - イソチアゾールスルホンアミド誘導体および除草剤 - Google Patents

イソチアゾールスルホンアミド誘導体および除草剤

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JPS63233982A
JPS63233982A JP27111087A JP27111087A JPS63233982A JP S63233982 A JPS63233982 A JP S63233982A JP 27111087 A JP27111087 A JP 27111087A JP 27111087 A JP27111087 A JP 27111087A JP S63233982 A JPS63233982 A JP S63233982A
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JP
Japan
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group
alkyl group
tables
lower alkyl
formulas
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Application number
JP27111087A
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English (en)
Inventor
Susumu Yamamoto
進 山本
Takuya Tsunoda
角田 卓彌
Toshiaki Sato
敏明 佐藤
Katsuyuki Morita
勝之 森田
Eiichi Oya
大屋 栄一
Takashi Igai
猪飼 隆
Tsutomu Nawamaki
縄巻 勤
Shigeomi Watanabe
渡辺 重臣
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Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は新規なイソチアゾールスルホンアミド誘導体お
よびそれらの農業的に適している塩類および当該化合物
を有効成分とする除草剤に関するものである。
〔従来の技術〕
イネ、小麦、トウモロコシ、大豆、ワタ、ビート等重要
な作物を雑草害から守り増収をはかる為に除草剤を使用
することは欠くことができない。
特に近年はこれらの有用作物と雑草の混在する耕地にお
いて作物と雑草の茎葉部へ同時処理しても作物に対して
薬害を示さず雑草のみを選択的に枯殺しうる選択性除草
剤が望まれている。また、環境汚染防止、輸送、散布の
際の経済コスト低減等の観点から、できるだけ低薬量で
高い除草効果をあげる化合物の探索研究が長年にわたり
続けられている。このような特性を有する化合物のいく
つかは選択性除草剤として現在使用されているが、依然
としてこれらの性質を備える新しい化合物の需要も存在
する。
本発明化合物に構造が類似する先行技術としては、例え
ば特開昭58−219179号公報、特開昭59−14
80号公報および特開昭60−48988号公報にイソ
チアゾールスルホニルウレアが開示されているが本発明
化合物のごと(イソチアゾール環に複素環が置換した化
合物は従来全く知られておらず新規化合物である。
〔発明の態様] 本発明者らは、重要作物に対して選択性のある除草剤を
開発するため長年にわたる研渭をつづけ殺草力のより高
い、かつ選択性をもつ化合物を生み出すべく、多くの化
合物についてその除草特性を検討してきた。その結果一
般式(1)(R1、R2およびR3はそれぞれ独立して
水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキル基、
低級ハロゲン化アルキル基、シアノ基、C00RIO1
S(0)nR11、NR121?13 、低級アルコキ
シ基、5OzNR8R9、SO□0R11または置換さ
れていてもよいフェニル基(置換基はハロゲン原子、ニ
トロ基、C00RIO1低級アルコキシ基または低級ア
ルキル基から選ばれる。)を示す。
R4およびR5はそれぞれ独立して水素原子、ノーロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級ノ\ロゲン化アルキル基
、ニトロ基、シアノ基、C00RIO1S(0)nR1
1゜低級アルコキシ基または置換されていてもよいフェ
ニル基(置換基はハロゲン原子、C00RIO、ニトロ
基、低級アルコキシ基または低級アルキル基から選ばれ
る。)を示す。
R6およびR7はそれぞれ独立して水素原子、ノ10ゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基
またはC00RIOを示す。
R8およびR9はそれぞれ独立して水素原子または低級
アルキル基を示す。
Wlは酸素原子、イオウ原子またはN−RIOを示す。
R10は水素原子または低級アルキル基を示す。
R11は低級アルキル基、nは0.1または2の整数を
示す。
R12およびR13はそれぞれ独立して水素原子または
低級アルキル基を示す。〕 mは0.1または2の整数を示す。Rは水素原子または
低級アルキル基を示す。
Bは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキル
基、アリールアルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン
化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン化ア
ルケニル基、低級アルコキシアルキル基、アルキルカル
ボニル基、C0OR14、C0NR15R16,5(0
)nR1?、シアノ基、NR18R19、SO□NR2
0R21、011、置換されていてもよいベンゾイル基
(置換基はハロゲン原子または低級アルキル基から選ば
れる。)、置換されていてもよいフェニル基 (置換基
はハロゲン原子、ニトロ基、C00RIO1低級アルコ
キシ基または低級アルキル基から選ばれる。)またはQ
を示す。
R14は水素原子、置換されていてもよい低級アルキル
基(置換基は0RIOで置換されていてもよい低級アル
コキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化低級アルコキシ基
、シアノ基、フェノキシ基、低級アルコキシカルボニル
基、NRIORII 、低級シクロアルキル基、低級ア
ルキルチオ基または低級アルキルカルボニル基から選ば
れる。)、低級アルケニル基、ハロゲン化低級アルケニ
ル基、低級アルキニル基、ハロゲン化低級アルキニル基
、低級シクロアルキル基またはベンジル基を示す。
R15は水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を
示す。R16は水素原子、低級アルキル基または低級ア
ルコキシ基を示す。
R17は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニル
基、ハロゲン化アルキル基、低級アルケニルオキシ基ま
たは低級アルキニルオキシ基を示す。
nは0,1または2の整数を示す。
R18およびR19はそれぞれ独立して水素原子、低級
アルキル基、低級アルキルカルボニル基または低級アル
キルスルホニル基を示す。
R20およびR21はそれぞれ独立して水素原子、低級
アルキル基、低級アルキニル基または低級アルキニル基
を示す。
Eは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基または低級アルコキシ基を示す。
〔XおよびYはそれぞれ独立して水素原子、)10ゲン
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコ
キシアルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級ハロゲン
化アルコキシ基、NR24R25、OCH(RIO) 
C00RIO1GOORIO、シクロプロピル基、C■
(oR26)z 、低級アルキルチオ基または低級ハロ
ゲン化アルキルチオ基を示す。
R24およびR25はそれぞれ独立して水素原子、低級
アルキル基または低級アルコキシ基を示す。
R26は低級アルキル基を示す。
XlおよびYlはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基または低
級アルコキシ基を示す。
x2は低級アルキル基、低級アルキルチオ基または低級
アルコキシ基を、Y2は低級アルキル基を示す。
Zは窒素原子またはC−R27を示す。
R27は水素原子、低級アルキル基、低級ハロゲン化ア
ルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基またはYあ
るいはYlと共に酸素原子を含む5員環構造を示す。
x3は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコ
キシアルキル基またはハロゲン原子を示す。
Y3は(11アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン
原子、モノアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基
を示す。
Y4はシアノ基、Co!RIO,ニトロ基、5(0)n
R11、アルキル基またはハロゲン化アルキル基を示す
zlは窒素原子またはC1fを示す。
x4およびY5はそれぞれ独立して、低級アルキル基ま
たは低級アルコキシ基を示す。〕 −は酸素原子、硫黄原子またはN −R28を示す。
R28は水素原子または低級アルコキシ基を示す。
W2は酸素原子または硫黄原子を示す。
R22は低級アルキル基を示す。
Azはハロゲン原子、ニトロ基もしくは低級アルキル基
でモノ、ジもしくはトリ置換されていてもよいイミダゾ
リル、イミダゾリニル、ピラゾリル、トリアゾリル又は
ベンズイミダゾリル基を示す。
(Q、R,mおよびBは前記と同じ意味を示す。)を示
す。
R23は水素原子、低級アルキル基または低級アルコキ
シ基を示す。】 で表されるイソチアゾールスルホンアミド誘導体および
それらの農業的に適している塩類(以下本発明化合物と
称する)が土壌処理、茎葉処理のいずれの場合にも多く
の雑草に対して強い殺草力を有しかつダイズ等の重要作
物に対して高い安全性を有することを見いだして本発明
を完成した。−古本発明化合物は従来の除草剤に比して
非常に低薬量で高い除草活性を示すことから果樹園、非
耕地用の除草剤としても有用である。
本発明のスルホンアミド誘導体はナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属塩、マグネシウム、カルシウムなどの
アルカリ土類金属塩あるいはジメチルアミン、トリエチ
ルアミン、イソプロピルアミンなどのアミン塩を形成す
ることもできる。
一般式(I)で表わされる本発明化合物は下記の反応式
1〜5のいずれかを選ぶことにより容易に製造できる。
〔式中、B、 E、 GI QI R,W21 mは前
記と同様の意味を示す。〕 すなわち、インチアゾールスルホニル(チオ)インシア
ナート誘導体(n)を、充分に乾燥したジオキサン、ア
セトニトリル等の不活性溶媒に溶かし、これに式(I[
[)で表わされるピリミジン、トリアジンまたはトリア
ゾール誘導体を添加し、撹拌することにより、一般的に
速やかに反応して本発明化合物の一部である(f)′が
得られる。
反応が進行しがたい場合には適当な塩基、例えばトリエ
チルアミン、トリエチレンジアミン、ピリジン、ナトリ
ウムアルコキシド、水素化ナトリウム等の微少量を添加
することにより容易に反応が進行する。
(V)           (IV)(I[I)  
         (I)’〔式中、B、E、G、Q、
RJ2.mは前記と同様の意味を示す。R29は低級ア
ルキル基またはフェニル基を示す。〕 すなわち、イソチアゾールスルホンアミド誘導体(V)
を、アセトン2メチルエチルケトン、アセトニトリル等
の溶媒中、炭酸カリウム等の塩基の存在下クロルギ酸(
チオ)エステルもしくは炭酸(チオ)エステルと反応さ
せることにより化合物(IV)を得る。次いでトルエン
等の溶媒中にて化合物(I[[)と加熱することにより
本発明化合物の一部である(I)′を得ることができる
c式中、B、E’、G、Q、R,鱈、R22,R23は
前記と同様の意味を示す、〕 〔式中、Az、B、E+G、Q、R9W2+a+、R2
2,R23は前記と同・様の意味を示す、〕 〔以 下 余 白〕 反玉i【[ 〔式中、AZIB+IE+GIQ、Rlmは前記と同様
の意味を示す。〕 すなわち反応式3〜5においては特開昭59−1675
70号公報、特開昭60−6654号公報、特開昭60
−36467号公報、特開昭61−60670号公報、
特開昭61−60684号公報および特開昭61−72
783号公報記載の方法に準じて本発明化合物の一部で
ある上記イソチアゾールスルホンアミド誘導体を合成す
ることができる。
〔以 下 余 白〕
反応式lおよび反応式2で用いられる原料のイソチアゾ
ールスルホニル(チオ)イソシアナート(n)或いはイ
ソチアゾールスルホニル(チオ)カーバメート誘導体(
IV)は以下に記載する方法を適宜選択してイソチアゾ
ールスルホンアミド(■)を合成し、さらにヨーロッパ
特許出願公開Nα87.780号公報及び特開昭55−
13266号公報等に記載されている方法を参考にして
合成できる。
本発明に用いられる中間体のイソチアゾールスルホンア
ミドもまた新規化合物でありこれらは以下の反応式6〜
11の方法および特開昭59−1480号公報、特開昭
60−48988号公報等に記載の方法を適宜選択する
ことによって得ることができる。
反玉潴【L (V) 反m (V) (V) (a)  NaN0. ・1Icjl!  or Na
N0. ・1lBr(b)  so!・Cu塩 (C)  N H3、N Ha OII o r炭酸ア
ンモニウム(d)  KSC(S)O1l!t/H20
(e)  NaOH/HzO (f)  Na011・NlInOH/Na0Cj!(
(2)酸化剤 (h)  C1z/Cll3COzH・HzOor N
a0CI!、/HCj!(i)  1) n−BuLi
 or LiN(i−Pr)z2)SO□ 3) N−クロルコハク酸イミド (j)  1) (/!SOJ   2) 5OCj!
z or PCfs〔反応式6〜9中、B、Q、R4は
前記と同様の意味を示し、Halはハロゲン原子を示す
。〕反応式6に従えばアミノイソチアゾールを塩酸また
は臭化水素酸等のなかで亜硝酸ナトリウム等でジアゾニ
ウム塩とし、銅塩等のジアゾニウム分解に通常用いられ
る触媒存在下、二酸化イオウを作用させることで対応す
るイソチアゾールスルホニルハライドを得る。これにア
ンモニア水を作用させると目的とするイソチアソ゛−ル
スルホンアミド(V)が得られる。
反応式7に従えば、アミノイソチアゾールを反応式6と
同様にジアゾニウム塩とし、キサントゲン酸カリウムと
作用させることにより、イソチアゾール環にイオウ原子
を導入することができる。
次いで酢酸/水等の溶媒中塩素で酸化することにより直
接イソチアゾールスルホニルクロライトラ得ることがで
きる0反応式6と同様、アンモニア水を作用させると目
的とするイミダゾールスルホンアミド(V)が得られる
。またアルカリ加水分解して得られるメルカプトイソチ
アゾールをスルフェンアミドとし、これを酸化すること
により目的のイソチアゾールスルホンアミド(V)を得
ることもできる。 反応式8に従えばブロモイソチアゾ
ールをブチルリチウム等の有機リチウム試薬を用いてリ
チオ化し、さらに二酸化イオウ、N−クロルコハク酸イ
ミドを処理しインチアゾールスルホニルクロライドとし
アンモニア水を処理することにより目的とするイソチア
ゾールスルホンアミド 反応式9に従えば、クロルスルホン酸にて直接イソチア
ゾールスルホニルクロライドを得、前記と同様の操作に
よりインチアゾールスルホンアミド(V)を得ることが
できる。
上記の反応の出発原料として用いられるイミダゾール類
の化学に関する一般的文献には下記のものがある。K.
R.)1.ウールトリジ(Wooldridge)、ア
トパンシーズ・イン・ヘテロサイクリック・ケミストリ
ー (Adv. Ileterocycl. Chem
.)  1. 4巻1頁1972年,アカデミ・ンクブ
レス(八cademic Press) 、D.L.パ
イン(Pain)、 B.J.ペアート(Peart)
およびに、I?.llウールトリジ(Wooldrfd
ge)、コンプリヘンシブ・ヘテロサイクリック・ケミ
ストリー(Comprehensive Ileter
ocyclic Chemistry) 6巻I3I頁
1984年,パーガモンプレス(Pergamon P
resS)。
C以下余白〕 6例えば、出発原料であるアミノイソチアゾール誘導体
に関しては、反応式10に示すように、特開昭58 −
 38275号公報および米国特許4,539.328
号公報に記載されている方法に準じて合成することがで
きる。
〔式中、Q, Rおよびmは前記と同様の意味を示す。
Bは、アルキルカルボニル基、COOR14。
COOR15R16.SOtR17,  シアノ基, 
SO2NR’20R21,置換されていてもよいベンゾ
イル基または置換されていてもよいフェニル基またはQ
を示し、R14。
R15,R16,R17,R20およびR21は前記と
同様の意味を示す。TsClはバラトルエンスルホニル
クロライドを示し、”Buはターシャリ−ブチル基を示
す。〕 上記の他、反応式11に示すように、イソチアゾールス
ルホニルクロライド(特開昭59−1480号公報なら
びに特開昭60 − 48988号公報に記載の化合物
)を原料とし、有機リチウム試薬によるメタレーション
を経て、イソチアゾールスルホンアミド(V)を得るこ
ともできる。
(V) 〔式中、Q、  R,m 、 R14および’−Buは
前記と同様の意味を示し、Bは、低級アルキル、ハロゲ
ン原子および cozR14を示し、Hafはハロゲン
原子を示す。〕 通常当業者であれば、前記の記載および前述の公知技術
より実験条件等の検討を行うことにより、本発明化合物
の中間体を得ることは可能である。
以下に、本発明化合物及び中間体のイソチアゾールスル
ホンアミドの合成例を実施例として具体的に述べるが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。
災施■上 N−〔5−エトキシカルボニル−3−(2−ピリジル)
イソチアゾール−4−スルホニル〕エチルカーバメート
の合成 1)2−ピリジンアセトニトリル42.5 gをメタノ
ール100mjl!に溶解し、冷却したのち水酸化ナト
リウム15.5 gを加え、次いで、10°C以下にて
ターシャリ−ブチルナイトライド44.6 gを加えた
。室温にて一夜撹拌後、反応混合物を減圧上濃縮し、残
渣にトルエン300mff1および水500mj!を加
え、水層を分離した。水層を濃塩酸にて酸性とすること
により析出した結晶を濾取し乾燥すると、2−(2−ピ
リジル)−2−ヒドロキシイミノアセトニトリル50.
5 gを得た。融点213〜214°C 2)前記l)で得られた2−(2−ピリジル)−2−ヒ
ドロキシイミノアセトニトリル48.8 gをピリジン
25On+j!に加え撹拌下3〜6℃にてパラトルエン
スルホニルクロライド75.9 gを少量ずつ加えた。
室温にて一夜撹拌後、反応混合物を氷水に注ぎ、析出し
た結晶を濾取、水洗、乾燥すると、2−(2−ピリジル
)  −2−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)
イミノアセトニトリル95.7 gを得た。融点123
〜130°C03)前記2)で得られた2−(2−ピリ
ジル)−2−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)
イミノアセトニトリル50.0 gをエタノール700
+alに溶解し、トリエチルアミン52gを滴下ムた。
次いでチオグリコール酸エチル22gを約5℃にて4時
間にわたり滴下した。同温度にて6時間撹拌した後、室
温にて一夜撹拌した。反応混合物を減圧上濃縮し、残渣
を氷水に注ぎ、析出した結晶を濾取した。結晶を水洗お
よび小量のエーテルにて洗浄した後、乾燥すると、4−
アミノ−5−エトキシカルボニル−3−(2−ピリジル
)イソチアゾール27.5 gを得た。融点100〜1
01°C0 4)前記3)で得られた4−アミノ−5−エトキシカル
ボニル−3−(2−ピリジル)イソチアゾール15.0
 gを濃塩酸15.6 gおよび水20mj2の溶液に
加え、−10〜−5°Cにて亜硝酸ナトリウム4.6g
の水溶液10m1を滴下した。同温度にて30分撹拌後
、得られたジアゾニウム塩の溶液を、キサントゲン酸カ
リウム19.2 gおよび水30sfの溶液に50〜5
5°Cにて滴下した。
45〜50℃にて45分撹拌したのち、反応混合物をク
ロロホルムにて抽出した。クロロホルム層を水洗後、約
1001I11程度に濃縮し、氷水100tanを加え
、激しく撹拌しつつ塩素を吹き込んだ。
5〜15℃にて1.5時間にわたり塩素を吹き込んだ後
、反応混合物を短時間減圧濃縮し、過剰の塩素を除いた
。残渣を、28%アンモニア水100m1!に0℃以下
にて加えた後、室温にて1時間撹拌した。反応混合物を
クロロホルムにて抽出し、有機層を水洗、乾燥後、減圧
濃縮すると、油状物19gを得た。得られた油状物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製すること
により、5−エトキシカルボニル−3−(2−ピリジル
)イソチアゾール−4−スルホンアミド7.2gを得た
。        融点141〜142℃。
5)前記4)で得られた5−エトキシカルボニル−3−
(2−ピリジル)インチアゾール−4−スルホンアミド
2.0g、クロルギ酸エチル0.83 g、無水炭酸カ
リウム1.3gおよび′アセトニトリル30II+2の
混合物を、加熱還流下1.5時間撹拌した。反応混合物
を減圧濃縮し、残渣に氷水を加え、クロロホルムにて抽
出した。水層を分離し、濃塩酸にて、酸性とすることに
より、析出した結晶を濾過し、水洗、ジイソプロピルエ
ーテルにて洗浄後、乾燥すると、N−(5−エトキシカ
ルボニル−3−(2−ピリジル)イソチアゾール−4−
スルホニル〕エチルカーバメート0.8gを得た。
融点130〜l 31 ”C。
ス崖1(化合物M、1) N−((4,6−シメトキシピリミジンー2−イル)ア
ミノカルボニル〕−5−エトキシカルボニル−3−(2
−ピリジル)イソチアゾール−4−スルホンアミドの合
成 N−〔5−エトキシカルボニル−3−(2−ピリジル)
イソチアゾール−14−スルホニル〕エチルカーバメー
ト0.7gおよび2−アミノ−4,6−シメトキシビリ
ミジン0.25 gをトルエン30m1中、トルエンを
少量ずつ留去しつつ、2時間加熱還流した。反応後放冷
し、析出した結晶を濾過した。得られた結晶をトルエン
にて再結晶し、濾取、乾燥することにより目的物0.4
gを得た。融点170〜172°C0 ユ」範例3(化合物Nα2) N−((4,6−シメチルビリミジンー2−・イル)ア
ミノカルボニル〕−5−エトキシカルボニル=3−(2
−ピリジル)イソチアゾール−4−スルホンアミドの合
成 実施例2に準し、N−〔5−エトキシカルボニル−3−
(2−ピリジル)イソチアゾール−4−スルホニル〕エ
チルカーバメートおよび2−アミノ−4,6−ジメチル
ピリミジンを原料として目的物を合成した。融点143
〜146°C0裏血■土 3−エトキシカルボニル−5−(2−ピリジル)イソチ
アゾール−4−スルホンアミドの合成1)2− (4−
メチルフェニルスルホニルオキシイミノ)シアノ酢酸エ
チル56.8gおよびエタノール200m lの混合物
に、エタノール50s+1に溶解した2−メルカプトメ
チルピリジン24.0gを5〜10°Cにて、20分間
にわたり滴下した。室温にて1時間撹゛拌した後、反応
混合物を炭酸水素ナトリウム16、1gの水溶液500
m lに注ぎ、ベンゼンにて抽出した。有機層を水洗、
乾燥後、溶媒を減圧留去し、47.5gの抽出物を得た
。得られた油状物を3日間放置後、析出した結晶を濾過
し、アセトニトリルにて洗浄し、乾燥することにより、
4−アミノ−3−エトキシカルボニル−5−(2−ピリ
ジル)イソチアゾール26.2gを得た。
融点121〜122℃。
2)前記1)で得られた4−アミノ−3−エトキシカル
ボニル−5−(2−ピリジル)イソチアゾール20.0
gを出発原料として、実施例1−4)に準じて合成する
ことにより3−エトキシカルボニル−5−(2−ピリジ
ル)イソチアゾール−4−スルホンアミド2.2gを得
た。
融点157〜160°C0 実」1列i(化合物漱5) N−((4,6−シメトキシピリミジンー2−イル)ア
ミノカルボニル〕−3−エトキシカルボニル−5−(2
−ピリジル)イソチアゾール−4−スルホンアミドの合
成 3−エトキシカルボニル−5−(2−ピリジル)イソチ
アゾール−4−スルホンアミド9.4g、 N −C(
4,6−シメトキシピリミジンー2−イル)カルバミン
酸フェニル0.35gおよびアセトニトリル10a+1
の混合物に、1.8−ジアザビシクロ[5,4,0] 
−]7−ウンデセン0.17を加え、室温にて30分間
撹拌した。反応混合物に氷水50m1を加え、濾過し濾
液を酢酸にて酸性とした。析出した結晶を濾過し、水洗
後、エーテルにて洗浄し、乾燥することにより目的物0
.5gを得た。
融点152〜154°C0 実施例に準じて合成した化合物およびその物性値を、実
施例2.3、および5の化合物を含めて以下に示す。
化合物No、 1 イ1.ユ。2  射170〜172°。
イ、。、。3   1点 143〜146℃融点 16
0〜163℃ 化合物Nα4 融点 151〜154℃ 化合物Nα5 融点 152〜154℃ 化合物に6 融点 103〜106℃ 化合物Nα7 融点 111〜114℃ 化合物に8 次に本発明に含まれる化合物の例を、前記実施例で合成
した化合物を含め以下の第1表より第6表に示すが本発
明化合物はこれらに限定されるものではない。
ただし1表中の記号はそれぞれ以下の意味を示す。
Me:メチル基、Et:エチル基、Pr−n :ノルマ
ルプロピル基、Pr−1:イソプロビル基、Ph:フェ
ニル15Gnは以下の意味を表す。
Ga=61〜G35 、Gb=G1〜G6、GC=61
〜G3」al        」al 〔以 下 余 白〕 Onは以下の意味を表す。
〔以 下 余 白〕
CHコ                C11,HC
l1゜ I C11゜ にH3にH。
C11゜ A                  B     
      GnA                
 B           GnA         
       B          Gn八    
             〇           
GnA                B     
     Gn八へGn A                 [I     
      GnA                
 II           Gn八BGn A                  B     
      GnA                
 B           Gn八BGn A                  B     
      Gn八BGn A                  B     
      GnA                
[I          Gn以下余白 八BGn A                 B      
’     G。
A                B       
   GnA                B  
        GnA              
     B             GnA   
             B          G
nA                [I     
     GnA                 
 B           GnA         
        B           GnA  
               〇         
  GnA                B   
       Gn^               
  B           Gn八        
        〇           Gn八  
             〇          G
nA               B       
   Gn以下余白 A        [IE        W    
    GnA       B       R22
W2       Gn以下余白 本発明化合物を除草剤として施用するにあたっては一般
には適当な担体、例えばクレー、タルク、ベントナイト
、珪藻土等の固体担体あるいは水、アルコール(メタノ
ール、エタノール等)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、
トルエン、キシレン等)、塩素化炭化水素類、エーテル
類、ケトン類、エステル類(酢酸エチル等)、酸アミド
類(ジメチルホルムアミド等)などの液体担体と混用し
て適用することができ、所望により乳化剤、分散剤、懸
濁剤、浸透剤、展着剤、安定剤などを添加し、液剤、乳
剤、水和剤、粉剤、粒剤等任意の剤型にて実用に供する
ことができる。
次に本発明化合物を有効成分とする除草剤の配合例を示
すがこれらのみに限定されるものではない。
なお、以下の配合例において「部」は重量部を意味する
L金■上 水和剤 本発明化合物 胤1 −−−−−−・・−・−・−・ 
20部ジークライトA ・−・−・・−・−・−−一−
−−−・−76部(カオリン系クレー:ジークライト工
業■商品名)ツルポール5039 −−−−−−−−一
・−−m−−・−・ 2部(非イオン性界面活性剤とア
ニオン性界面活性剤との混合物:東邦化学■商品名) カープレックス(固結防止剤)・−・−・2部(ホワイ
トカーボン:塩野義製薬■商品名)以上を均一に混合粉
砕して水和剤とする。
1伍性l 水和剤 本発明化合物 Nα2・・−・−−−−一−・−・−−
−一−−・・40部ジークライトA ・・−・−−−−
一−−−−−・−・−54部(カオリン系クレー:ジー
クライト工業■商品名)ツルポール5039 ・−・−
・・・−−−−−・−2部(非イオン性界面活性剤とア
ニオン性界面活性剤との混合物:凍邦化学■商品名) カープレックス(固結防止剤)  −−−−−−4部(
ホワイトカーボン:塩野義製薬■商品名)以上を均一に
混合粉砕して水和剤とする。
酊企桝l 乳剤 本発明化合物 Nα1 −−−−−・−・−・・−5部
キ  シ  し  ン   m−−・・−・−一−−−
・−一−−−・−・−75部ジメチルホルムアミド ・
−−−−−−−一・−・−15部ツルポール2680 
・−・−・−・  5部(非イオン性界面活性剤とアニ
オン性界面活性剤との混合物:東邦化学■商品名) 以上を均一に混合して乳剤とする。使用に際しては上記
乳剤を10〜10,000倍に希釈して有効成分量かへ
クタール当たり0.005kg〜10kgになるように
散布する。
【企適土 フロアブル 本発明化合物 阻1 ・−・−・・・・−・−・・25
部アゲリシールS −710−−−−−−−10部(非
イオン性界面活性剤:花王■商品名)ルノックx 10
00 C−−−−−−−−−−0,5部(アニオン性界
面活性剤:東邦化学■商品名)1%ロドボール水 −・
−・−・・−・〜 2部部(増粘剤:ローン・ブーラン
社商品名)水    ・−・−・・−−−−・−−−−
一−−−−−・−一−−−−−−−−−−−−・・・ 
44.5部以上を均一に混合してフロアブル剤とする。
に企■エ フロアブル 本発明化合物 Na2 −・−・−−〜−−−−−−4
0部アゲリシールS−710−・・・・−10部(非イ
オン性界面活性剤:花王■商品名)ルノックス100O
C−・・−・−・−・ 0.5部(アニオン性界面活性
剤:東邦化学■商品名)1%ロドポール水 ・−・−・
−・−・−・−20部(増粘剤:ローン・ブーラン社商
品名)水     −・・−−−−−−・−・−−−−
−−−−−−一−−−・−・−・−29,5部以上を均
一に混合してフロアブル剤とする。
N金■旦 粒剤 本発明化合物 漱1−−−−−−・・−・−−−−−−
−−1部ベントナイト    −・−・−・−・−・−
55部タルク       −・・−・−・−・−・−
44部以上を均一に混合粉砕して後、少量の水を加えて
撹拌混合捏和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤
にする。
、また、本発明化合物は必要に応じて製剤または散布時
に他種の除草剤、各種殺虫剤、殺菌剤、共力剤などと混
合施用しても良い。
上記の他種の除草剤としては、例えば、ファーム・ケミ
カルズ、ハンドブック(Farm Chemicals
Handbook) 1986年版に記載されている化
合物などがある。
なお、本発明化合物は畑地、水田、果樹園などの農園芸
分野以外に運動場、空地、線路端など非農肪地における
各種雑草の防除にも適用することができ、その施用薬量
は適用場面、施用時期、施用方法、対象草種、栽培作物
等により差異はあるが、一般には有効成分量としてヘク
タール当たり0.005〜10kg程度が適当である。
次に、本発明化合物の除草剤としての有用性を以下の試
験例において具体的に説明する。
m二重 土壌処理による除草効果試験 縦15cm、横22cm、深さ60111のプラスチッ
ク製箱に殺菌した洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、
カヤツリグサ、イヌホーズキ、ハキダメギク、イヌガラ
シ、稲、トーモロコシ、コムギ、ダイズ、ワタ、を混播
し、約1.5cm覆土した後有効成分量が所定の割合と
なるように土壌表面へ均一に散布した。
散布の際の薬液は、前記配合例の水和剤を水で希釈して
小型スプレーで全面に散布した。薬液散布4週間後に稲
および各種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に従
い調査した。
結果は第7表に示す。
本発明化合物のいくつかは、ある種の作物に対して選択
性を有する。
判定基準 5− 殺草率 90%以上(はとんど完全枯死)4−・
−殺草率 70〜90% 3・−殺草率 40〜70% 2・−・殺草率 20〜40% 1・−殺草率  5〜20% 0・−・殺草率  5%以下(はとんど効力なし)但し
、上記の殺草率は、薬剤処理区の地上部生草重および無
処理区の地上部生草重を測定して下記の式により求めた
ものである。
〔以 下 余 白〕
第7表 跋狂皿二l 茎葉処理による除草効果試験縦15cm、
横22cm、深さ6cmのプラスチック製箱に殺菌した
洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、カヤツリグサ、イ
ヌホーズキ、ハキダメギク、イヌガラシ、稲、トーモロ
コシ、コムギ、ダイズ、ワタ、ビートの種子をそれぞれ
スポット状に播種し約1.5cm覆土した。各種植物が
2〜3葉期に達したとき、有効成分量が所定の割合とな
るように茎葉部へ均一に散布した。散布の際の薬液は、
前記配合例の水和剤を水で希釈して小型スプレーで各種
雑草の茎葉部の全面に散布した。薬液散布4週間後に稲
および各種雑草に対する除草効果を試験例−1の判定基
準に従い調査した。結果は第8表に示す。
〔以 下 余 白〕
第8表 0.0253555555505 ’510.0454
5555555255 0.0B 555555555455 0.02325555000555 5 0.044 3 5 5 5 5 0 0 0 5
 5 50.08545555111555 G、02325555000555 70.04435555000555 0.08545555111555 R簾皿二主 大豆播種直後の適用試験(土壌処理)縦3
0cm、横30cm、深さ12cmのプラスチック製ポ
ットに殺菌した洪積土壌を入れ、大豆、ジョンソングラ
ス、ヒエ、エノコログサ、オヒシバ、オナモミ、チョウ
センアサガオ、マルバアサガオ、イチと、キンゴジカ、
イヌビニ、ツノクサネムの種子をそれぞれ播種し、約1
.5cm覆土した。またハマスゲの塊茎を約1.5cm
の深さに植えつけた。播種翌日に有効成分量が所定の割
合になるように土壌表面へ均一に散布した。散布の際の
薬液は前記配合例の水和剤を水で希釈して小型スプレー
で全面に散布した。薬液散布口週間後に各種雑草に対す
る除草効果を試験例−の判定基準に従い調査した。結果
を第9表に示す。
〔以下余白〕
第9表

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 【式中Qは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
    、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等が
    あります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼または▲数式、化学式、表等がありま
    す▼ を示す。 〔R1、R2およびR3はそれぞれ独立して水素原子、
    ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキル基、低級ハロゲ
    ン化アルキル基、シアノ基、COOR10、S(O)_
    nR11、NR12R13、低級アルコキシ基、SO_
    2NR8R9、SO_2OR11または置換されていて
    もよいフェニル基(置換基はハロゲン原子、ニトロ基、
    COOR10、低級アルコキシ基または低級アルキル基
    から選ばれる。)を示す。 R4およびR5はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン
    原子、低級アルキル基、低級ハロゲン化アルキル基、ニ
    トロ基、シアノ基、COOR10、S(O)_nR11
    、低級アルコキシ基または置換されていてもよいフェニ
    ル基(置換基はハロゲン原子、COOR10、ニトロ基
    、低級アルコキシ基または低級アルキル基から選ばれる
    。)を示す。 R6およびR7はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン
    原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基ま
    たはCOOR10を示す。 R8およびR9はそれぞれ独立して水素原子または低級
    アルキル基を示す。 W1は酸素原子、イオウ原子またはN−R10を示す。 R10は水素原子または低級アルキル基を示す。 R11は低級アルキル基、nは0、1または2の整数を
    示す。 R12およびR13はそれぞれ独立して水素原子または
    低級アルキル基を示す。〕 mは0、1または2の整数を示す。Rは水素原子または
    低級アルキル基を示す。 Bは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキル
    基、アリールアルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン
    化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン化ア
    ルケニル基、低級アルコキシアルキル基、アルキルカル
    ボニル基、COOR14、CONR15R16、S(O
    )_nR17、シアノ基、NR18R19、SO_2N
    R20R21、OH、置換されていてもよいベンゾイル
    基(置換基はハロゲン原子または低級アルキル基から選
    ばれる。)、置換されていてもよいフェニル基(置換基
    はハロゲン原子、ニトロ基、COOR10、低級アルコ
    キシ基または低級アルキル基から選ばれる。)またはQ
    を示す。 R14は水素原子、置換されていてもよい低級アルキル
    基(置換基はOR10で置換されていてもよい低級アル
    コキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化低級アルコキシ基
    、シアノ基、フェノキシ基、低級アルコキシカルボニル
    基、NR10R11、低級シクロアルキル基、低級アル
    キルチオ基または低級アルキルカルボニル基から選ばれ
    る。)、低級アルケニル基、ハロゲン化低級アルケニル
    基、低級アルキニル基、ハロゲン化低級アルキニル基、
    低級シクロアルキル基またはベンジル基を示す。 R15は水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を
    示す。R16は水素原子、低級アルキル基または低級ア
    ルコキシ基を示す。 R17は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニル
    基、ハロゲン化アルキル基、低級アルケニルオキシ基ま
    たは低級アルキニルオキシ基を示す。 nは0、1または2の整数を示す。 R18およびR19はそれぞれ独立して水素原子、低級
    アルキル基、低級アルキルカルボニル基または低級アル
    キルスルホニル基を示す。 R20およびR21はそれぞれ独立して水素原子、低級
    アルキル基、低級アルケニル基または低級アルキニル基
    を示す。 Tは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
    式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
    す▼、 または▲数式、化学式、表等があります▼を示す。 Eは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
    級アルキニル基または低級アルコキシ基を示す。 Gは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
    式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
    す▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼を示す。 〔XおよびYはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
    子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
    シアルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級ハロゲン化
    アルコキシ基、NR24R25、OCH(R10)CO
    OR10、COOR10、シクロプロピル基、CH(O
    R26)_2、低級アルキルチオ基または低級ハロゲン
    化アルキルチオ基を示す。 R24およびR25はそれぞれ独立して水素原子、低級
    アルキル基または低級アルコキシ基を示す。 R26は低級アルキル基を示す。 X1およびY1はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン
    原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基または低
    級アルコキシ基を示す。 X2は低級アルキル基、低級アルキルチオ基または低級
    アルコキシ基を、Y2は低級アルキル基を示す。 Zは窒素原子またはC−R27を示す。 R27は水素原子、低級アルキル基、低級ハロゲン化ア
    ルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基またはYあ
    るいはY1と共に酸素原子を含む5員環構造を示す。 X3は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコ
    キシアルキル基またはハロゲン原子を示す。 Y3は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
    子、モノアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基を
    示す。 Y4はシアノ基、CO_2R10、ニトロ基、S(O)
    _nR11、アルキル基またはハロゲン化アルキル基を
    示す。 Z1は窒素原子またはCHを示す。 X4およびY5はそれぞれ独立して、低級アルキル基ま
    たは低級アルコキシ基を示す。〕 Wは酸素原子、硫黄原子またはN−R28を示す。 R28は水素原子または低級アルコキシ基を示す。 W2は酸素原子または硫黄原子を示す。 R22は低級アルキル基を示す。 Azはハロゲン原子、ニトロ基もしくは低級アルキル基
    でモノ、ジもしくはトリ置換されていてもよいイミダゾ
    リル、イミダゾリニル、ピラゾリルトリアゾリル又はベ
    ンズイミダゾリル基を示す。 Jは低級アルキル基または▲数式、化学式、表等があり
    ます▼基 (Q、R、mおよびBは前記と同じ意味を示す。)を示
    す。 R23は水素原子、低級アルキル基または低級アルコキ
    シ基を示す。】 で表されるイソチアゾールスルホンアミド誘導体および
    それらの農業的に適している塩類。
  2. (2)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 【式中Qは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
    、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等が
    あります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼または▲数式、化学式、表等がありま
    す▼ を示す。 〔R1、R2およびR3はそれぞれ独立して水素原子、
    ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキル基、低級ハロゲ
    ン化アルキル基、シアノ基、COOR10、S(O)_
    nR11、NR12R13、低級アルコキシ基、SO_
    2NR8R9、SO_2OR11または置換されていて
    もよいフェニル基(置換基はハロゲン原子、ニトロ基、
    COOR10、低級アルコキシ基または低級アルキル基
    から選ばれる。)を示す。 R4およびR5はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン
    原子、低級アルキル基、低級ハロゲン化アルキル基、ニ
    トロ基、シアノ基、COOR10、S(O)_nR11
    、低級アルコキシ基または置換されていてもよいフェニ
    ル基(置換基はハロゲン原子、COOR10、ニトロ基
    、低級アルコキシ基または低級アルキル基から選ばれる
    。)を示す。 R6およびR7はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン
    原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基ま
    たはCOOR10を示す。 R8およびR9はそれぞれ独立して水素原子または低級
    アルキル基を示す。 W1は酸素原子、イオウ原子またはN−R10を示す。 R10は水素原子または低級アルキル基を示す。 R11は低級アルキル基、nは0、1または2の整数を
    示す。 R12およびR13はそれぞれ独立して水素原子または
    低級アルキル基を示す。〕 mは0、1または2の整数を示す。Rは水素原子または
    低級アルキル基を示す。 Bは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキル
    基、アリールアルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン
    化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン化ア
    ルケニル基、低級アルコキシアルキル基、アルキルカル
    ボニル基、COOR14、CONR15R16、S(O
    )_nR17、シアノ基、N18R19、SO_2NR
    20R21、OH、置換されていてもよいベンゾイル基
    (置換基はハロゲン原子または低級アルキル基から選ば
    れる。)、置換されていてもよいフェニル基(置換基は
    ハロゲン原子、ニトロ基、COOR10)低級アルコキ
    シ基または低級アルキル基から選ばれる。)またはQを
    示す。 R14は水素原子、置換されていてもよい低級アルキル
    基(置換基はOR10で置換されていてもよい低級アル
    コキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化低級アルコキシ基
    、シアノ基、フェノキシ基、低級アルコキシカルボニル
    基、NR10R11、低級シクロアルキル基、低級アル
    キルチオ基または低級アルキルカルボニル基から選ばれ
    る。)、低級アルケニル基、ハロゲン化低級アルケニル
    基、低級アルキニル基、ハロゲン化低級アルキニル基、
    低級シクロアルキル基またはベンジル基を示す。 R15は水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を
    示す。R16は水素原子、低級アルキル基または低級ア
    ルコキシ基を示す。 R17は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニル
    基、ハロゲン化アルキル基、低級アルケニルオキシ基ま
    たは低級アルキニルオキシ基を示す。 nは0、1または2の整数を示す。 R18およびR19はそれぞれ独立して水素原子、低級
    アルキル基、低級アルキルカルボニル基または低級アル
    キルスルホニル基を示す。 R20およびR21はそれぞれ独立して水素原子、低級
    アルキル基、低級アルケニル基または低級アルキニル基
    を示す。 Tは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
    式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
    す▼、 または▲数式、化学式、表等があります▼を示す。 Eは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
    級アルキニル基または低級アルコキシ基を示す。 Gは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
    式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
    す▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼を示す。 〔XおよびYはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
    子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
    シアルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級ハロゲン化
    アルコキシ基、NR24R25、OCH(R10)CO
    OR10、COOR10、シクロプロピル基、CH(O
    R26)_2、低級アルキルチオ基または低級ハロゲン
    化アルキルチオ基を示す。 R24およびR25はそれぞれ独立して水素原子、低級
    アルキル基または低級アルコキシ基を示す。 R26は低級アルキル基を示す。 X1およびY1はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン
    原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基または低
    級アルコキシ基を示す。 X2は低級アルキル基、低級アルキルチオ基または低級
    アルコキシ基を、Y2は低級アルキル基を示す。 Zは窒素原子またはC−R27を示す。 R27は水素原子、低級アルキル基、低級ハロゲン化ア
    ルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基またはYあ
    るいはY1と共に酸素原子を含む5員環構造を示す。 X3は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコ
    キシアルキル基またはハロゲン原子を示す。 Y3は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
    子、モノアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基を
    示す。 Y4はシアノ基、CO_2R10、ニトロ基、S(O)
    _nR11、アルキル基またはハロゲン化アルキル基を
    示す。 Z1は窒素原子またはCHを示す。 X4およびY5はそれぞれ独立して、低級アルキル基ま
    たは低級アルコキシ基を示す。〕 Wは酸素原子、硫黄原子またはN−R28を示す。 R28は水素原子または低級アルコキシ基を示す。 W2は酸素原子または硫黄原子を示す。 R22は低級アルキル基を示す。 Azはハロゲン原子、ニトロ基もしくは低級アルキル基
    でモノ、ジもしくはトリ置換されていてもよいイミダゾ
    リル、イミダゾリニル、ピラゾリル、トリアゾリル又は
    ベンズイミダゾリル基を示す。 Jは低級アルキル基または▲数式、化学式、表等があり
    ます▼基 (Q、R、mおよびBは前記と同じ意味を示す。)を示
    す。 R23は水素原子、低級アルキル基または低級アルコキ
    シ基を示す。】 で表されるイソチアゾールスルホンアミド誘導体および
    それらの農業的に適している塩類の1種または2種以上
    を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5068271A (en) * 1988-09-21 1991-11-26 Uniroyal Chemical Company, Inc. Arylenediamine substituted pyrimidines compositions

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US5068271A (en) * 1988-09-21 1991-11-26 Uniroyal Chemical Company, Inc. Arylenediamine substituted pyrimidines compositions

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