JPH03258771A

JPH03258771A - スルホンアミド誘導体、その製法及びそれを有効成分として含有する除草剤

Info

Publication number: JPH03258771A
Application number: JP2056532A
Authority: JP
Inventors: Takumi Tokunaga; 徳永　巧; Yasuo Sakka; 作花　康夫; Hiroyuki Watanabe; 博幸渡辺; Kenji Tsuzuki; 続木　建治
Original assignee: Tosoh Corp
Current assignee: Tosoh Corp
Priority date: 1990-03-09
Filing date: 1990-03-09
Publication date: 1991-11-19

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野コ本発明は新規なスルホンアミド誘導体、その製造法及び
それを有効成分とする除草剤に関する。

［従来の技術］オキサジアゾール環を有するスルホンアミド化合物は抗
菌剤として知られている（特公昭３８−２６６７６号公
報）。また、スルホンアミド化合物が除草活性を有する
ことも知られている（特公昭４２−９２７６号公報）。

しかし、一般式［１１で示されるようなスルホンアミド
誘導体は文献未記載のものであり、このような化合物が
除草活性を有することは知られていない。

［発明が解決しようとする問題点コ従来より、除草剤として種々のものが提案されているが
、除草活性、殺草スペクトラム、作物に対する安全性等
必ずしも満足できるものではない。

［問題を解決するための手段］本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、新規なスルホン
アミド誘導体が優れた除草活性と選択性を持つことを見
いだし、本発明を完成した。

すなわち、本発明は、下記一般式［１１で示されるスルホンアミド誘導体及び
一般式［Ｉコの化合物の塩（以下、本発明化合物という
。）、（但し、式中、Ｘｌは、Ｃ−Ｃ直鎖又は分岐アルキル基
、ヒドロキシ基、Ｃ−Ｃ４の直鎖又は分岐したアルコキ
シ基、アミノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、Ｘ２は水素
原子、１１０ゲン原子を表すが、Ｘｌが４−アミノ基の
ときはＸ２は水素原子ではない。Ｒ１は水素原子、Ｃ−
Ｃの直鎖又は分岐アルキル基、Ｃ０ＯＲ（ＲはＣ１〜Ｃ
４の直鎖又は分岐したアルキル基を表す。）無置換又は
ハロゲン原子で適宜置換されたフェニール基、ハロアル
キル基、ベンジル基、Ｙｌは水素原子、Ｃ１〜Ｃ６の直
鎖又は分岐アルキル基、Ｃ−Ｃの直鎖又は分岐アルケニ
ル基、Ｃ３〜Ｃ４の直鎖又は分岐アルキニル基、酸素で
置換されていてもよいＣ２〜Ｃ６の直鎖、分岐又は環状
アルキル基を表す。）本発明化合物の製造法並びに本発明化合物を有効成分と
する除草剤を提供するものである。

［発明の詳細な説明コ本発明化合物を具体的に説明する。

本発明化合物は一般式［１］で表されるスルホンアミド
誘導体であるが、一般式［ＩコのＸｌとしては、メチル
、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、
イソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等のＣ
１〜Ｃ４の直鎖又は分岐アルキル基；ヒドロキシ基；メ
トキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、
ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、５ｅＣ−ブトキシ、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ等のＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐アルコキ
シ基；アミノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等を挙げることが
できる。

一般式［Ｉ］のＸ２としては、水素原子；フッ素原子、
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等を
挙げることができるが、Ｘｌが４アミノ基のときはＸ２
は水素原子ではない。

一般式［１１のＲ１としては、水素原子；メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、イソペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル等のＣ
−Ｃ６の直鎖又は分岐アルキル基；　Ｃ０ＯＲ”　　（
Ｒ３としてメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチル等のＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐アルキル基を
挙げることができる。）；無置換又はフッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子で適宜置
換されたフェニール基；モノクロロメチル、ジクロロメ
チル、トリクロロメチル、モノフルオロメチル、ジフル
オロメチル、トリフルオロメチル等のハロアルキル基；
ベンジル基等を挙げることができる。

一般式［１１のＹｌとしては、水素原子；メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、５ｅｅ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、イソペンチル、ｎ−へキシル、イソヘキシル等のＣ
−Ｃ６の直鎖又は分岐アルキル基：アリル、２−メチル
−２−プロペニル、２−ブテニル等のＣ３〜Ｃ４の直鎖
又は分岐アルケニル基；プロパギル、１−メチル−２−
ブロビニル、２−ブチニル等の０３〜Ｃ４の直鎖又は分
岐アルキニル基；２−メトキシエチル、２．３−エポキ
シプロビル等の酸素で置換されていてもよい０２〜ＣＢ
の直鎖、分岐又は環状アルキル基等を挙げることができ
る。

更に一般式ｒＩ］の化合物の塩としては、ナトリウム、
カリウム又はカルシウムの水酸化物、水素化物、アミド
又は炭酸塩、ＮａＯＲ’　　（Ｒ’としてメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等のＣ−Ｃ４
の直鎖又は分岐アルキル基を挙げることができる。）　
、ＫＯＲ５ＣＲ５としてメチル、エチル、ｎ−プロピル
、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、５ｅｃ−ブ
チル、ｔｅｒｔ−ブチル等のｃ　　−Ｃ４の直鎖又は分
岐アルキル基を挙げることができる。）、アンモニア、
ＮＨＲＢ　（Ｒ６としてメチル、エチル、ｎ−プロピル
、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ〜ブ
チル、ｔｅｒｔ−ブチルとして同−又は相異なってメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル
、イソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の
Ｃ１として同−又は相異なってメチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、５ｅ
ｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等のＣ１〜Ｃ４の直鎖又
は分岐アルキル基を挙げる。ことができる。）によって
生成した塩を挙げることができる。

本発明化合物の製造法を具体的に説明する。

Ａ法：　本発明化合物は一般式［ｎ］すが、Ｘ　が４−アミノ基のときはＸ２は水素原子では
ない。）で示されるヒドロキシグアニジン誘導体と一般式［％式％［（但し、式中、Ｘ　はフッ素原子、塩素原子、°臭素原
子、ヨウ素原子等の〕−ロゲン原子、Ｒ１は前記と同じ
意味を表す。）で示される酸ハロゲン化物又は一般式［ＩＶ］（但し、
式中、Ｒ１は前記と同じ意味を表す。）で示される酸無
水物とを、反応溶媒の存在下又は不存在下、並びに塩基
存在下又は不存在下で一７０℃ないし１７０℃、好まし
くは一５０℃ないし１セ０℃で数分から４８時間反応さ
せることによって製造することができる。

反応に供される試薬の量は、通常、一般式［１１］で示
されるヒドロキシグアニジン誘導体１当量に対して、一
般式［■］で示される酸ハロゲン化物又は一般式［ＩＶ
］で示される酸無水物は０，５当量から１０当量、塩基
は１当量から１００当量である。

反応に用いられる溶媒の好ましい例としてはエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類
；四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン等のハロゲン化炭化水素類；アセトニトリル、
イソブチロニトリル等のニトリル類；アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、１．３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、リン酸ヘ
キサメチルトリアミド等の極性溶媒等が挙げられる。

また、反応に用いられる好ましい塩基としてはトリエチ
ルアミン、ピリジン、１．８−ジアザビシクロ［５，４
，０］−７−ウンデセン、ジメチルアニリン等のアミン
類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物；水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水
酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩
及び炭酸塩などが挙げられる。

また上記アミン類において該反応温度で液状のものにつ
いては、溶媒として用いることも可能である。

Ｂ法：　一般式［■コ（但し、式中、ｘ　１　　ｘ　２　　Ｒ１は前記と同じ
意味を表すが、Ｘｌが４−アミノ基のときはＸ２は水素
原子ではない。）で示されるスルホンアミド誘導体と一般式［ＶＩｍＹ２
Ｘ’　　　　　　　　　　［ＶＩｍ（但し、式中、Ｙ２
としてはメチル、エチル、ｎ−ブロビル、イソプロピル
、ｎ−ブチル、イソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ
−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｎ−ヘキシル
、イソヘキシル等のＣ１−Ｃ６の直鎖又は分岐アルキル
基；アリル、２−メチル−２−プロペニル、２−ブテニ
ル等のＣ８〜Ｃ４の直鎖又は分岐アルケニル基；プロパ
ギル、１−メチル−２−プロピニル、２−ブチニル等の
Ｃ３〜Ｃ４の直鎖又は分岐アルキニル基；２−メトキシ
エチル、２．３−エポキシプロピル等の酸素で置換され
ていてもよいＣ２〜Ｃ６の直鎖、分岐又は環状アルキル
基等を挙げることができる。Ｘ４としてはフッ素原子、
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子を挙
げることができる。）で示されるハロゲン化合物とを、反応溶媒の存在下又は
不存在下、並びに塩基存在下で０℃ないし１２０℃、好
ましくは１０℃ないし８０℃で数分から４８時間反応さ
せることによって製造することができる。　反応に供さ
れる試薬の量は、通常、一般式［Ｖ］で示されるスルホ
ンアミド誘導体１当量に対して、一般式［ＶＩｍで示さ
れるハロゲン化合物は０，５当量から１０当量、塩基は
１当量から１００当量である。

反応に用いられる溶媒の好ましい例としてはベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；
四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン等のハロゲン化炭化水素類；アセトニトリル、イ
ソブチロニトリル等のニトリル類：アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；Ｎ
。

Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１
．３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、リン酸ヘキサ
メチルトリアミド等の極性溶媒等が挙げられる。。

Ｃ法：　一般式［■］（但し、式中、Ｒ２はメチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、５ｅｃ−ブチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル等のＣ１〜Ｃの直鎖又は分岐アル
キル基、Ｘ２　Ｒ１Ｙｌは前記と同じ意味を表す。）で示されるフェニルエーテル体を反応溶媒の存在下に、
酸存在下で一３０℃ないし２５０℃、好ましくは０℃な
いし１５０℃で数分から４日間反応させることによって
製造することができる。

反応に供される試薬の量は、通常、一般式［■］で示さ
れるフェニルエーテル体１当量に対して、酸は０．３当
量から１０当量である。

反応に用いられる溶媒の好ましい例としてはベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；エチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類
；四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン等のノ＼ロゲン化炭化水素類；水等が挙げられ
る。

また、反応に用いられる好ましい酸としては塩化水素、
臭化水素、ヨウ化水素等の／％ロゲン化水素；トリフル
オロ酢酸等の有機酸；塩化アルミニウム、臭化アルミニ
ウム、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素等のルイス酸等が挙
げられる。

Ｄ法；　一般式［、Ｘｌ（但し、式中、Ａｃはアセチル基、Ｘ５としてはフッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原
子、ＲＩ　Ｙｌは前記と同じ意味を表す。）で示されるアセチルアニリド体を反応溶媒の存在下に、
塩基存在下で２０℃ないし２００℃、好ましくは６０℃
ないし１５０℃で数分から４８時間反応させることによ
って製造することができる。

反応に供される試薬の量は、通常、一般式［Ｘコで示さ
れるアセチルアニリド体１当量に対して、塩基は１当量
から１０当量である。

反応に用いられる溶媒の好ましい例としてはベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；アセトニト
リル、イソブチロニトリル等のニトリル類：アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケト
ン類：エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等のエーテル類−四塩化炭素、クロロホルム、ジクロ
ロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；
水；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、１．３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、リン
酸ヘキサメチルトリアミド等の極性溶媒等が挙げられる
。

また、反応に用いられる好ましい塩基としては水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；
水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩及び炭酸塩な
どが挙げられる。

本発明化合物を有効成分として含む本発明の除草剤は、
優れた除草効果を示す一方、作物に対して殆ど影響を及
ぼさない。すなわち、本発明の除草剤は、畑地において
は、問題となる種々の雑草、例えば、アオビユ、スベリ
ヒュ、オナモミ、センダングサ、ブタフサ、シロザ、オ
オイヌタデ、ハコベ、ナズナ、ミミナグサ、シロバナチ
ョウセンアサガオ、マルバアサガオ、イヌホウズキ、ホ
トケノザ、オオバコ、イチビ、カタバミ、ヤエムグラ、
ソバカズラ、オオアレチノギク、ヒメムカシヨモギ、ヒ
メジオン、イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、スズメ
ノカタビラ、スズメノカタビラ、エンバク、カラスムギ
、セイバンモロコシ等に対して、また、水田においては
、問題となる種々の雑草、例えば、タイヌビエ、アゼナ
、キカシグサ、タマガヤツリ、ホタルイ、マツバイ、ミ
ズガヤツリ、コナギ、ウリカワ等に対して、雑草の発芽
前処理及び生育期処理において除草効果を有し、しかも
、トウモロコシ、コムギ、イネ、ダイズ、フタ、テンサ
イ等の主要作物に対して問題となるような薬害を示さな
い。

本発明の除草剤は、他の農薬、例えば殺菌剤、殺虫剤、
除草剤、植物生長調節剤及び肥料、土壌改良剤等と混合
又は併用して使用することができる。特に、他の除草剤
と混合使用することにより省力化をもたらすのみならず
、殺草スペクトラムの拡大並びに−層高い効果も期待で
きる。混合使用し得る除草剤としては、２．４−ビス（
エチルアミノ）−６−エチルチオ−１，３，５−トリア
ジン〔−船名：シメトリン）、２．４−ビス（イソプロ
ピルアミノ）−６−メチルチオ−１，３゜５−トリアジ
ン〔−船名：プロメトリン〕　　２−（１，２−ジメチ
ルプロピルアミノ）−４−エチルアミノ−６−メチルチ
オ−１，３，５−トリアジン〔−船名：ジメタメトリン
〕等のトリアジン系除草剤；５−４−クロロベンジル−
Ｎ、Ｎ−ジエチルチオカーバメート〔−船名：ベンチオ
カーブ〕　　Ｓ−α、α−ジメチルベンジルーＮ、Ｎ−
ペンタメチレンチオカーバメート〔−船名：ジメビペレ
ート〕、Ｓ−ベンジル−Ｎ−エチル−Ｎ−（１，２−ジ
メチルプロピル）チオカーバメート〔−船名：ニスプロ
カルブ〕、Ｓ−エチルへキサヒドロ−ＩＨ−アゼピン−
１−カーボチオエート〔−船名：モリネート）、０−３
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−Ｎ−（６−メドキシー２
−ピリジル）−Ｎ−メチルチオカーバメート〔−船名：
ピリブチカルブ〕等のカーバメート系除草剤、２．４−
ＤＳＭＣＰＢ、２−（２−ナフチルオキシ）プロピオン
アニリド〔−船名：ナプロアニリド〕　　２（２，４−
ジクロロ−３−メチルフェノキシ）プロピオンアニリド
〔−船名：クロメプロップ〕等のフェノキシ系除草剤、
２，４．６−ドリクロロフエニルー４−ニトロフェニル
エーテル（−船名：クロルニトロフェン）、２．４−ジ
クロロフェニル−３−）ｌ−キシ−４−二トロフェニル
エーテル〔−船名：クロメトキシニル］　２，４−ジク
ロロフェニル−３−メトキシカルボニル−４−ニトロフ
ェニルエーテル〔−船名：ビフェノックス〕　　２−ク
ロロ−４−トリフルオロメチルフェニル−４−ニトロ−
３−（テトラヒドロビラン−３−イルオキシ）フェニル
エーテル〔試験名二ＭＴ−１２４）等のジフェニルエー
テル系除草剤；Ｎ−ブトキシメチル−２−クロロ−２°
、６゛　−ジエチルアセトアニリド〔−船名：ブタクロ
ール〕Ｎ−プロポキシエチル−２−クロロ−２′、６′
ジエチルアセトアニリド〔−船名：ブレチラクロール〕
　Ｎ−メチル−２−（２−ベンゾチアゾリルオキシ）ア
セトアニリド〔−船名二メフエナセット〕、２°、３°
−ジクロロ−４−エトキシメトキシベンズアニリド〔試
験名：ＨＷ−５２）　　Ｎ（α、α−ジメチルベンジル
）−２−ブロモ−３，３−ジメチルブチルアミド〔−船
名：ブロモブチド〕　　３°、４゛　−ジクロロプロピ
オンアニリド〔−船名：プロパニル〕等のアミド系除草
剤；１−（α、α−ジメチルベンジル”）−３−（４−
メチルフェニル）ウレア〔−船名：ダイムロン〕、１−
（２−クロロベンジル’）−３−（α、α−ジメチルベ
ンジル）ウレア〔試験名：　Ｊ　Ｃ−９４］等のウレア
系除草剤；２−アミノ−３−クロロ−１，４−ナフトキ
ノン［−船名：ＡＣＮ］等のキノン系除草剤；４−　（
２，４−ジクロロベンゾイル）−１，３−ジメチル−５
−ピラゾリル−ｐ−トルエンスルホネート〔−船名：ピ
ラゾレート〕、４−　（２，４−ジクロロベンゾイル’
）−１，３−ジメチル−５−フェナシルオキシピラゾー
ル〔−船名：ピラゾキシフエン）、４−（２，４−ジク
ロロ−３−メチルベンゾイル）−１，３−ジメチル−５
−（４−メチルフェナシルオキシ）ピラゾール〔−船名
：ベンゾフェナップ〕　５−ベンジルオキシ−４，−（
２，４−ジクロロベンゾイル）−１−メチルピラゾール
〔試験名：ＮＣ−３１０１５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−
（２，４−ジクロロ−５−イソプロポキンフェニル）−
１，３，４−オキサジアゾール−２−（３Ｈ）−オン〔
−船名二オキサシアシン）、３．７−ジクロロ−８−キ
ノリンカルボン酸〔−船名：キンクロラック〕　　３−
クロロ−２−〔２−フルオロ−４−クロロ−５（１−プ
ロピニルオキシ）フェニル）−４，５゜６．７−テトラ
ハイドロ−２Ｈ−インダゾール〔試験名：Ｓ−２７５１
３−イソプロピル−２１，３−ベンゾチアジアジノン−
４）−２，２−ジオキシド〔−船名：ペンタシン）　　
、１−（３−メチルフェニル）−５−フェニル−ＩＨ−
１，２゜４−トリアゾール−３−カルボキサミド〔試験
名：ＫＮＷ−２４２１等の複素環系除草剤−〇、Ｏ−ジ
イソプロピルー２−（ベンゼンスルホンアミド）エチレ
ンジチオホスフェート〔−船名：ＳＡＰ）等の有機リン
系除草剤；メチル　２−［［［［［（４，６−シメトキ
シビリミジンー２−イル）アミノ］カルボニル］アミノ
］スルホニルコメチル］ベンゾエート〔−船名：ロンダ
ツクス〕、エチル　５−　［３−（４，６−シメトキシ
ピリミジンー２−イル）ウレイドスルホニルツー１−メ
チルピラゾール−４−カルボキシレート〔−船名：ビラ
ゾスルフロンーエチル〕等のスルホニルウレア系除草剤
等を挙げることができるが、これらに限られるものでは
ない。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合は、
通常、固体担体、液体担体、界面活性剤、その他の製剤
用補助剤と混合して乳剤、水和剤、ブロアプル剤、粒剤
、粉剤等に製剤して用いることができる。

固体担体としては、カオリン、クレー、ベントナイト、
ケイソウ土、酸性白土、ホワイトカーボン、軽石粒等を
挙げることができる。また、液体担体としては、キシレ
ン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、イソプロ
パツール、エチレングリコール、セロソルブ等のアルコ
ール類、アセトン、シクロヘキサノン等のケトン類、鉱
油、ジメチルスルホキシド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリル、水等を挙げることができる。

界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、アルキ
ルスルホン酸塩、アリールスルホン酸塩等の陰イオン界
面活性剤、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、
ポリオキシエチレングリコールエステル類、多価アルコ
ールエステル類等の非イオン界面活性剤等を挙げること
ができる。

その他の製剤用補助剤としては、ポリビニルアルコール
、リグニンスルホン酸塩、アラビアゴム等を挙げること
ができる。

上記のようにして得られた製剤は、有効成分として本発
明化合物を、０．１〜９０重量％、好ましくは１〜８０
重量％含有する。

また、本発明の除草剤の施用量は、気候条件、製剤形態
、処理時期、施用方法、施用場所、対象雑草、対象作物
等によって異なるが、通常、有効成分量で５〜１０００
　ｇ　／　１０　ａ　、好ましくは１０〜５００　ｇ　
／　１０　ａである。

［発明の効果コ本発明により、除草剤として優れた除草活性及び広い殺
草スペクトラムを有する新規化合物及びその製造法が提
供された。また、本発明化合物を有効成分として含有す
る除草剤は、発生前から生育期までの種々の雑草を防除
することができ、作物に対する安全性も高く水田、各種
穀物畑、各種野菜畑、果樹、桑畑、非農耕地の雑草防除
に有効に使用できる。

［実施例コ以下、本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。

（実施例１）５−メチル−３−（４−メチルフェニルスルホニルアミ
ノ）−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番号１）
の製造１−ヒドロキシ−２−（４−メチルフェニルスルホニル
）グアニジン３．Ｏｇのピリジン溶液１０ｍ１を０℃に
冷却し、かきまぜつつ無水酢酸１゜６ｇを加えた。室温
で３０分間かき混ぜた後１００℃でさらに３０分間撹拌
した。反応液を放冷しピリジンを留去後、残渣をエタノ
ール−水より再結晶し、化合物番号１の化合物を１．６
ｇ得た。

ｍ、ｐ、１９９．５〜２０１℃ ＩＨ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）２．
３８（ｓ、３１（）、２．４３（ｓ、３Ｈ）７．３８（
ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、２Ｈ）、７．８０（ｄ、Ｊ−８Ｈｚ、
２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｃｍ−’）３１４０．３０Ｂ０．２９１０，２８００．２７５０．
１５９５．１５１０１３Ｂ５　、１１７０．１０９０元素分析（％）：Ｃ１ｏＨ１，０３Ｎ３Ｓとしての計算
値　Ｃ；４７．４２．Ｈ；４Ｊ７．Ｎ；１６．５９実測
値　Ｃ；４７．１０．Ｈ；４．４５．Ｎ；１Ｂ、２２（
実施例２）３−（４−クロロフェニルスルホニルアミノ）−５−メ
チル−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番号２）
の製造ヒドロキシグアニジン誘導体として２−（４−クロロフ
ェニルスルホニル）−１−ヒドロキシグアニジンを用い
ることを除き実施例１と同様な操作を行い、化合物番号
２の化合物を得た。

ｍ、ｐ、１９４〜１９５℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）２．
５０（ｓ、３Ｈ）、７．６５（ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、２Ｍ）
７．９６（ｄＪ＝９）１ｚ、２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　　ｃＩＩｌ−１）３１４０．３０
Ｂ０．２９００．２８００．２７Ｂ０，１５９５，１５
１０１３７０、ＩＩＨ，１０９０元素分析（％）；Ｃ９Ｈ８０３Ｎ３ＣＩＳとしての計算値　Ｃ；３９．４９．Ｈ；２．９４．Ｎ；１５．３
５実測値　Ｃ・３９．４８．Ｈ；２．９１．Ｎ；１５．
１８（実施例３）３−（４−ニトロフェニルスルホニルアミノ）−５−メ
チル−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番号３）
の製造ヒドロキシグアニジン誘導体として２−（４−ニトロフ
ェニルスルホニル）−ユーヒドロキシグアニジンを用い
ることを除き実施例１と同様な操作を行い、化合物番号
３の化合物を得た。

２２０℃　ｄ　ｅ　ｃ　ｏｍｐ。

”Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）２．
４８（ｓ、３Ｈ）、８．１３（ｄ、Ｊ−９Ｈｚ、２Ｈ）
８、．４２（ｄ、ＪＪＨｚ、２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　　ｃＩＩｌ−１）８１１０．８０１３０，２９００，２８００，２７５０
．１６００，１５３５１５１０．１３７０．１１８０元素分析（％）；Ｃ９Ｈ８０５Ｎ４Ｓとしての計算値　
Ｃ；３ｇ、Ｃ１３，Ｈ；２．８３．Ｎ；１９．７１実測
値　Ｃ；３７．９９．Ｈ，２，７１，Ｎ、１９．６６（
実施例４）５−メチル−３−（４−メトキシフェニルスルホニルア
ミノ）−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番号４
）の製造ヒドロキシグアニジン誘導体として１−ヒドロキシ−２
−（４−メトキシフェニルスルホニル）グアニジンを用
いることを除き実施例１と同様な操作を行い、化合物番
号４の化合物を得た。

ｍ、　　ｐ、　　１５４〜１５６℃ ＩＨ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　、δｐｐｍ）２．４７（
ｓ、３Ｈ）　、３．８３（ｓ、３Ｈ）７．１０（ｄ、Ｊ
−９Ｈｚ、２Ｈ）　、７．８８（ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、２Ｈ
）Ｉ　Ｒ（Ｋ　Ｂ　ｒ、　ｃｍ−’）Ｓｉ２０．８０９０．２９５０．２８１０．２７Ｂ０．
１６００．１５Ｌ０１３６５．１２８５．１１８０元素分析（％）　　：　Ｃ１０Ｈ１１０４Ｎ　３　Ｓと
しての計算値　Ｃ；４４．８０．）ｌ；４．１１．Ｎ：
１５．ＢＯ実測値　Ｃ；４４．５０．ＦＩ；４．１３．
Ｎ・１５．６１（実施例５）３−（４−ニトロフェニルスルホニルアミノ）−５−フ
ェニール−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番号
５）の製造無水酢酸の代わりにベンゾイルクロライドを用いること
を除き実施例３と同様な操作を行い、化合物番号５の化
合物を得た。

２３８℃　ｄ　ｅ　ｃ　ｏｍｐ。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）７．
２０−８．７５（ｍ、９Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　　ｃｍ−’）３２７０．３１００，１６１０．１５７０，１５３５．
１４４５．１３７０１３５０．１１８５元素分析（％）　　：　Ｃ１４Ｈｔｏ　ｏ　５　Ｎ　４
　Ｓとしての計算値　Ｃ；４８．５５．Ｈ：２．９１．
Ｎ；１６．１７実測値　Ｃ，４８，７７、Ｈ，２，８９
，Ｎ・１６．５４（実施例６）５−エチル−３−（４−ニトロフェニルスルホニルアミ
ノ）−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番号６）
の製造酸無水物として無水プロピオン酸を用いることを除き実
施例３と同様な操作を行い、化合物番号６の化合物を得
た。

ｍ、ｐ、１８５〜１８８℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）１．
１９（ｔ、Ｊ−７Ｈｚ、３Ｈ）、２．８２（ｑ、ｌ−７
Ｈｚ、２）１）８．１５（ｄ、Ｊ−９Ｈｚ、２Ｈ）、８
．４３（ｄ、Ｊ−９Ｈｚ、２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　
ｃｍ−’）３１１０．３０７０，２９５０，２７７０，１５９０．
１５３０．１５１０１３５０．１１８０元素分析（％）：　Ｃ１ｏＩ（、。０５Ｎ４Ｓとしての
計算値　Ｃ，４０，２６，Ｈ，３，３７，Ｎ、１８．７
８実測値　Ｃ；４０．３４．Ｈ；３．１８．Ｎ；１９．
１４（実施例７）３−（４−ニトロフェニルスルホニルアミノ）−５−プ
ロピル−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番号７
）の製造酸無水物としてｎ−酪酸無水物を用いることを除き実施
例３と同様な操作を行い、化合物番号７の化合物を得た
。

ｍ、ｐ、１９１〜１９３℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）０．
８７（ｔ、Ｊ−ＢＨｚ、ＳＲ）、１．２８−１．９８（
＋＋＋、２］（）２．８０（ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ、２Ｈ）、
８．１８（ｄ、Ｊ−９Ｈｚ、２Ｈ）８．４７（ｄ、Ｊ＝
９Ｈｚ、２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｃｍ−’）３１１０．３０７０．２９Ｂ０．２９４０．２７７０．
１５９５．１５２０１３５０．１１７０．６１０元素分析（％）：Ｃ１□Ｈ１□０５Ｎ４Ｓとしての計算
値　Ｃ，４２，３０，Ｈ；３．８７．Ｎ、１７．９４実
測値　Ｃ；４２．４７．Ｈ：３．９０．Ｎ；１８．０９
（実施例８）５−イソプロピル−３−（４−ニトロフェニルスルホニ
ルアミノ）−１，２，４−オキサジアゾル（化合物番号
８）の製造酸無水物として無水１ｓｏ−酪酸を用いることを除き実
施例３と同様な操作を行い、化合物番号８の化合物を得
た。

ｍ、ｐ、１５４〜１５６℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）１．
２４（ｄ、Ｊ−７Ｈ，８Ｈ）、２．８４−３．５０（ｍ
、ＩＨ）８．１３（ｄ、Ｊ−８Ｈｚ、２８）、８．４０
（ｄ、Ｊ−８Ｈｚ、２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｃｍ−
’）３０７０．２９１０．２７Ｂ０．１５９０，１５２５．
１３５０．１１７５元素分析（％）：Ｃ１□Ｈ１□０５
Ｎ４Ｓとしての計算値　Ｃ；４２．３０．Ｈ；３．８７
．Ｎ：１７．９４実測値　Ｃ：４２．４４．Ｈ：３．８
３．Ｎ：１７．６０（実施例９）３−（４−ニトロフェニルスルホニルアミノ）−５−（
２−フルオロフェニール）−１，２，４−オキサジアゾ
ール（化合物番号９）の製造酸ハロゲン化物として２−
フルオロベンゾイルクロライドを用いることを除き実施
例５と同様な操作を行い、化合物番号９の化合物を得た
。

ｍ、ｐ、２４１〜２４２℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）７．
２０−８．６４（Ｉｌｌ、８Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｅａｒ−’）３２８０．１６２０，１５３５．１４４０，１３７０，
１３５０．１１７０元素分析（％）：Ｃ１４Ｈ９０５Ｎ
４Ｓとしての計算値　Ｃ；４Ｂ、１５．Ｈ；２．４ｇ、
Ｎ；１５．１７実測値　Ｃ；４６．４０．Ｈ；２．３７
．Ｎ；１５．４１（実施例１０）５−（３−クロロフェニール）−３−（４−ニトロフェ
ニルスルホニルアミノ）−１，２，４−オキサジアゾー
ル（化合物番号１０）の製造酸ハロゲン化物として３−
クロロベンゾイルクロライドを用いることを除き実施例
５と同様な操作を行い、化合物番号１０の化合物を得た
。

ｍ、ｐ、２１１〜２１２℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）７．
５７−８．７７（ｎ、８Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｃ＋ｎ−１）３２５０．１５３０，１，４５５，１３７５．１１７０
元素分析（％）：Ｃ１４Ｈ９０，Ｎ４Ｓとしての計算値
　Ｃ；４４．ＩＢ、Ｈ；２．３ｇ、Ｎ；１４．７１実測
値　Ｃ；４４．２０．Ｈ；２．３９．Ｎ；１４．［ｉ４
（実施例１１）３−（４−ニトロフェニルスルホニルアミノ）−５−ベ
ンジル−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番号１
１）の製造酸ハロゲン化物としてフェニールアセチルクロライドを
用いることを除き実施例５と同様な操作を行い、化合物
番号１１の化合物を得た。

１６４℃　ｄ　ｅ　ｃ　ｏｍｐ。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）４．
１８（ｓ、２Ｈ）　、７．１１−７．２１（ｍ、５Ｈ）
８．０８−８．３２（ｍ、４Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　　ｃｍ”−’）３０７０，２９２０，１５９５．１５３０．１５１０，
１３７５．１３４５１１７０．６０５元素分析（％）：Ｃ，５Ｈ１□０５Ｎ４Ｓとしての計算
値　Ｃ；５［）、１３．Ｈ，３，０ｇ、Ｎ、１５．５９
実測値　Ｃ：５０．０３．Ｈ，３，０５，Ｎ、１５．６
９（実施例１２）５−エトキシカルボニル−３−（４−ニトロフェニルス
ルホニルアミノ）−１，２，４−オキサジアゾール（化
合物番号１２）及び３−（４−ニトロフェニルスルホニ
ルアミノ）−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番
号１３）の製造酸ハロゲン化物として塩化エチルオキサ
リルを用い、精製をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーを用いることを除き実施例５と同様な操作を行い、化
合物番号１２及び化合物番号１３の化合物を得た。

化合物番号１２ｍ、ｐ、１７３〜１７４℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）１．
２７（ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、３Ｈ）、４．４０（（＋、Ｊ＝
６Ｈｚ、２Ｈ）８．１９（ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、２Ｈ）、８
．４３（ｄ、Ｊ−９Ｈｚ、２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　
　ｃｌｌ−’）３２５ｆ）、３１１ｆ）、１７５５．ｌ６００．１５４
０．ｌ３７１）、１３５５１２２０．１１７０．９００元素分析（％）　　：　［Ｉ］Ｈ１００７Ｎ　４Ｓとし
ての計算値　Ｃ；３８．６０．Ｈ；２．９４．Ｎ；１６
．３ｆｉ実測値　Ｃ，３８，７Ｂ、Ｈ，２，９０，Ｎ、
１６．１２化合物番号１３ｍ、ｐ、２０９〜２１０℃ ＩＨ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐ　’ｐ　ｍ
　）８．１７（ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、２０）　、８．４２（
ｄ、Ｊ−９）！ｚ、２Ｈ）９．３９（ｓ、１１（）Ｉ　Ｒ（Ｋ　Ｂ　ｒ、　　ｃｍ−’）３１５０．３１１０，１５９０．１５４０．１３ｇ５．
１３５５．１１８０元素分析（％）：Ｃ３Ｈ６０，Ｎ４
Ｓとしての計算値　Ｃ；３５．５５．Ｈ：２．２３．Ｎ
；２０．７３実測値　Ｃ；３５．２３．Ｈ；２．１１．
Ｎ；２０．７１（実施例１３）５〜ジクロロメチル−３−（４−ニトロフェニルスルホ
ニルアミノ）−１，２，４−オキサジアゾール（化合物
番号ユ４）の製造２−（４−ニトロフェニルスルホニル）−１−ヒドロキ
シグアニジン１．０ｇのＮ、Ｎ〜ジメチルホルムアミド
溶溶液５ｍ合一２０℃に冷却し、かきまぜつつ無水トリ
クロロ酢酸１．４ｇを加えた。室温で３０分間かき混ぜ
た後６０℃でさらに１６時間かき混ぜた。反応液を放冷
しＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを留去後、残　をメタ
ノール−水より再結晶し、化合物番号１４の化合物を０
゜６ｇ得た。

ｍ、ｐ、１８４〜１８６℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）７．
７０（ｓ、ＩＨ）、ｌｉ、２４（ｄ、Ｊ−９Ｈｚ、２Ｈ
）８．４２（ｄ、Ｊ”９Ｈｚ、２Ｈ）Ｉ　Ｒ（Ｋ　Ｂ　ｒ、　　ｃｍ−’）３１００．２９３０，１５９５．１５５０．１５２５．
１３８０．１３５０１１７５．７４０．１３１０元素分析（％）：Ｃ９Ｈ６０５Ｎ４Ｃ１゜ｓとしての計算値　Ｃ，３０，６１，ｆ（，１７１，Ｎ・１５１１
１３実測値　Ｃ；３［１，４９，Ｈ；１．５５．Ｎ；１
５．５４（実施例１４）５−トリフルオロメチル−３−（４−ニトロフェニルス
ルホニルアミノ）−１，２，４−オキサジアゾール（化
合物番号１５）の製造２−（４−ニトロフェニルスルホニル）−１−ヒドロキ
シグアニジン２．０ｇのピリジン溶液８ｍ１を一３０℃
に冷却し、かきまぜつつ無水トリフルオロ酢酸１．９ｇ
を加えた。−３０’Ｃがら１０℃で２時間かき混ぜた後
、反応液をアルカリ性にした。再び酸性にもどし生成す
る結晶を濾過した後、残　をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製し、化合物番号１５の化合物を０
゜４ｇ得た。

ｍ、ｐ、１５９〜１６０℃ ＩＨ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　δｐｐｍ）８．１
４（ｄ、Ｊ−９Ｈｚ、２Ｈ）、８．４３（ｄｌ−９Ｈｚ
、２Ｈ）ＩＲ（ＫＢ　ｒ、　　ｃｍ−１）３２５０．１Ｂ２０．１５５０．１３５０．１２１０．
１１７５元素分析（％）二Ｃ９Ｈ５０５Ｎ４Ｆ３Ｓとし
ての計算値　Ｃ；３１．９６．Ｈ；１．４９．Ｎ；１Ｂ、５
Ｂ実測値　Ｃ；３２．０２．Ｈ；１．８５．Ｎ；１Ｂ。

５２（実施例１５）３−（２−クロロフェニルスルホニルアミノ）−５−メ
チル−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番号１６
）の製造ヒドロキシグアニジン誘導体として２−　（２−クロロ
フェニルスルホニル）−１−ヒドロキシグアニジンを用
いることを除き実施例１と同様な操作を行い、化合物番
号１６の化合物を得た。

ｍ、ｐ、２１４〜２１５℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）２．
４５（ｓ、３Ｈ）、７ＪＯ−８，２５（ｍ、４Ｈ）Ｉ　
Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｃｍ−１）３４３０．３０Ｂ０．２９００．２８００．２７５０．
１５９０１５００．１３７０．１１８０元素分析（％）　　：　Ｃ９Ｈｇ　Ｏｓ　Ｎａ　ＣＩ　
Ｓとしての計算値　Ｃ；３９．４９．Ｈ；２．９４．Ｎ；１５．３
５実測値　Ｃ；３９．４３．Ｈ；２．９３．Ｎ；１５．
０５（実施例１６）５−メチル−３−（２−メチルフェニルスルホニルアミ
ノ）−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番号１７
）の製造ヒドロキシグアニジン誘導体として１−ヒドロキシ−２
−（２−メチルフェニルスルホニル）グアニジンを用い
ることを除き実施例１と同様な操作を行い、化合物番号
１７の化合物を得た。

ｍ、ｐ、１８５〜１８７℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）２．
４４（ｓ、３Ｈ）、２．８０（ｓ、８Ｈ）７、ＩＪｌ−
８，１８（ｍ、４Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｃｍ−’）８４３０．１１２０．３０７０，２９５０．２８００．
２７５０．１５８５１５００．１３６０．１１７０元素分析（％）：Ｃ１ｏＨ１１０３Ｎ３Ｓとしての計算
値　Ｃ；４７．４２．Ｈ；４．３７．、Ｎ；１Ｂ、５９
実測値　Ｃ：４７．４３．ｔ（；４．５４．Ｎ：１８．
７０（実施例１７）３−（３−ニトロフェニルスルホニルアミノ）−５−メ
チル−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番号１８
）の製造ヒドロキシグアニジン誘導体として２−（３ニトロフエ
ニルスルホニル）−１−ヒドロキシグアニジンを用いる
ことを除き実施例１と同様な操作を行い、化合物番号１
８の化合物を得た。

ｍ、　　ｐ、　　２０５〜２０７℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、６ｉｐｐｍ）２．５
０（ｓ、３Ｈ）、７．７２−８．７８（ｍ、４Ｂ）Ｉ　
Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｃｍ”−１）３０７０．２９５０．２ｇ２０．２７７０．１８００，
１５２５．１３７０１３５０．１１７５元素分析（％）：Ｃ９Ｈ３ｏ５Ｎ４ｓとしテノ計算値　
Ｃ；３ｇ、０３．Ｈ；２．８Ｂ、Ｎ；１９．７１実測値
　Ｃ；３ｇ、１５．Ｈ；２．９４．Ｎ；Ｌ９．７１（実
施例１８）５−メチル−３−（Ｎ−メチル−４−ニトロフェニルス
ルホニルアミノ）−１，２，４−オキサジアゾール（化
合物番号１つ）の製造水素化ナトリウム０．１２ｇを懸濁させたＮ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液１０ｍ１に３−（４−ニ
トロフェニルスルホニルアミノ）−５−メチル−１，２
，４−オキサジアゾールを一１０℃で加え室温で１０分
間かき混ぜた後、ヨウ化メチル０．５２ｇを加え３時間
かき混ぜた。反応終了後Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
を留去し、残をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製すると化合物番号１つの化合物０．７ｇを得た
。

ｍ、ｐ、１０７〜１０８℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　　、　　δｐｐｍ）２．５０
（ｓ、３Ｈ）、３．５０（ｓ、３Ｈ）８．０１−８．５
１（ａ＋、４Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　　ｃｍ−１）８１１０．１５９５．１５４（１，１５２０，１４００
，１８５０，王１９０７４５．８２０元素分析（％）：Ｃ１ｏＨ１ｏＯ５Ｎ４Ｓとしての計算
値　Ｃ：４０．２Ｅｉ、Ｈ；３．３７．Ｎ；Ｌ８．７１
１１実測値　Ｃ；４０．Ｑ６．Ｈ；３．４８．Ｎ；１ｇ
、５１ｉ（実施例１９）５−メチル−３−（Ｎ−アリル−４−ニトロフェニルス
ルホニルアミノ）−１，２，４−オキサジアゾール（化
合物番号２０）の製造ハロゲン化合物としてアリルブロマイドを用いることを
除き実施例１８と同様な操作を行い、化合物番号２０の
化合物を得た。

ｍ、ｐ、８６〜８９℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１、δｐｐｍ）２．５０　（ｓ　、　３Ｈ）’、　４．４３−４．７２
（ｍ　、　２Ｈ）５．００−［ｉ、１９（Ｉｌｌ、３Ｈ
）　、８．２０（ｓ、４Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｃｍ
”−１）３１１０．１５９０．１５３０．１４００，１３５０．
１１８０．ｅ１５元素分析（％）　　；Ｃ１２ｎ　ｔ　
２０５　Ｎ　４　Ｓとしての計算値　Ｃ；４４．４４．
Ｈ：３．７２．Ｎ：１７．２７実測値　Ｃ，４４，３３
，Ｈ，３，７０，Ｎ、１７．３４（実施例２０）３−　（Ｎ−（２，３−エポキシプロビル）−４ニトロ
フエニルスルホニルアミノ）−５−メチル−１，２，４
−オキサジアゾール（化合物番号２１）の製造ハロゲン化合物としてエビブロモヒドリンを用いること
を除き実施例１８と同様な操作を行い、化合物番号２１
の化合物を得た。

ｍ、ｐ、１０７〜１０８．５℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ　　、　　δｐｐｍ）２．５２
（ｓ、３８）、２．５２−３．４４（ｍ、３Ｈ）４．２
０（ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、２Ｈ）、８．３０（ｓ、４Ｈ）Ｉ
　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　　ｃｍ−’）３１１０．１５９０，１５３０，１３９０．１３７５，
１３６５，１３５０１１８０．１１７０．７４０元素分析（％）：Ｃ１□Ｈ１２０６Ｎ　ｉ、　Ｓとして
の計算値　Ｃ；４２．３５．）Ｉ；３．５５．Ｎ；１Ｂ
、４Ｂ実測値　Ｃ；４２．４４．Ｈ；３．６５．Ｎ；１
Ｂ、８４（実施例２１）３−　（２，５−ジクロロフェニルスルホニルアミノ）
−５−メチル−１，２，４−オキサジアゾール（化合物
番号２２）の製造ヒドロキシグアニジン誘導体として２−　（２゜５−ジ
クロロフェニルスルホニル）−１−ヒドロキシグアニジ
ンを用いることを除き実施例１と同様な操作を行い、化
合物番号２２の化合物を得た。

ｍ、ｐ、２６２〜２６５℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）２．
４９（ｓ、３Ｈ）、７．８４−８．１７（＋＋＋、３Ｈ
）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｃｍ−１）３０Ｂ０．２９００．２７５０．１５９５，１５０５．
１３８０．１１８０８８５．５９５元素分析（％）：ＣＨＯＮ　　Ｃ１□Ｓとしての計算値　Ｃ；３５．０８．Ｈ；２．２ｇ、Ｎ；１３．Ｅ
ｉ３実測値　Ｃ；３４．８０．Ｈ，２，３７，Ｎ、１３
．５７（実施例２２）３−（４−アミノ−２−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）、−５−メチル−１，２，４−オキサジアゾール（
化合物番号２３）の製造１０％水酸化ナトリウム水溶液３ｍｌに３−（４−アセ
チルアミノ−２−クロロフェニルスルホニルアミノ）−
５−メチル−１，２，４−オキサジアゾール０．１８ｇ
を加え１００℃で４時間かき混ぜた。室温まで放冷した
後３０％酢酸水溶液で中和して析出する結晶を吸引濾過
し、化合物番号２３の化合物０．１ｇを得た。

２２１℃　ｄ　ｅ　ｃ　ｏｍｐ。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）２．
４１（ｓ、３Ｈ）　、６．００−６．７９（ｍ、４Ｈ）
７．８５（ｄ、Ｊ−８Ｈｚ、ＩＨ）Ｉ　Ｒ（Ｋ　Ｂ　ｒ、　ｃｍ−’）３４８０．３３５０．３Ｌ３０．３０７０．２９４０．
Ｌ６３０，１５９０１５００．１４８５．１３Ｂ０．１
１７５元素分析（％）：Ｃ９Ｈ９０３Ｎ４ＣＩＳとして
の計算値　Ｃ；３７．４４．Ｈ；８．１４．Ｎ；１９．４
０実測値　Ｃ；３７．７４．）（；３．１７．Ｎ；１９
．７５（実施例２３）３−（４−アミノ−３−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）−５−メチル−１，２，４−オキサジアゾール（化
合物番号２４）の製造アセチルアミド体として３−（４−アセチルアミノ−３
−クロロフェニルスルホニルアミノ）５−メチル−１，
２，４−オキサジアゾールを用いることを除き実施例２
２と同様な操作を行い、化合物番号２４の化合物を得た
。

２０５℃　ｄ　ｅ　ｃ　ｏｍｐ。

ＩＨ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）２．
４３（ｓ、３Ｈ）、６．３４（ｂｓ、２Ｈ）６．６２−
６．９０（ｍ、ＩＨ）　、７．２．５−７．７５（ｍ、
２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｅｍ−１）３４８０．３４５０，３３９０．３３５０．３０８０．
２９２０．１８２０１５９０．１５００．１１・５５元素分析（％）；Ｃ９Ｈ９０３Ｎ４ＣＩＳとしての計算値　Ｃ；３７．４４．Ｈ；３．１４．Ｎ；１９．４
０実測値　Ｃ；３７．１９．Ｈ；３．３２．Ｎ；１９．
２２（実施例２４）３−（４−ヒドロキシフェニルスルホニルアミノ）−５
−メチル−１，２，４−オキサジアゾール（化合物番号
２５）の製造５−メチル−３−（４−メトキシフェニルスルホニルア
ミノ）−１，２，４−オキサジアゾール０．５ｇ（７）
塩化メチレン溶液２　Ｑ　ｍ　ｌに、−７０℃で三臭化
ホウ素の塩化メチレン溶液（１ｍｏｌ／１．）２０ｍｌ
を滴下した後室温で７２時間かき混ぜた。反応液をアル
カリ性にし酢酸二チルで２回洗浄した後水層を酸性にし
て酢酸エチルで２回抽出した。乾燥、濃縮して得られた
残　をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し化
合物番号２５の化合物０．１８ｇを得た。

２３１℃　ｄ　ｅ　ｃ　ｏｍｐ。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　、　　δｐｐｍ）２．
４７（ｓ、３）１）、Ｂ、９Ｄ（ｄ、Ｊ−９）１ｚ、２
Ｈ）７．７４（ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ、　２）１）Ｉ　Ｒ（
ＫＢ　ｒ、　Ｃｍ−１）８２５０．３０９０．２９３０．１６００，１５１５．
１３６０．１１８５元素分析（％）計算値実測値：Ｃ９Ｈ９０４Ｎ３ＳとしてのＣ；４２゜３５．Ｈ；３．５５．Ｎ：１８．４８Ｃ，４
１，９８，Ｈ，３，８８，Ｎ、ＩＢ、４０（実施例２５
）　水和剤本発明化合物を１０重量部、ジ−クライト（商品名、ジ
ークライト化学鉱業製）８６．５重量部、ニューカルゲ
ンＮＶ−４０６（商品名、竹本油脂製）２重量部及びデ
ィスクゾールＷＡ　（商品名、第−工業製薬製）１．５
重量部を混合粉砕して水和剤を得た。

（実施例２６）　乳剤本発明化合物を５重量部、キシレン７５重量部及びツル
ポール２８０６Ｂ　（商品名、東邦化学工業製）２０重
量部を均一に撹拌混合して乳剤を得た。

（実施例２７）　粒剤本発明化合物を１０重量部、ベントナイト５０重量部、
クニライト（商品名、国峰工業製）３５重量部及びツル
ポール８００Ａ　（商品名、東邦化学工業製）５重量部
を混合粉砕したのち、水を加え均一に撹拌し、造粒乾燥
して粒剤を得た。

（実施例２８）　水田湛水処理試験１００　Ｃｍ２のプラスチックポットに代掻き状態の水
田土壌を詰め、表１に示す雑草の種子を播き、さらに２
葉期の水稲（品種、ヤマホウシ）を１ポット当り２本２
株を移植し、約２ｃｍの温水状態で管理した。表１に示
す雑草の発生初期に、実施例２５に従って製剤した本発
明の除草剤を所定量水面に滴下処理した後、温室内に静
置し適時散水した。薬剤処理後、２０日目に除草効果及
び薬害を調査し表１に示す結果を得た。なお、除草効果
の評価は下記に示すように０〜５の数字で示した。

また、作物に対する薬害も除草効果と同じ基準で示した
。

抑草率０〜９％１０〜２９％３０〜４９％５０〜６９％７０〜８９％９０〜１００％畑茎葉処理試験のプラスチックポットに畑土壌を除草効果（実施例２９）００ｃｍ２詰め、試験植物の種子を一定量播種し、これらが見えな
くなる程度に覆土した。ノビエを１．５〜２葉期まで育
成した後、実施例２５に従って製剤した本発明の除草剤
を所定量スプレーで茎葉処理した。薬剤処理後、２０日
目に除草効果及び薬害を調査し表２に示す結果を得た。

なお、除草効果の評価は実施例２８と同様に行った。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）下記一般式［ I ］で示されるスルホンアミド誘
導体及び一般式［ I ］の化合物の塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］（但し、式中、Ｘ＾１は、Ｃ＿１〜Ｃ＿４直鎖又は分岐
アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４の直鎖又は
分岐したアルコキシ基、アミノ基、ニトロ基、ハロゲン
原子、Ｘ＾２は水素原子、ハロゲン原子を表すが、Ｘ＾
１が４−アミノ基のときはＸ＾２は水素原子ではない。Ｒ＾１は水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿４の直鎖又は分岐アル
キル基、ＣＯＯＲ＾３（Ｒ＾３はＣ＿１〜Ｃ＿４の直鎖
又は分岐したアルキル基を表す。）、無置換又はハロゲ
ン原子で適宜置換されたフェニール基、ハロアルキル基
、ベンジル基、Ｙ＾１は水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿６の直
鎖又は分岐アルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿４の直鎖又は分岐
アルケニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿４の直鎖又は分岐アルキニ
ル基、酸素で置換されていてもよいＣ＿２〜Ｃ＿６の直
鎖、分岐又は環状アルキル基を表す。）
（２）一般式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼［II］（但し、式中、Ｘ＾１、Ｘ＾２は前記と同じ意味を表す
が、Ｘ＾１が４−アミノ基のときはＸ＾２は水素原子で
はない。）で示されるヒドロキシグアニジン誘導体と一般式［III
］ ▲数式、化学式、表等があります▼［III］（但し、式中、Ｘ＾３はハロゲン原子、Ｒ＾１は前記と
同じ意味を表す。）で示される酸ハロゲン化物又は一般式［IV］▲数式、化
学式、表等があります▼［IV］（但し、式中、Ｒ＾１は前記と同じ意味を表す。）で示
される酸無水物とを反応させることを特徴とする一般式
［Ｖ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｖ］（但し、式中、Ｘ＾１、Ｘ＾２、Ｒ＾１は前記と同じ意
味を表すが、Ｘ＾１が４−アミノ基のときはＸ＾２は水
素原子ではない。）で示されるスルホンアミド誘導体の製造法。
（３）一般式［Ｖ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｖ］（但し、式中、Ｘ＾１、Ｘ＾２、Ｒ＾１は前記と同じ意
味を表すが、Ｘ＾１が４−アミノ基のときはＸ＾２は水
素原子ではない。）で示されるスルホンアミド誘導体と一般式［VI］Ｙ＾２
Ｘ＾４［VI］（但し、式中、Ｘ＾４はハロゲン原子、Ｙ＾２はＣ＿１
〜Ｃ＿６の直鎖又は分岐アルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿４の
直鎖又は分岐アルケニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿４の直鎖又は
分岐アルキニル基、酸素で置換されていてもよいＣ＿２
〜Ｃ＿６の直鎖、分岐又は環状アルキル基を表す。）で示されるハロゲン化合物とを反応させることを特徴と
する一般式［VII］ ▲数式、化学式、表等があります▼［VII］（但し、式中、Ｘ＾１、Ｘ＾２、Ｒ＾１、Ｙ＾２は前記
と同じ意味を表すが、Ｘ＾１が４−アミノ基のときはＸ
＾２は水素原子ではない。）で示されるスルホンアミド誘導体の製造法。
（４）一般式［VIII］ ▲数式、化学式、表等があります▼［VIII］（但し、式中、Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿４の直鎖又は分岐
アルキル基、Ｘ＾２、Ｒ＾１、Ｙ＾１は前記と同じ意味
を表す。）で示されるフェニルエーテル体を、酸の存在下反応させ
ることを特徴とする一般式［IX］▲数式、化学式、表等
があります▼［IX］（但し、式中、Ｘ＾２、Ｒ＾１、Ｙ＾１は前記と同じ意
味を表す。）で示されるスルホンアミド誘導体の製造法。
（５）一般式［Ｘ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｘ］（但し、式中、Ａｃはアセチル基、Ｘ＾５はハロゲン原
子、Ｒ＾１、Ｙ＾１は前記と同じ意味を表す。）で示さ
れるアセチルアミド体を加水分解することを特徴とする
一般式［Ｘ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｘ I ］（但し、式中、Ｘ＿５、Ｒ＿１、Ｙ＿１は前記と同じ意
味を表す。）で示されるスルホンアミド誘導体の製造法
。
（６）請求項（１）項記載のスルホンアミド誘導体を有
効成分として含有する除草剤。