JP2959001B2 - チアジアゾール誘導体、その製造法及びそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は新規なチアジアゾール誘導体、その製造法及
びそれを有効成分とする除草剤に関する。

［従来の技術］ 従来より、多くの除草剤が使用されてきたが、一般に
除草活性が十分でない、除草スペクトラムが狭い、作物
に薬害を生じる等の問題があった。また、従来、2,1,3
−ベンゾチアジアゾール誘導体及び1,2,4−又は１、
３、４−チアジアゾール誘導体の除草活性は知られてい
るが、一般式［Ｉ］で示されるような1,2,5−チアジア
ゾール誘導体が除草活性を有することは知られていな
い。

［発明が解決しようとする問題点］ 従って、本発明の目的は、除草活性が高くかつ作物に
対する安全性の高い新規化合物、その製造法及びそれを
有効成分とする新規な除草剤を提供することである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、新規なチアジ
アゾール誘導体が極めて優れた除草活性と選択性をもつ
ことを見いだし、本発明を完成した。

すなわち、本発明は、 一般式［VIII］ ［ただし、式中、Y,Zは同一又は互いに相異なって水
素原子、ハロゲン原子、R³、R⁴は同一又は互いに相異な
って水素原子、低級アルキル基、-COR⁵(R⁵は低級アルキ
ル基、低級アルキル基で置換されていてもよいアミノ基
を示す）またはR³、R⁴は互いに連結してフタロイル基を
表す。ただし、Y,Z,R³、R⁴が同時に水素原子である場
合、及びY,R³、R⁴が同時に水素原子でかつＺが４位の臭
素原子である場合を除く］で示されるチアジアゾール誘
導体。

一般式［II］ ［ただし式中、R¹,R²は同一又は互いに相異なって水素
原子、ハロゲン原子を示す］で示されるチアジアゾール
誘導体と一般式［III］ NHR⁶R⁷ ［III］ ［ただし、R⁶、R⁷は同一または互いに相異なって水素原
子、C₁〜C₆の低級アルキル基を示す］で表わされるアミ
ンとを反応させることを特徴とする一般式［IV］ ［ただし、式中、R¹、R²、R⁶、R⁷は前記と同じ意味を表
す］で示されるチアジアゾール誘導体の製造法、 一般式［II］ ［ただし、式中、R¹、R²は前記と同じ意味を表わす］で
示されるチアジアゾール誘導体とフタルイミドカリウム
とを反応させることを特徴とする一般式［Ｖ］ ［ただし、式中、R¹、R²は前記と同じ意味を表わす］で
示されるチアジアゾール誘導体の製造法、 一般式［Ｖ］ ［ただし、式中、R¹、R²は前記と同じ意味を表わす］で
示されるチアジアゾール誘導体を加水分解させることを
特徴とする一般式［VI］ ［ただし、式中、R¹、R²は前記と同じ意味を表わす］で
示されるチアジアゾール誘導体の製造法、及び 一般式［Ｉ］で示されるチアジアゾール誘導体を有効
成分として含有する除草剤を提供するものである。

［発明の具体的説明］ 本発明の一般式において、Y,Zは同一又は互いに相異
なって水素原子、ハロゲン原子を示す。またR¹、R²は同
一又は互いに相異なって水素原子、ハロゲン原子、R³、
R⁴は同一又は互いに相異なって水素原子、低級アルキル
基、-COR⁵(R⁵は低級アルキル基、低級アルキル基で置換
されていてもよいアミノ基を示す）又はR³、R⁴は互いに
連結してフタロイル基を表わすが、前記Y,Z,R¹およびR²
のハロゲン原子としてフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等を挙げることができ、R³、R⁴、R⁵の低
級アルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチ
ル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｎ−
ヘキシル、イソヘキシル等のC₁〜C₆の直鎖状あるいは分
枝状のアルキル基を挙げることができる。

また、一般式［III］におけるR⁶、R⁷のC₁〜C₆の低級
アルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イ
ソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t
ert−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｎ−ヘキ
シル、イソヘキシル等の直鎖状あるいは分枝状のアルキ
ル基を挙げることができる。

本発明の製造法を具体的に説明すると、 Ａ法：一般式［Ｉ］［VIII］で表される化合物は一般式
［II］ ［ただし、式中、R¹、R²は前記と同じ意味を表わす］で
示されるチアジアゾール誘導体と 一般式［III］ NHR⁶R⁷ ［III］ ［ただし、R⁶、R⁷は同一または互いに相異なって水素原
子、C₁〜C₆の低級アルキル基を示す］で表わされるアミ
ンとを溶媒の存在下、銅及び／又は塩化第一銅の存在あ
るいは非存在下、60〜150℃、数分〜48時間反応させる
ことにより製造することができる。反応に用いられる溶
媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール
類、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、1,3−ジメチル−２−イミダゾリジノン、リン酸ヘ
キサメチルトリアミド等の極性溶媒、水等を挙げること
ができる。反応に供される試剤の量は、一般式［II］で
示されるチアジアゾール誘導体１当量に対して、一般式
［III］で示されるアミン１〜100当量、銅１〜10当量、
塩化第一銅１〜10当量である。

Ｂ法：一般式［Ｉ］［VIII］で表される化合物は一般式
［II］ ［ただし、式中、R¹、R²は前記と同じ意味を表わす］で
示されるチアジアゾール誘導体とフタルイミドカリウム
とを溶媒の存在下、80〜150℃、数分〜48時間反応させ
ることにより製造することができる。反応に用いられる
溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール
類、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、1,3−ジメチル−２−イミダゾリジノン、リン酸ヘ
キサメチルトリアミド等の極性溶媒、水等を挙げること
ができる。反応に供される試剤の量は、一般式［II］で
示されるチアジアゾール誘導体１当量に対して、フタル
イミドカリウム１〜10当量である。

Ｃ法：一般式［Ｉ］［VIII］で表される化合物は、更に
一般式［Ｖ］ ［ただし、式中、R¹、R²は前記と同じ意味を表わす］で
示されるチアジアゾール誘導体を酸あるいはヒドラジン
で、溶媒の存在下、50〜100℃、数分〜24時間反応させ
ることにより製造することができる。反応に用いられる
溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール
類、水等を挙げることができる。酸としては塩酸、硫酸
等を挙げることができる。反応に供される試剤の量は、
一般式［Ｖ］で示されるチアジアゾール誘導体１当量に
対して、酸あるいはヒドラジン１〜100当量である。

Ｄ法：一般式［Ｉ］［VIII］で表される化合物は、また
一般式［VII］ ［ただし、式中、R¹、R²は前記と同じ意味を表し、R⁸は
水素原子または低級アルキル基を表わす］で示されるチ
アジアゾール誘導体とＸ-COR⁵（Ｘはハロゲン原子、R⁵
は前記と同じ意味を表わす）とを塩基及び溶媒の存在
下、40〜150℃、数分〜24時間反応させることにより製
造することができる。反応に用いられる溶媒としては、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエー
テル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、
ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素類、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アニリン等の第三級アミン、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、1,3−
ジメチル−２−イミダゾリジノン、リン酸ヘキサメチル
トリアミド等の極性溶媒等を挙げることができる。塩基
としては、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアニリン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナト
リウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシド等を挙げる
ことができる。反応に供される試剤の量は、一般式［VI
I］で示されるチアジアゾール誘導体１当量に対して、
Ｘ-COR⁵１〜５当量、塩基１〜10当量である。

一般式［Ｉ］で表される化合物を有効成分として含む
本発明の除草剤は、優れた除草効果を示す一方、作物に
対して殆ど影響を及ぼさない。すなわち、本発明の除草
剤は、畑地においては、問題となる種々の雑草、例え
ば、アオビユ、スベリヒユ、オナモミ、センダングサ、
ブタクサ、シロザ、オオイヌタデ、ハコベ、ナズナ、ミ
ミナグサ、シロバナチョウセンアサガオ、アメリカツノ
クサネム、マルバアサガオ、イヌホウズキ、ホトケノ
ザ、オオバコ、イチビ、カタバミ、ヤエムグラ、ソバカ
ズラ、オオアレチノギク、ヒメムカシヨモギ、ヒメジオ
ン、イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、スズメノカタ
ビラ、スズメノテッポウ、エンバク、カラスムギ、セイ
バンモロコシ等に対して、また、水田においては、問題
となる種々の雑草、例えば、タイヌビエ、アゼナ、キカ
シグサ、タマガヤツリ、ホタルイ、マツバイ、ミズガヤ
ツリ、コナギ、ウリカワ等に対して、雑草の発芽前処理
及び生育期処理において除草効果を有し、しかも、トウ
モロコシ、コムギ、イネ、ダイズ、ワタ、テンサイ等の
主要作物に対して問題となるような薬害を示さない。

本発明の除草剤は、他の農薬、例えば殺菌剤、殺虫
剤、除草剤、植物生長調節剤及び肥料、土壌改良剤等と
混合または併用して使用することができる。特に、他の
除草剤と混合使用することにより省力化をもたらすのみ
ならず、殺草スペクトラムの拡大並びに一層高い効果も
期待できる。混合使用し得る除草剤としては、2,4−ビ
ス（エチルアミノ）−６−エチルチオ−1,3,5−トリア
ジン〔一般名：シメトリン〕、2,4−ビス（イソプロピ
ルアミノ）−６−メチルチオ−1,3,5−トリアジン〔一
般名：プロメトリン〕、２−（1,2−ジメチルプロピル
アミノ）−４−エチルアミノ−６−メチルチオ−1,3,5
−トリアジン〔一般名：ジメタメトリン〕等のトリアジ
ン系除草剤;S−４−クロロベンジル＝N,N−ジエチルチ
オカーバメート〔一般名：ベンチオカーブ〕、Ｓ−α，
α−ジメチルベンジル＝N,N−ペンタメチレンチオカー
バメート〔一般名：ジメピペレート〕、Ｓ−ベンジル＝
Ｎ−エチル−Ｎ−（1,2−ジメチルプロピル）チオカー
バメート〔一般名：エスプロカルブ〕、Ｓ−エチルヘキ
サヒドロ−1H−アゼピン−１−カーボチオエート〔一般
名：モリネート〕、Ｏ−３−tert−ブチルフェニル＝Ｎ
−（６−メトキシ−２−ピリジル）−Ｎ−メチルチオカ
ーバメート〔一般名：ピリブチカルブ〕等のカーバメー
ト系除草剤;2,4−Ｄ、MCPB、２−（２−ナフチルオキ
シ）プロピオンアニリド〔一般名：ナプロアニリド〕、
２−（２−ジクロロ−３−メチルフェノキシ）プロピオ
ンアニリド〔一般名：クロメプロップ〕等のフェノキシ
系除草剤;2,4,6−トリクロロフェニル＝４−ニトロフェ
ニルエーテル（一般名：クロルニトロフェノン〕、2,4
−ジクロロフェニル＝３−メトキシ−４−ニトロフェニ
ルエーテル〔一般名：クロメトキシニル〕、2,4−ジク
ロロフェニル＝３−メトキシカルボニル−４−ニトロフ
ェニルエーテル〔一般名：ビフェノックス〕、２−クロ
ロ−４−トリフルオロメチルフェニル＝４−ニトロ−３
−（テトラヒドロピラン−３−イルオキシ）フェニルエ
ーテル〔試験名:MT-124〕等のジフェニルエーテル系除
草剤;N−ブトキシメチル−２−クロロ−２′,6′−ジエ
チルアセトアニリド〔一般名：ブタクロール〕、Ｎ−プ
ロポキシエチル−２−クロロ−２′,6′−ジエチルアセ
トアニリド〔一般名：プレチラクロール〕、Ｎ−メチル
−２−（２−ベンゾチアゾリルオキシ）アセトアニリド
〔一般名：メフェナセット〕、２′,3′−ジクロロ−４
−エトキシメトキシベンズアニリド〔試験名:HW-52〕、
Ｎ−（α，α，−ジメチルベンジル）−２−ブロモ−3,
3−ジメチルブチルアミド〔一般名：ブロモブチド〕、
３′,4′−ジクロロプロピオンアニリド〔一般名：プロ
パニル〕等のアミド系除草剤;1−（α，α，−ジメチル
ベンジル）−３−（４−メチルフェニル）ウレア〔一般
名：ダイムロン〕、１−（２−クロロベンジル）−３−
（α，α−ジメチルベンジル）ウレア〔試験名:JC-94
0〕等のウレア系除草剤;2−アミノ−３−クロロ−1,4−
ナフトキノン〔一般名:ACN〕等のキノン系除草剤;4−
（2,4−ジクロロベンゾイル）−1,3−ジメチル−５−ピ
ラゾリル＝ｐ−トルエンスルホネート〔一般名：ピラゾ
レート〕、４＝（2,4−ジクロロベンゾイル）−1,3−ジ
メチル−５−フェナシルオキシピラゾール〔一般名：ピ
ラゾキシフェン〕、４−（2,4−ジクロロ−３−メチル
ベンゾイル）−1,3−ジメチル−５−（４−メチルフェ
ナシルオキシ）ピラゾール〔一般名：ベンゾフェナッ
プ〕、５−ベンジルオキシ−４−（2,4−ジクロロベン
ゾイル）−１−メチルピラゾール〔試験名:NC-310〕、
５−tert−ブチル−３−（2,4−ジクロロ−５−イソプ
ロポキシフェニル）−1,3,4−オキサジアゾール−２−
（3H）−オン〔一般名：オキサジアゾン〕、3,7−ジク
ロロ−８−キノリンカルボン酸〔一般名：キンクロラッ
ク〕、３−クロロ−２−〔２−フルオロ−４−クロロ−
５−（１−プロピニルオキシ）フェニル〕−4,5,6,7−
テトラハイドロ−2H−インダゾール〔試験名:S-275〕、
３−イソプロピル−2,1,3−ベンゾチアジアジノン−
４）−2,2−ジオキシド〔一般名：ベンタゾン〕、１−
（３−メチルフェニル）−５−フェニル−1H−1,2,4−
トリアゾール−３−カルボキサミド〔試験名:KNW-242〕
等の複素環系除草剤;O,O−ジイソプロピル−２−（ベン
ゼンスルホンアミド）エチレンジチオホスフェート〔一
般名:SAP〕等の有機リン系除草剤；メチル ２−
［［［［［（4,6−ジメトキシピリミジン−２−イル）
アミノ］カルボニル］アミノ］スルホニル］メチル］ベ
ンゾエート〔一般名：ロンダックス〕、エチレン ５−
［３−（4,6−ジメトキシピリミジン−２−イル）ウレ
イドスルホニル］−１−メチルピラゾール−４−カルボ
キシレート〔一般名：ピラゾスルフロン−エチル〕等の
スルホニルウレア系除草剤等を挙げることができるが、
これらに限られるものではない。

一般式［Ｉ］で表される化合物を除草剤の有効成分と
して用いる場合は、通常、固体担体、溶媒、界面活性
剤、その他の製剤用補助剤と混合して乳剤、水和剤、フ
ロアブル剤、粒剤、粉剤等に製剤して用いることができ
る。

固体担体としては、カオリン、クレー、ベントナイ
ト、ケイソウ土、酸性白土、ホワイトカーボン、軽石粉
等を挙げることができる。また、溶媒としては、キシレ
ン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、イソプロ
パノール、エチレングリコール、セロソルブ等のアルコ
ール類、アセトン、シクロヘキサノン等のケトン類、鉱
油、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリル、水等を挙げることができる。

界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、アル
キルスルホン酸塩、アリールスルホン酸塩等の陰イオン
界面活性剤、ポリオキシエチレングリコールエーテル
類、ポリオキシエチレングリコールエステル類、多価ア
ルコールエステル類等の非イオン界面活性剤等を挙げる
ことができる。

その他の製剤用補助剤としては、ポリビニルアルコー
ル、リグニンスルホン酸塩、アラビアゴム等を挙げるこ
とができる。

上記のようにして得られた製剤は、有効成分として本
発明化合物を、0.1〜90重量％、好ましくは１〜80重量
％含有する。

また、本発明の除草剤の施用量は、気候条件、製剤形
態、処理時間、施用方法、施用場所、対象雑草、対象作
物等によって異なるが、通常、有効成分量で１〜1000g/
10a、好ましくは２〜500g/10aである。

［発明の効果］ 本発明により、除草剤として優れた除草活性及び広い
殺草スペクトラムを有する新規化合物及びその製造法が
提供された。また、一般式［Ｉ］で表される化合物を有
効成分として含有する除草剤は、発生前から生育期まで
の種々の雑草を防除することができ、作物に対する安全
性も高く水田、各種穀物畑、各種野菜畑、果樹、桑園、
非農耕地の雑草防除に有効に使用できる。特に、好まし
くは水田の雑草防除に有効に使用できる。

［実施例］ 以下、本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、
本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではな
い。

［実施例１］ ３−アミノ−４−（2,6−ジクロロフェニル）−1,2,5
−チアジアゾール（化合物番号１）の製造 ３−クロロ−４−（2,6−ジクロロフェニル）−1,2,5
−チアジアゾール5.31g、銅粉1.91g、塩化第一銅2.97
g、アンモニアガスを飽和させたメタノール溶液をステ
ンレス製容器に加え、密閉後120℃で24時間撹拌した。
放冷後、反応混合物をろ過し不溶物を取り除いた。ろ液
は濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製し、３−アミノ−４−（2,6−ジクロロフェニル）−
1,2,5−チアジアゾール2.19gを得た。

m.p.95〜97℃¹ H‐NMR（溶媒：CDCl₃、単位：δppm） 4.52（s,2H）,7.2〜7.5（m,3H） IR（KBr、cm^-1） 3425,3325,3210,1620,1535,1490,1430 1420,790,780 MS（m/z）:245（M⁺） ［実施例２］ ３−（４−クロロフェニル）−４−フタルイミド−1,
2,5−チアジアゾールの製造 ３−クロロ−４−（４−クロロフェニル）−1,2,5−
チアジアゾール1.16gのN,N−ジメチルホルムアミド溶液
にフタルイミドカリウム1.11gを加え、110℃で12時間加
熱還流した。放冷後、反応混合物を水に注ぎ、エーテル
で抽出した。エーテル層は、希水酸化ナトリウム水溶
液、水、飽和食塩水でそれぞれ２回洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにて精製し、３−（４−クロロフェニル）
−４−フタルイミド−1,2,5−チアジアゾール0.85gを得
た。

m.p.152〜153℃¹ H‐NMR（溶媒：CDCl₃、単位：δppm） 7.1〜7.4（m,2H）,7.4〜7.7（m,2H） 7.7〜8.0（m,4H） IR（KBr、cm^-1） 1790,1725,1440,1180,885,715 MS（m/z）:341（M⁺） ［実施例３］ ３−アミノ−４−（４−クロロフェニル）−1,2,5−
チアジアゾールの製造 ３−（４−クロロフェニル）−４−フタルイミド−1,
2,5−チアジアゾール0.41gのエタノール溶液に80％ヒド
ラジン水溶液0.05gを加え、１時間加熱還流した。放冷
後、反応混合物を水に注ぎ、エーテルで抽出した。エー
テル層は、水、飽和食塩水でそれぞれ２回洗浄した。無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し、３−アミノ−４−（４
−クロロフェニル）−1,2,5−チアジアゾール0.21gを得
た。

m.p.132〜133℃¹ H‐NMR（溶媒:Acetone-d₆、単位：δppm） 5.40（bs,2H）,7.2〜7.5（m,2H） 7.5〜7.8（m,2H） IR（KBr、cm^-1） 3410,3310,3190,1620,1515,1495,1435 1400,1090,830 MS（m/z）:211（M⁺） ［実施例４］ ３−（2,6−ジクロロフェニル）−４−メチルアミノ
−1,2,5−チアジアゾール（化合物番号２）の製造 ３−クロロ−４−（2,6−ジクロロフェニル）−1,2,5
−チアジアゾール5.31g、40％メチルアミン水溶液100ml
をステンレス製容器に加え、密閉後120℃で12時間撹拌
した。放冷後、反応混合物を水に注ぎ、エーテルで抽出
した。エーテル層は、水、飽和食塩水でそれぞれ３回洗
浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、３−（2,6
−ジクロロフェニル）−４−メチルアミノ−1,2,5−チ
アジアゾール2.55gを得た。

m.p. 145〜146℃¹ H‐NMR（溶媒：CDCl₃、単位：δppm） 3.02（s,3H）,4.10（bs,1H）,7.15〜7.4 （m,3H） IR（KBr、cm^-1） 3320,1555,1425,790,775 MS（m/z）:259（M⁺） ［実施例５］ ３−アセチルアミノ−４−（2,6−ジクロロフェニ
ル）−1,2,5−チアジアゾール（化合物番号３）の製造 ３−アミノ−４−（2,6−ジクロロフェニル）−1,2,5
−チアジアゾール0.49g、トリエチルアミン0.22gのN,N
−ジメチルホルムアミド溶液に塩化アセチル0.20gを加
え、60℃で12時間撹拌した。放冷後、反応混合物を水に
注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル層は、希塩酸、
水、飽和食塩水でそれぞれ２回洗浄した。無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにて精製し、３−アセチルアミノ−４−（2,6
−ジクロロフェニル）−1,2,5−チアジアゾール0.25gを
得た。

m.p.180〜185℃¹ H‐NMR（溶媒：CDCl₃、単位：δppm） 2.1（s,3H）,7.37（s,3H）,9.47（bs,1H） IR（KBr、cm^-1） 3290,1695,1540,1500,1425,1230,785 MS（m/z）:278（M⁺） ［実施例６］ ３−（2,6−ジクロロフェニル）−４−フタルイミド
−1,2,5−チアジアゾール（化合物番号４）の製造 ３−クロロ−４−（2,6−ジクロロフェニル）−1,2,5
−チアジアゾール2.66gのN,N−ジメチルホルムアミド溶
液にフタルイミドカリウム2.22gを加え、110℃で12時間
加熱還流した。放冷後、反応混合物を水に注ぎ、エーテ
ルで抽出した。エーテル層は、希水酸化ナトリウム水溶
液、水、飽和食塩水でそれぞれ２回洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにて精製し、３−（2,6−ジクロロフェニ
ル）−４−フタルイミド−1,2,5−チアジアゾール1.90g
を得た。

m.p.214〜215℃¹ H‐NMR（溶媒：CDCl₃、単位：δppm） 7.15〜7.4（m,3H）,7.55〜7.95（m,4H） IR（KBr、cm^-1） 1790,1745,1730,1470,1465,1430,1415 1310,710 MS（m/z）:375（M⁺） ［実施例７］ ３−（2,6−ジクロロフェニル）−４−（3,3−ジメチ
ルウレイド）−1,2,5−チアジアゾール（化合物番号
５）の製造 ３−アミノ−４−（2,6−ジクロロフェニル）−1,2,5
−チアジアゾール0.49g、トリエチルアミン0.22gのN,N
−ジメチルホルムアミド溶液にジメチルカルバモイルク
ロリド0.24gを加え、120℃で12時間撹拌した。放冷後、
反応混合物を水に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル
層は、希塩酸、水、飽和食塩水でそれぞれ２回洗浄し
た。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製し、３−（2,6−ジ
クロロフェニル）−４−（3,3−ジメチルウレイド）−
1,2,5−チアジアゾール0.19gを得た。

m.p.100〜103℃¹ H‐NMR（溶媒：CDCl₃、単位：δppm） 2.83（s,3H）,3.00（s,3H）,7.15〜7.45（m,3H） 8.27（s,1H） IR（KBr、cm^-1） 1630,1460,1425,1380,1115,1100,790,775 MS（m/z）:316（M⁺） ［実施例８］ ３−イソブチリルアミノ−４−（2,6−ジクロロフェ
ニル）−1,2,5−チアジアゾール（化合物番号６）の製
造 ３−アミノ−４−（2,6−ジクロロフェニル）−1,2,5
−チアジアゾール0.49g、トリエチルアミン0.22gのN,N
−ジメチルホルムアミド溶液に塩化イソブチリル0.27g
を加え、60℃で12時間撹拌した。放冷後、反応混合物を
水に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル層は、希塩
酸、水、飽和食塩水でそれぞれ２回洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにて精製し、３−イソブチリルアミノ−４
−（2,6−ジクロロフェニル）−1,2,5−チアジアゾール
0.23gを得た。

m.p.112〜117℃¹ H‐NMR（溶媒：CDCl₃、単位：δppm） 1.08（d,J＝7Hz,6H）,2.68（septet,J＝7Hz,1H） 7.2〜7.45（m,3H）,8.10（bs,1H） IR（KBr、cm^-1） 3290,1700,1540,1495,1430,1145 MS（m/z）:315（M⁺） ［実施例９］（水和剤） 本発明化合物を10重量部、ジークライト（商品名、ジ
ークライト化学鉱業製）86.5重量部、ニューカルゲンNV
-406（商品名、竹本油脂製）２重量部及びディスクゾー
ルWA（商品名、第一工業製薬製）1.5重量部を混合粉砕
して水和剤を得た。

［実施例10］（乳剤） 本発明化合物を５重量部、キシレン75重量部及びソル
ポール2806B（商品名、東邦化学工業製）20重量部を均
一に撹拌混合して乳剤を得た。

［実施例11］（粒剤） 本発明化合物を10重量部、ベントナイト50重量部、ク
ニライト（商品名、国峰工業製）35重量部及びソルポー
ル800A（商品名、東邦化学工業製）５重量部を混合粉砕
したのち、水を加え均一に撹拌し、造粒乾燥して粒剤を
得た。

［実施例12］水田湛水処理試験 100cm²のプラスチックポットに代掻き状態の水田土壌
を詰め、表１に示す雑草の種子を播き、さらに２葉期の
水稲（品種、ヤマホウシ）を１ポット当り２本２株を移
植し、約2cmの湛水状態で管理した。表１に示す雑草の
発生初期に、実施例９に従って製剤した本発明の除草剤
を所定量水面に滴下処理した後、温室内に静置し適時散
水した。薬剤処理後、20日目に除草効果及び薬害を調査
し表１に示す結果を得た。なお、除草効果の評価は下記
に示すように０〜５の数字で示した。また、作物に対す
る薬害も除草効果と同じ基準で示した。

除草効果 抑草率 ０ ０〜９％ １ 10〜29％ ２ 30〜49％ ３ 50〜69％ ４ 70〜89％ ５ 90〜100％

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 内田 淳子 (56)参考文献 特公 昭46−38150（ＪＰ，Ｂ１) Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅ ｍ．（1979），16（５），ｐａｇｅｓ 1009−1015 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C07D 285/00 - 285/38 C07D 417/04 A01N 43/82 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式［VIII］ ［ただし、式中、Y,Zは同一又は互いに相異なって水素
   原子、ハロゲン原子、R³、R⁴は同一又は互いに相異なっ
   て水素原子、低級アルキル基、-COR⁵（R⁵は低級アルキ
   ル基、低級アルキル基で置換されていてもよいアミノ基
   を示す）またはR³、R⁴は互いに連結してフタロイル基を
   表す。ただし、Y,Z,R³、R⁴が同時に水素原子である場
   合、及びY,R³、R⁴が同時に水素原子でかつＺが４位の臭
   素原子である場合を除く］で示されるチアジアゾール誘
   導体。
2. 【請求項２】一般式［II］ ［ただし式中、R¹,R²は同一又は互いに相異なって水素
   原子、ハロゲン原子を示す］で表されるチアジアゾール
   誘導体と一般式［III］ NHR⁶R⁷ ［III］ ［ただし、R⁶,R⁷は同一または互いに相異なって水素原
   子、C₁〜C₆の低級アルキル基を示す］で表されるアミン
   とを反応させることを特徴とする一般式［IV］ ［ただし、式中R¹,R²,R⁶,R⁷は前記と同じ意味を表す］
   で示されるチアジアゾール誘導体の製造法。
3. 【請求項３】一般式［II］ ［ただし、式中、R¹、R²は前記と同じ意味を表す］で示
   されるチアジアゾール誘導体とフタルイミドカリウムと
   を反応させることを特徴とする一般式［Ｖ］ ［ただし、式中、R¹、R²は前記と同じ意味を表す］で示
   されるチアジアゾール誘導体の製造法。
4. 【請求項４】一般式［Ｖ］ ［ただし、式中、R¹、R²は前記と同じ意味を表す］で示
   されるチアジアゾール誘導体を加水分解させることを特
   徴とする一般式［VI］ ［ただし、式中、R¹、R²は前記と同じ意味を表す］で示
   されるチアジアゾール誘導体の製造法。
5. 【請求項５】一般式［Ｉ］ ［ただし、式中、R¹、R²、R³、R⁴は前記と同じ意味を表
   す］で示されるチアジアゾール誘導体を有効成分として
   含有する除草剤。