JPS63221121A - エポキシ樹脂 - Google Patents
エポキシ樹脂Info
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- JPS63221121A JPS63221121A JP5367087A JP5367087A JPS63221121A JP S63221121 A JPS63221121 A JP S63221121A JP 5367087 A JP5367087 A JP 5367087A JP 5367087 A JP5367087 A JP 5367087A JP S63221121 A JPS63221121 A JP S63221121A
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Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の技術分野)
本発明は耐熱性、耐水性、耐候性にすぐれ、かつ分子内
の官能基を一定の比率で含有させることにより吸水性を
改良したエポキシ樹脂に関するものである。
の官能基を一定の比率で含有させることにより吸水性を
改良したエポキシ樹脂に関するものである。
(従来技術)
一般的に最も広く使用されているエポキシ樹脂は、ビス
フェノールAとエピクロルヒドリンとの反応によって製
造されるエビ−ビス型エポキシ樹脂である。
フェノールAとエピクロルヒドリンとの反応によって製
造されるエビ−ビス型エポキシ樹脂である。
この樹脂は、液体から固体までの幅広い製品が得られ、
常温でポリアミンを用いて硬化できるほど反応性が高い
。
常温でポリアミンを用いて硬化できるほど反応性が高い
。
しかし、その硬化物は耐水性にすぐれ2強じんであるに
もかかわらず、耐候性、電気的性質、が悪いこと、熱変
形温度が低いという欠点がある。
もかかわらず、耐候性、電気的性質、が悪いこと、熱変
形温度が低いという欠点がある。
IC,LSIまたは超LSIなどの封止用樹脂としては
、ノボラックフェノールやノボラッククレゾール型のエ
ポキシ樹脂が使用されているが。
、ノボラックフェノールやノボラッククレゾール型のエ
ポキシ樹脂が使用されているが。
樹脂中に含まれる塩素が電子部品の電気特性を悪化させ
ることなどが問題となっている。
ることなどが問題となっている。
一方、脂環式エポキシ樹脂は、塩素を含まず、電気特性
、耐熱性にすぐれたエポキシ樹脂である。
、耐熱性にすぐれたエポキシ樹脂である。
しかし、現在、製造されている脂環式エポキシ樹脂は、
反応性が低いため、硬化方法も限られている。
反応性が低いため、硬化方法も限られている。
(発明が解決しようとする問題点)
特開昭−60−161973で提案されたエポキシ樹脂
は、耐水性、耐熱性、耐候性にすぐれ。
は、耐水性、耐熱性、耐候性にすぐれ。
−分子中に
の骨格を1つ以上含み、かつ従来の脂環式エポキシ樹脂
に比べ、高い反応性を有し、酸無水物、フェノールナミ
ン硬化が可能である。
に比べ、高い反応性を有し、酸無水物、フェノールナミ
ン硬化が可能である。
しかし、このエポキシ樹脂は硬化物の吸水率が比較的高
いため、半導体封止材などの電気分野用としでは、十分
なものではなかった。
いため、半導体封止材などの電気分野用としでは、十分
なものではなかった。
そこで本発明者らは、オキシシクロヘキサン骨格を有す
るエポキシ樹脂の分子中にビニルシクロヘキサン骨格を
導入することにより吸水率が改良されることを見出し本
発明に到達した。
るエポキシ樹脂の分子中にビニルシクロヘキサン骨格を
導入することにより吸水率が改良されることを見出し本
発明に到達した。
(発明の構成)
即ち本発明は
[−・分子中に(I)および(II)で表わされる部を
有するエポキシ樹脂において官能基の数の比が平均1.
0〜4.0であることを特徴とするエポキシ樹脂」 である。
有するエポキシ樹脂において官能基の数の比が平均1.
0〜4.0であることを特徴とするエポキシ樹脂」 である。
次に本発明について詳述する。
本発明の(I>および(II)の部分構造を一定の比率
で有するエポキシ樹脂は、(II)で表わされる基本構
造を有するポリエーテル化合物のビニル基を一部エボキ
シ化したものである。
で有するエポキシ樹脂は、(II)で表わされる基本構
造を有するポリエーテル化合物のビニル基を一部エボキ
シ化したものである。
(II)で表わされる基本構造を有するポリエーテル化
合物は活性水素を有する化合物と4−ビニルシクロヘキ
セン1−オキシド および他のエポキシ基を1個有する化合物を触媒存在下
に反応させることにより得ることができる。
合物は活性水素を有する化合物と4−ビニルシクロヘキ
セン1−オキシド および他のエポキシ基を1個有する化合物を触媒存在下
に反応させることにより得ることができる。
この反応において、活性水素を有する化合物と4−ビニ
ルシクロヘキセン1−オキシドおよびエポキシ基を1個
有する化合物との反応比率を変えることにより分子旦を
種々間第することができる。
ルシクロヘキセン1−オキシドおよびエポキシ基を1個
有する化合物との反応比率を変えることにより分子旦を
種々間第することができる。
また、活性水素を有する化合物1分子当たり4−ビニル
シクロヘキセン1−オキシドおよびエポキシ基を1個有
する化合物を合せて2〜100個の割合で反応させるの
が望ましい。
シクロヘキセン1−オキシドおよびエポキシ基を1個有
する化合物を合せて2〜100個の割合で反応させるの
が望ましい。
その和が100以上では融点の高い固体となり、実際上
は使用できるものとはならない。
は使用できるものとはならない。
4−ビニルシクロヘキセン1−オキシドとエポキシ基を
1個有する化合物は4−ビニルシクロヘキセン1−オキ
シドを1〜100%、エポキシ基を1個有する化合物を
99〜0%の割合で反応させる。
1個有する化合物は4−ビニルシクロヘキセン1−オキ
シドを1〜100%、エポキシ基を1個有する化合物を
99〜0%の割合で反応させる。
4−ビニルシクロヘキセン1−オキシドが1%以下では
シクロヘギサン骨格の特徴が出ない。
シクロヘギサン骨格の特徴が出ない。
活性水素を有する化合物としては、アルコール類、フェ
ノール類、カルボン酸類、アミン類、チオール類等があ
げられる。
ノール類、カルボン酸類、アミン類、チオール類等があ
げられる。
反応時に用いられる触媒としてはメチルアミン、エチル
アミン、プロピルアミン、ピペラジン等のアミン類、ピ
リジン類、イミダゾール類等の有機塩基、テトラブチル
アンモニウムブロマイドなどの4級アンモニウム塩、ギ
酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸類、硫酸、塩酸等の
無機酸、ナトリウムメチラート等のアルカリ金兄類のア
ルコラード類、KOH,NaOH等のアルカリ類、BF
3、ZnC,ll 2 、AIl (J 3.5nCj
4等のルイス酸又はそのコンプレックス類、トリエチ
ルアルミニウム、ジエチル亜鉛等の有機金属化合物をあ
げることができる。
アミン、プロピルアミン、ピペラジン等のアミン類、ピ
リジン類、イミダゾール類等の有機塩基、テトラブチル
アンモニウムブロマイドなどの4級アンモニウム塩、ギ
酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸類、硫酸、塩酸等の
無機酸、ナトリウムメチラート等のアルカリ金兄類のア
ルコラード類、KOH,NaOH等のアルカリ類、BF
3、ZnC,ll 2 、AIl (J 3.5nCj
4等のルイス酸又はそのコンプレックス類、トリエチ
ルアルミニウム、ジエチル亜鉛等の有機金属化合物をあ
げることができる。
触媒のmは種類によって異なるが、出発原料に対して0
.01〜10%、好ましくは0.1〜5%の範囲で使用
することができる。
.01〜10%、好ましくは0.1〜5%の範囲で使用
することができる。
反応温度は−20〜200”C好ましくは0〜120℃
である。反応は溶媒を用いて行なうこともできる。
である。反応は溶媒を用いて行なうこともできる。
このようにして得たビニル基側鎖を有するポリエーテル
化合物を過酸類およびハイドロパーオキサイド類のよう
な酸化剤でエポキシ化することにより本発明のエポキシ
樹脂を得ることができる。
化合物を過酸類およびハイドロパーオキサイド類のよう
な酸化剤でエポキシ化することにより本発明のエポキシ
樹脂を得ることができる。
過酸類としては過ギ酸、過酢酸、過安息香酸、トリフル
オロ過酢酸等を用いることができる。
オロ過酢酸等を用いることができる。
このうち特に過酢酸は工業的に安価に入手可能で、かつ
安定度も高く、好ましいエポキシ化剤である。
安定度も高く、好ましいエポキシ化剤である。
ハイドロパーオキサイド類としては、過酸化水素、ター
シャリブチルハイドロパーオキサイド、クメンパーオキ
サイド等を用いることができる。
シャリブチルハイドロパーオキサイド、クメンパーオキ
サイド等を用いることができる。
エポキシ化の際には必要に応じて触媒を用いることがで
きる。
きる。
たとえば過酸の場合、炭酸ソーダなどのアルカリや硫酸
などの酸を触媒として用い得る。
などの酸を触媒として用い得る。
また、ハイドロパーオキサイドの場合、タングステン酸
と苛性ソーダの混合物を過酸化水素とあるいは有機酸を
過酸化水素と、あるいはモリブデンヘキサカルボニルを
ターシャリブチルハイドロ・パーオキサイドと使用して
触媒効果を得ることができる。
と苛性ソーダの混合物を過酸化水素とあるいは有機酸を
過酸化水素と、あるいはモリブデンヘキサカルボニルを
ターシャリブチルハイドロ・パーオキサイドと使用して
触媒効果を得ることができる。
エポキシ化反応は、装置や原料物性に応じて溶媒使用の
有無や反応温度を3面して行なう。
有無や反応温度を3面して行なう。
用いるエポキシ化剤の反応性によって使用できる反応温
度域は定まる。
度域は定まる。
好ましいエポキシ化剤である過酢波についていえば0〜
70℃が好ましい。
70℃が好ましい。
0℃以下では反応が遅く、70℃では過酢酸の分解がお
きる。
きる。
又、ハイドロパーオキサイドの1例であるターシャルブ
チルハイドロパーオキサイド/モリブデン二酸化物ジア
セチルアセトナート系では同じ理由で20.”0〜15
0℃が好ましい。
チルハイドロパーオキサイド/モリブデン二酸化物ジア
セチルアセトナート系では同じ理由で20.”0〜15
0℃が好ましい。
溶媒は原料粘度の低下、エポキシ化剤の希釈による安定
化などの目的で使用することができる。
化などの目的で使用することができる。
過酢酸の場合であれば芳香族化合物、エーテル化合物、
エステル化合物、ケトン化合物などを溶媒として用いる
ことができる。
エステル化合物、ケトン化合物などを溶媒として用いる
ことができる。
で表わされる官能基の数の比
が平均1.0〜4.0になるようにビニル基の内50〜
80%をエポキシ化する。
80%をエポキシ化する。
の比が1.0未満では硬化物の架橋密度が低く、4.0
を越えると吸水率が高くなる。
を越えると吸水率が高くなる。
このエポキシ化合物は、不飽和結合に対するエポキシ化
剤の仕込みモル比を′Awすることにより合成する。
剤の仕込みモル比を′Awすることにより合成する。
過酢酸の場合、仕込みモル比を0.5〜0.8にするの
が好ましい。
が好ましい。
目的化合物は濃縮等の通常の化学工学的手段によって反
応粗液から取り出すことができる。
応粗液から取り出すことができる。
(発明の効果)
このようにして得られた本発明のエポキシ化合物とフェ
ノールノボラック樹脂やその他の硬化剤との硬化物は耐
熱性、耐水性、耐候性にすぐれ、かつ吸水性が低いため
優れたLSI封止材料として用いることができる。
ノールノボラック樹脂やその他の硬化剤との硬化物は耐
熱性、耐水性、耐候性にすぐれ、かつ吸水性が低いため
優れたLSI封止材料として用いることができる。
又コイルの含浸などのエポキシドの従来の用途の代替と
して、も重合度などを自由に調節することにより性能を
適合させることができる長所を有している。
して、も重合度などを自由に調節することにより性能を
適合させることができる長所を有している。
更にL E’Dや半導体の封止材料、塗料などの幅広い
用途に適用できる。
用途に適用できる。
以下に実施例をあげてさらに本発明の詳細な説明する。
合成例1
トリメチロールプロパン134g(1モル)、4−ビニ
ルシクロヘキセン−1−オキサイド18609<15モ
ル)を混合し、BF3−エーテラートの10%酢駿エチ
ル溶液4009を50℃で4時間かけて滴下した。
ルシクロヘキセン−1−オキサイド18609<15モ
ル)を混合し、BF3−エーテラートの10%酢駿エチ
ル溶液4009を50℃で4時間かけて滴下した。
得られた反応粗液に酢酸エチルを加えて水洗し、次に酢
酸エチル層を濃縮して下式の構造を有する不飽和化合物
1990gを得た。
酸エチル層を濃縮して下式の構造を有する不飽和化合物
1990gを得た。
(rrt+ n2+ n3−平均15)ただしA Gt
、次式で表わされる。
、次式で表わされる。
この化合物5009を酢酸エチル25o9に溶解して反
応器に仕込み、過酸!1172g(ビニル基に対するモ
ル比0.6)を酢酸エチル溶液として50℃で4時間か
けて滴下した。
応器に仕込み、過酸!1172g(ビニル基に対するモ
ル比0.6)を酢酸エチル溶液として50℃で4時間か
けて滴下した。
滴下終了後、ざらに50℃で2時間熟成した。
酸層、酢層エチル、および過酢酸を除去後、再び酢酸エ
チルに溶解し、蒸留水で洗浄した後、酢酸エチル層を濃
縮し、次の構造を有する化合物を得た。
チルに溶解し、蒸留水で洗浄した後、酢酸エチル層を濃
縮し、次の構造を有する化合物を得た。
(nl + n2+ n3濡平均15)ただしBは次式
で表わされる。
で表わされる。
57.6% 37.8% 4.7%化学分析よりオ
キシラン酸素濃度6.20%、ヨウ素1fi72.1、
ケン化価20.0であった。
キシラン酸素濃度6.20%、ヨウ素1fi72.1、
ケン化価20.0であった。
比較合成例
過酢酸の仕込量を286g(ビニル基に対するモル比1
.0)に変えた他は実施例と同様に行ない、下記の構造
式を有するエポキシ化合物を得た。
.0)に変えた他は実施例と同様に行ない、下記の構造
式を有するエポキシ化合物を得た。
(n1+ n2+ n3富平均15)
Bの組成は次のとおりである。
83.1% 8.2% 6.7%
す
応用例
実施例および比較合成例で得たエポキシ化合物とタレゾ
ールノボラック樹脂(詳栄化学IPS F−4300)
、トリフェニルホスフィンを表1のように配合して溶融
混線し、冷却、粉砕してエポキシ樹脂組成物を得た。
ールノボラック樹脂(詳栄化学IPS F−4300)
、トリフェニルホスフィンを表1のように配合して溶融
混線し、冷却、粉砕してエポキシ樹脂組成物を得た。
ざらに70℃100Kg/Ciでプレスし30分かけて
170℃まで加熱して前硬化、170℃で4時間後硬化
し吸水率を測定した。
170℃まで加熱して前硬化、170℃で4時間後硬化
し吸水率を測定した。
以上のように本発明で得られるエポキシ樹脂は吸水率が
改良されていることが明らかである。
改良されていることが明らかである。
特許出願人 ダイセル化学工業株式会社代理人
弁理士 !!3 S!l 隆手 続 補 正
I (自発)昭和62年4月21日 1、事件の表示 昭和62年特許願第53670号 2、発明の名称 エポキシ樹脂 3、補正をする1に 事件との関係 特許出願人 郵便番号 590 住 所 大阪府堺市鉄砲町1番地 名 称 (290)ダイセル化学工業株式会社代表者
久保1)美文 4、代理人 住所 東京都千代田区霞が関三丁目8番1号虎の門三井
ビル ダイセル化学工業株式会社 特許部内 )\ヤぜ 5、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄 および発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 (1)特許請求の範囲を別紙の通り補正する。
弁理士 !!3 S!l 隆手 続 補 正
I (自発)昭和62年4月21日 1、事件の表示 昭和62年特許願第53670号 2、発明の名称 エポキシ樹脂 3、補正をする1に 事件との関係 特許出願人 郵便番号 590 住 所 大阪府堺市鉄砲町1番地 名 称 (290)ダイセル化学工業株式会社代表者
久保1)美文 4、代理人 住所 東京都千代田区霞が関三丁目8番1号虎の門三井
ビル ダイセル化学工業株式会社 特許部内 )\ヤぜ 5、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄 および発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 (1)特許請求の範囲を別紙の通り補正する。
(2)明lll書の第3頁の(1)式
に修正する。
(3)明III書第3頁下から3行目
[エノールアミン硬化・・・」
を
「エノールおよびアミン硬化・・・J
に修正する。
(4)明細書の第4頁の(I)式
に序正する。
f5)明wU!J(’)IT 4 頁1) (II)
式に修正する。
式に修正する。
(6)明細書の第10頁の(1)式
に修正する。
(7)明IB書の第10頁の(II)式に修正する。
(8)明!1ill山の第12頁の下から4行目の式に
修正する。
修正する。
(9)明mwの第13頁[相]下から5行目の式に修正
する。
する。
(10)明細書の第13頁の最下行の式に修、正する。
(11)明I’llの第14頁の下から4行目の式に修
正する。
正する。
別舐
2、特許請求の範囲
一分子中に([)および(IT)で表わされる部分!R
造を有するエポキシ引脂 において、官能基の比 が平均1.0〜4.0であることを特徴とするエポキシ
調脂。
造を有するエポキシ引脂 において、官能基の比 が平均1.0〜4.0であることを特徴とするエポキシ
調脂。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一分子中に( I )および(II)で表わされる部分構造
を有するエポキシ樹脂 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) において、官能基の数の比 ▲数式、化学式、表等があります▼ が平均1.0〜4.0であることを特徴とするエポキシ
樹脂。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5367087A JPH0725864B2 (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | エポキシ樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5367087A JPH0725864B2 (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | エポキシ樹脂 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63221121A true JPS63221121A (ja) | 1988-09-14 |
JPH0725864B2 JPH0725864B2 (ja) | 1995-03-22 |
Family
ID=12949271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5367087A Expired - Lifetime JPH0725864B2 (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | エポキシ樹脂 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0725864B2 (ja) |
Cited By (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0665107A2 (en) * | 1994-01-31 | 1995-08-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing ink jet recording head and ink jet recording head manufacturing by the method |
US5478606A (en) * | 1993-02-03 | 1995-12-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing ink jet recording head |
US6354698B1 (en) | 1997-12-26 | 2002-03-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection method |
US6481819B2 (en) | 2000-07-10 | 2002-11-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head and recording apparatus having recording element substrates with different liquid ejection systems |
US6547381B2 (en) | 2000-06-23 | 2003-04-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink, image recording process, ink cartridge, recording unit, ink set, crust-preventing method and image forming apparatus |
US6582060B1 (en) | 1998-04-28 | 2003-06-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejecting method, liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus |
US6663217B2 (en) | 2000-09-29 | 2003-12-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording apparatus |
US6830309B2 (en) | 2000-09-06 | 2004-12-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing ink jet recording head, ink jet recording head and ink jet recording method |
WO2004111732A1 (en) | 2003-06-16 | 2004-12-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, ink-jet recording head using the composition, and production method for the same |
US6895668B2 (en) | 1999-03-15 | 2005-05-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing an ink jet recording head |
US6932882B2 (en) | 2000-07-11 | 2005-08-23 | Kansai Paint Co., Ltd | Coated film and method of laminating the same |
US6951380B2 (en) | 2002-07-10 | 2005-10-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing microstructure, method of manufacturing liquid discharge head, and liquid discharge head |
WO2006001518A2 (en) | 2004-06-28 | 2006-01-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Cationic photopolymerizable epoxy resin composition, minute structural member using the same and method for manufacturing minute structural member |
WO2006001515A1 (en) | 2004-06-28 | 2006-01-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, ink jet head using photosensitive resin composition, and process for manufacturing ink jet head |
US6993840B2 (en) | 2002-07-18 | 2006-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of liquid jet head |
US7055938B1 (en) | 1995-04-21 | 2006-06-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head and process for production thereof |
US7473520B2 (en) | 2004-12-03 | 2009-01-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, ink jet recording head using such composition and method for manufacturing such recording head |
US7629111B2 (en) | 2004-06-28 | 2009-12-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head manufacturing method, and liquid discharge head obtained using this method |
US7670757B2 (en) | 2004-06-28 | 2010-03-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, method of forming level difference pattern using the photosensitive resin composition, and method of producing ink jet head |
US7735961B2 (en) | 2005-10-20 | 2010-06-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and method of producing the same |
US8105761B2 (en) | 2008-01-25 | 2012-01-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head manufacturing method |
US8227043B2 (en) | 2004-06-28 | 2012-07-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head manufacturing method, and liquid discharge head obtained using this method |
US9254660B2 (en) | 2013-09-02 | 2016-02-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing a liquid ejection head |
JP2016147973A (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | 株式会社ダイセル | 多官能エポキシ化合物及びその製造方法 |
US10363746B2 (en) | 2016-12-20 | 2019-07-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing liquid ejection head |
US10618287B2 (en) | 2017-08-03 | 2020-04-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head, method for manufacturing the same, and recording method |
-
1987
- 1987-03-09 JP JP5367087A patent/JPH0725864B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5478606A (en) * | 1993-02-03 | 1995-12-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing ink jet recording head |
EP0665107A3 (en) * | 1994-01-31 | 1996-05-08 | Canon Kk | A method of manufacturing an ink jet recording head and an ink jet recording head produced by this method. |
US6455112B1 (en) | 1994-01-31 | 2002-09-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing ink jet recording head and ink jet recording head manufactured by the method |
EP0665107A2 (en) * | 1994-01-31 | 1995-08-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing ink jet recording head and ink jet recording head manufacturing by the method |
US7055938B1 (en) | 1995-04-21 | 2006-06-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head and process for production thereof |
US6354698B1 (en) | 1997-12-26 | 2002-03-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection method |
US6612688B2 (en) | 1997-12-26 | 2003-09-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection method |
US6582060B1 (en) | 1998-04-28 | 2003-06-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejecting method, liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus |
US6895668B2 (en) | 1999-03-15 | 2005-05-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing an ink jet recording head |
US6547381B2 (en) | 2000-06-23 | 2003-04-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink, image recording process, ink cartridge, recording unit, ink set, crust-preventing method and image forming apparatus |
US6481819B2 (en) | 2000-07-10 | 2002-11-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head and recording apparatus having recording element substrates with different liquid ejection systems |
US6932882B2 (en) | 2000-07-11 | 2005-08-23 | Kansai Paint Co., Ltd | Coated film and method of laminating the same |
US6830309B2 (en) | 2000-09-06 | 2004-12-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing ink jet recording head, ink jet recording head and ink jet recording method |
US6663217B2 (en) | 2000-09-29 | 2003-12-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording apparatus |
US6951380B2 (en) | 2002-07-10 | 2005-10-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing microstructure, method of manufacturing liquid discharge head, and liquid discharge head |
US6993840B2 (en) | 2002-07-18 | 2006-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of liquid jet head |
WO2004111732A1 (en) | 2003-06-16 | 2004-12-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, ink-jet recording head using the composition, and production method for the same |
US7063933B2 (en) | 2003-06-16 | 2006-06-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, ink-jet recording head using the composition, and production method for the same |
US7670757B2 (en) | 2004-06-28 | 2010-03-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, method of forming level difference pattern using the photosensitive resin composition, and method of producing ink jet head |
WO2006001515A1 (en) | 2004-06-28 | 2006-01-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, ink jet head using photosensitive resin composition, and process for manufacturing ink jet head |
US7575851B2 (en) | 2004-06-28 | 2009-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Cationic photopolymerizable epoxy resin composition, minute structural member using the same and method for manufacturing minute structural member |
US7629111B2 (en) | 2004-06-28 | 2009-12-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head manufacturing method, and liquid discharge head obtained using this method |
WO2006001518A2 (en) | 2004-06-28 | 2006-01-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Cationic photopolymerizable epoxy resin composition, minute structural member using the same and method for manufacturing minute structural member |
US8227043B2 (en) | 2004-06-28 | 2012-07-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head manufacturing method, and liquid discharge head obtained using this method |
US7473520B2 (en) | 2004-12-03 | 2009-01-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, ink jet recording head using such composition and method for manufacturing such recording head |
US7735961B2 (en) | 2005-10-20 | 2010-06-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and method of producing the same |
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US9254660B2 (en) | 2013-09-02 | 2016-02-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing a liquid ejection head |
JP2016147973A (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | 株式会社ダイセル | 多官能エポキシ化合物及びその製造方法 |
US10363746B2 (en) | 2016-12-20 | 2019-07-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing liquid ejection head |
US10618287B2 (en) | 2017-08-03 | 2020-04-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head, method for manufacturing the same, and recording method |
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Publication number | Publication date |
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JPH0725864B2 (ja) | 1995-03-22 |
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