JPS6320466A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPS6320466A JPS6320466A JP16367286A JP16367286A JPS6320466A JP S6320466 A JPS6320466 A JP S6320466A JP 16367286 A JP16367286 A JP 16367286A JP 16367286 A JP16367286 A JP 16367286A JP S6320466 A JPS6320466 A JP S6320466A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、圧延された鋼帯の表面に、金属皮膜を連続
的に真空蒸着するための装置に関するものである。
的に真空蒸着するための装置に関するものである。
鋼帯の表面に亜鉛やアルミニウムのような金属皮膜を連
続的に真空蒸着するための装置として、鋼帯が連続的に
通過する真空槽と、真空槽内に配置された蒸着用金属を
収容するためのるつぼと、るつは内の蒸着用金属を加熱
蒸発させるだめの加熱ヒータとからなる真空蒸着装置が
知られている。
続的に真空蒸着するための装置として、鋼帯が連続的に
通過する真空槽と、真空槽内に配置された蒸着用金属を
収容するためのるつぼと、るつは内の蒸着用金属を加熱
蒸発させるだめの加熱ヒータとからなる真空蒸着装置が
知られている。
るつぼ内の蒸着用金属は、加熱ヒータによって加熱され
て蒸発し、蒸着用金属から蒸発した金属分子が真空槽内
を連続的に通過する鋼帯の表面に付着して、鋼帯の表面
に蒸着用金属の薄い皮膜が形成される。
て蒸発し、蒸着用金属から蒸発した金属分子が真空槽内
を連続的に通過する鋼帯の表面に付着して、鋼帯の表面
に蒸着用金属の薄い皮膜が形成される。
しかしながら、蒸着用金属が例えばチタンやシリコンの
ような高融点の金属の場合には、上述した従来の装置で
は、るつぼ内の蒸着用金属を十分に加熱蒸発させること
ができず、且つ、蒸着用金属から蒸発した金属分子を鋼
帯の表面に強固に密着させることができない。
ような高融点の金属の場合には、上述した従来の装置で
は、るつぼ内の蒸着用金属を十分に加熱蒸発させること
ができず、且つ、蒸着用金属から蒸発した金属分子を鋼
帯の表面に強固に密着させることができない。
このようなことから、アルミニウムや亜鉛のような低融
点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金
属をも、鋼帯の表面に連続的に且つ高い密着力で真空蒸
着することができ、しかも、圧延された鋼帯をコイルに
巻き取・ることなく、直接その表面に蒸着により金属皮
膜を形成させることができる真空蒸着装置の開発が強く
望まれているが、かかる装置は、まだ提案されていない
。
点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金
属をも、鋼帯の表面に連続的に且つ高い密着力で真空蒸
着することができ、しかも、圧延された鋼帯をコイルに
巻き取・ることなく、直接その表面に蒸着により金属皮
膜を形成させることができる真空蒸着装置の開発が強く
望まれているが、かかる装置は、まだ提案されていない
。
従って、この発明の目的は、鋼帯の表面に、アルミニウ
ムや亜鉛のような低融点の金属は勿論、チタンやシリコ
ンのような高融点の金属をも、連続的に且つ高い密着力
で真空蒸着することができ、しかも、圧延された鋼帯を
コイルに巻き取ることなく、直接その表面に蒸着により
金属皮膜を形成することができる真空蒸着装置を提供す
ることにある。
ムや亜鉛のような低融点の金属は勿論、チタンやシリコ
ンのような高融点の金属をも、連続的に且つ高い密着力
で真空蒸着することができ、しかも、圧延された鋼帯を
コイルに巻き取ることなく、直接その表面に蒸着により
金属皮膜を形成することができる真空蒸着装置を提供す
ることにある。
この発明は、圧延機によって圧延された鋼帯が直接且つ
連続的に通過する真空槽と、前記圧延機と前記真空槽と
の間に設けられた、前記鋼帯を前記真空槽内に気密状態
で搬入させるための真空シール槽と、前記真空槽内を通
過する前記鋼帯の下方に設けられた、蒸着用金属を収容
するためのるつぼと、前記真空槽に取り付けられた、前
記蒸着用金属に電子ビームを当てて前記蒸着用金属を加
熱蒸発させるための電子ビーム銃と、前記るつぼと前記
鋼帯との間に設けられた、前記蒸着用金属との間に発生
させたアークによって前記蒸着用金属から蒸発した金属
分子を金属原子と電子とに電離させる
、ための電極と、前記電極と前記蒸着用金属との間に
電圧を印加するための第１電源と、前記鋼板に負の極性
を与えるための第２電源とからなり、前記真空シール槽
は、Ｕ字形に形成された鋼板通路内に脱脂液を注入し
・たものからなることに特徴を有するものである。
連続的に通過する真空槽と、前記圧延機と前記真空槽と
の間に設けられた、前記鋼帯を前記真空槽内に気密状態
で搬入させるための真空シール槽と、前記真空槽内を通
過する前記鋼帯の下方に設けられた、蒸着用金属を収容
するためのるつぼと、前記真空槽に取り付けられた、前
記蒸着用金属に電子ビームを当てて前記蒸着用金属を加
熱蒸発させるための電子ビーム銃と、前記るつぼと前記
鋼帯との間に設けられた、前記蒸着用金属との間に発生
させたアークによって前記蒸着用金属から蒸発した金属
分子を金属原子と電子とに電離させる
、ための電極と、前記電極と前記蒸着用金属との間に
電圧を印加するための第１電源と、前記鋼板に負の極性
を与えるための第２電源とからなり、前記真空シール槽
は、Ｕ字形に形成された鋼板通路内に脱脂液を注入し
・たものからなることに特徴を有するものである。
次に、この発明の真空蒸着装置の一実施態様を図面を参
照しながら説明する。第１図は、この発明の真空蒸着装
置の一実施態様を示す断面図、第２図は、第１図のＡ−
Ａ線断面図である。
照しながら説明する。第１図は、この発明の真空蒸着装
置の一実施態様を示す断面図、第２図は、第１図のＡ−
Ａ線断面図である。
第１図および第２図に示すように、真空槽１は水平な短
円筒状に形成されており、その側部には鋼帯入口３が、
そして、その上部には鋼帯出口４が設けられている。鋼
帯入口３および鋼帯出口４の各々には、ゲート５が取り
付けられている。真空槽ｌ内は、真空ポンプ（図示せず
）によって、約１０−’ Ｔｏｒｒの真空度に保たれて
いる。６は真空槽１の一方の側面に設けられた開閉扉で
ある。
円筒状に形成されており、その側部には鋼帯入口３が、
そして、その上部には鋼帯出口４が設けられている。鋼
帯入口３および鋼帯出口４の各々には、ゲート５が取り
付けられている。真空槽ｌ内は、真空ポンプ（図示せず
）によって、約１０−’ Ｔｏｒｒの真空度に保たれて
いる。６は真空槽１の一方の側面に設けられた開閉扉で
ある。
真空槽１内の上部には、鋼帯入口３を通って真空槽１内
に水平に導かれた鋼帯２の移動方向を、鋼帯出口４に向
けて上方に変更させるためのガイドローラフが設けられ
ている。ガイドローラ７は、その内部を循環する水によ
って常時冷却されている。
に水平に導かれた鋼帯２の移動方向を、鋼帯出口４に向
けて上方に変更させるためのガイドローラフが設けられ
ている。ガイドローラ７は、その内部を循環する水によ
って常時冷却されている。
真空槽１内の下部には、蒸着用金属８を収容するための
、水冷構造の鋼製るつぼ９が、絶縁碍子１０を介して取
シ付けられている。
、水冷構造の鋼製るつぼ９が、絶縁碍子１０を介して取
シ付けられている。
真空槽１の上部には、るつぼ９内の蒸着用金属８に向け
て電子ビームを当てて蒸着用金属８を加熱蒸発させるた
めの電子ビーム銃１１が取り付けられている。電子ビー
ム銃１１からの電子ビームが、るつぼ９内の蒸着用金属
８の表面を走査して、蒸着用金属８を均一に加熱するた
めに、電子ビーム銃１１の先端には、偏向コイル（図示
せず）が取り付けられている。
て電子ビームを当てて蒸着用金属８を加熱蒸発させるた
めの電子ビーム銃１１が取り付けられている。電子ビー
ム銃１１からの電子ビームが、るつぼ９内の蒸着用金属
８の表面を走査して、蒸着用金属８を均一に加熱するた
めに、電子ビーム銃１１の先端には、偏向コイル（図示
せず）が取り付けられている。
真空槽１内のるつぼ９と鋼帯２との間には、例えばモリ
ブデン製の電極１２が設けられている。電極１２とるつ
ぼ９との間には、第１電源１３が設けられている。蒸着
用金属８から蒸発した金属分子は、電極１２と蒸着用金
属８との間に発生したアークによって、金属原子と電子
とに電離する。
ブデン製の電極１２が設けられている。電極１２とるつ
ぼ９との間には、第１電源１３が設けられている。蒸着
用金属８から蒸発した金属分子は、電極１２と蒸着用金
属８との間に発生したアークによって、金属原子と電子
とに電離する。
真空槽１内を通過する鋼帯２は、第２電源１４の負極側
に真空槽１を介して電気的に接続されているガイドロー
ラフと電気的に接触している。従って、鋼帯２は、第２
電源１４の負極側に接続されることになる。これによっ
て、アーク放電によシミ離した正の電荷をもつ金属原子
は、鋼帯２の下面に電気的に吸引され付着する。るつぼ
９の上方には、蒸発した金属分子が鋼帯２以外の部分に
付着することを防止するために、遮蔽板１５が設けられ
ている。遮蔽板１５の上端には、鋼帯２の下面への金属
原子の付着量を調整するためのシャッター１６が設けら
れている。
に真空槽１を介して電気的に接続されているガイドロー
ラフと電気的に接触している。従って、鋼帯２は、第２
電源１４の負極側に接続されることになる。これによっ
て、アーク放電によシミ離した正の電荷をもつ金属原子
は、鋼帯２の下面に電気的に吸引され付着する。るつぼ
９の上方には、蒸発した金属分子が鋼帯２以外の部分に
付着することを防止するために、遮蔽板１５が設けられ
ている。遮蔽板１５の上端には、鋼帯２の下面への金属
原子の付着量を調整するためのシャッター１６が設けら
れている。
１７は真空シール槽であり、圧延機１８によって圧延さ
れた鋼帯２を真空槽１内に気密状態で搬入させる。真空
シール槽１７は、Ｕ字形に形成された鋼板通路内に脱脂
液１９を注入したものからなっている。真空シール槽１
フと真空槽１の鋼帯入口３とは、入側導管２０によって
気密に接続されている。入側導管２０内の途中には、鋼
帯２を予め加熱するための加熱用コイル２１が設けられ
ている。２２は真空蒸着処理された鋼帯２を巻き取るた
めのコイラーである。真空槽１の鋼帯出口４とコイラー
２２との間は、出側導管２３によって気密に接続され七
いる。
れた鋼帯２を真空槽１内に気密状態で搬入させる。真空
シール槽１７は、Ｕ字形に形成された鋼板通路内に脱脂
液１９を注入したものからなっている。真空シール槽１
フと真空槽１の鋼帯入口３とは、入側導管２０によって
気密に接続されている。入側導管２０内の途中には、鋼
帯２を予め加熱するための加熱用コイル２１が設けられ
ている。２２は真空蒸着処理された鋼帯２を巻き取るた
めのコイラーである。真空槽１の鋼帯出口４とコイラー
２２との間は、出側導管２３によって気密に接続され七
いる。
圧延機１８によって圧延された鋼帯２は、真空シール槽
１７を通過する過程で、表面に付着した油分等が脱脂液
によって除去され、この後、入側導管２０、真空槽１お
よび出側導管２３内をガイドローラフを経て連続的に移
動し、コイラー２２によって巻き取られる。このように
移動する鋼帯２は、入側導管２ｏ内に設けられた加熱用
コイル２１によって、３ｏｏ〜５００℃の温度に加熱さ
れる。一方、るつは９内の蒸着用金属８は、電子ビーム
銃１１からの電子ビームによって加熱蒸発する。これに
よって生じた蒸着用金属８の金属分子は、電極１２と蒸
着用金属８との間に発生したアークによって金属原子と
電子とに電離する。そして、前記金属原子は、第２電源
１４の負極側にガイドローラー７を介して電気的に接続
されている鋼帯２０下面に電気的に吸引されて付着する
。
１７を通過する過程で、表面に付着した油分等が脱脂液
によって除去され、この後、入側導管２０、真空槽１お
よび出側導管２３内をガイドローラフを経て連続的に移
動し、コイラー２２によって巻き取られる。このように
移動する鋼帯２は、入側導管２ｏ内に設けられた加熱用
コイル２１によって、３ｏｏ〜５００℃の温度に加熱さ
れる。一方、るつは９内の蒸着用金属８は、電子ビーム
銃１１からの電子ビームによって加熱蒸発する。これに
よって生じた蒸着用金属８の金属分子は、電極１２と蒸
着用金属８との間に発生したアークによって金属原子と
電子とに電離する。そして、前記金属原子は、第２電源
１４の負極側にガイドローラー７を介して電気的に接続
されている鋼帯２０下面に電気的に吸引されて付着する
。
このようにして、鋼帯２の下面Ｋ、２〜５ミクロンの厚
さの蒸着用金属の皮膜が形成される。この後、鋼帯２は
出側導管２３を通シ、コイラー２２に巻き取られる。
さの蒸着用金属の皮膜が形成される。この後、鋼帯２は
出側導管２３を通シ、コイラー２２に巻き取られる。
この発明の装置において、るつぼ９内の蒸着用金属８の
加熱は、上述したように、電子ビーム銃１１からの高い
エネルギーを有する電子ビームによって行なわれるので
、チタンやシリコンのような高融点の金属であっても、
容易に加熱蒸発させることができる。そして、蒸発した
金属分子を、電極１２とるつぼ９内の蒸着用金属８との
間に発生させたアークによって電離させ、その金属原子
を鋼帯２の下面に電気的に吸着させるので、鋼帯２の表
面に高い密着力で金属皮膜を形成させることができると
共に真空槽ｌの真空度をそれほど高めなくても済む。
加熱は、上述したように、電子ビーム銃１１からの高い
エネルギーを有する電子ビームによって行なわれるので
、チタンやシリコンのような高融点の金属であっても、
容易に加熱蒸発させることができる。そして、蒸発した
金属分子を、電極１２とるつぼ９内の蒸着用金属８との
間に発生させたアークによって電離させ、その金属原子
を鋼帯２の下面に電気的に吸着させるので、鋼帯２の表
面に高い密着力で金属皮膜を形成させることができると
共に真空槽ｌの真空度をそれほど高めなくても済む。
なお、遮蔽板１５の上端には、シャッター１６が設けら
れているので、その開度を調節することにより、鋼帯２
に蒸着される金属皮膜の膜厚を調整することができる。
れているので、その開度を調節することにより、鋼帯２
に蒸着される金属皮膜の膜厚を調整することができる。
しかも、圧延された鋼帯２をコイルに巻き取ることなく
そのまま真空槽１内に気密状態で搬入できるので、鋼帯
表面への蒸着処理能重鎖しく高めることができる。
そのまま真空槽１内に気密状態で搬入できるので、鋼帯
表面への蒸着処理能重鎖しく高めることができる。
以上述べたように、この発明の真空蒸着装置によれば、
圧延された鋼板をコイルに巻き取ることなく、直接その
下面に、アルミニウムや亜鉛のような低融点の金属は勿
論、チタンやシリコンのような高融点の金属をも、連続
的に且つ高い密着力で蒸着することができる工業１優れ
た効果がもたらされる。
圧延された鋼板をコイルに巻き取ることなく、直接その
下面に、アルミニウムや亜鉛のような低融点の金属は勿
論、チタンやシリコンのような高融点の金属をも、連続
的に且つ高い密着力で蒸着することができる工業１優れ
た効果がもたらされる。
第１図は、この発明の真空蒸着装置の一実施態様を示す
断面図、第２図は、第１図のＡ−Ａ線断面図である。図
面において、 １・・・真空槽、 ２・・・鋼帯３・・・帯
板入口、 ４・・・帯板出口、５・・・ゲート、
６・・・開閉扉、７・・・ガイドローラ、
８・・・蒸着用金属、９・・・るつぼ、
１０・・・絶縁碍子、１１・・・電子ビーム銃、
１２・・・電極、１３・・・第１電源、 １４・
・・第２屯源、１５・・・ｌａ蔽板、 １６・
・・シャッター、１７・・・アンコイラ−１１Ｂ・・・
圧延機、１９・・・脱脂槽、 ２０・・・入側
導管、２１・・・加熱用コイル、 ２２・・・コイラ
ー、２３・・・出側導管。
断面図、第２図は、第１図のＡ−Ａ線断面図である。図
面において、 １・・・真空槽、 ２・・・鋼帯３・・・帯
板入口、 ４・・・帯板出口、５・・・ゲート、
６・・・開閉扉、７・・・ガイドローラ、
８・・・蒸着用金属、９・・・るつぼ、
１０・・・絶縁碍子、１１・・・電子ビーム銃、
１２・・・電極、１３・・・第１電源、 １４・
・・第２屯源、１５・・・ｌａ蔽板、 １６・
・・シャッター、１７・・・アンコイラ−１１Ｂ・・・
圧延機、１９・・・脱脂槽、 ２０・・・入側
導管、２１・・・加熱用コイル、 ２２・・・コイラ
ー、２３・・・出側導管。
Claims (1)
- 圧延機によつて圧延された鋼帯が直接且つ連続的に通過
する真空槽と、前記圧延機と前記真空槽との間に設けら
れた、前記鋼帯を前記真空槽内に気密状態で搬入させる
ための真空シール槽と、前記真空槽内を通過する前記鋼
帯の下方に設けられた、蒸着用金属を収容するためのる
つぼと、前記真空槽に取り付けられた、前記蒸着用金属
に電子ビームを当てて前記蒸着用金属を加熱蒸発させる
ための電子ビーム銃と、前記るつぼと前記鋼帯との間に
設けられた、前記蒸着用金属との間に発生させたアーク
によつて前記蒸着用金属から蒸発した金属分子を金属原
子と電子とに電離させるための電極と、前記電極と前記
蒸着用金属との間に電圧を印加するための第１電源と、
前記鋼板に負の極性を与えるための第２電源とからなり
、前記真空シール槽は、Ｕ字形に形成された鋼板通路内
に脱脂液を注入したものからなることを特徴とする真空
蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16367286A JPS6320466A (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16367286A JPS6320466A (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6320466A true JPS6320466A (ja) | 1988-01-28 |
Family
ID=15778398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16367286A Pending JPS6320466A (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6320466A (ja) |
-
1986
- 1986-07-14 JP JP16367286A patent/JPS6320466A/ja active Pending
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