JPS6318066A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS6318066A JPS6318066A JP16205086A JP16205086A JPS6318066A JP S6318066 A JPS6318066 A JP S6318066A JP 16205086 A JP16205086 A JP 16205086A JP 16205086 A JP16205086 A JP 16205086A JP S6318066 A JPS6318066 A JP S6318066A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- crucible
- vacuum
- granular
- strip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title abstract 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 85
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 85
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 20
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 16
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 16
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 14
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000287530 Psittaciformes Species 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 aluminum and zinc Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、銅帯のような帯板の表面に、金属皮膜を連
続的に真空蒸着するための装置に関するものである。
続的に真空蒸着するための装置に関するものである。
例えば、銅帯の表面に亜鉛やアルミニウムのような金属
皮膜を連続的に真空蒸着するための装置として、銅帯が
連続的に通過する真空槽と、真空槽内に配置された蒸着
用金属を収容するためのるつぼと、るつは内の蒸着用金
属を加熱して蒸発させるための、るつぼに設けられた加
熱ヒータとからなる真空蒸着装置が知られている。
皮膜を連続的に真空蒸着するための装置として、銅帯が
連続的に通過する真空槽と、真空槽内に配置された蒸着
用金属を収容するためのるつぼと、るつは内の蒸着用金
属を加熱して蒸発させるための、るつぼに設けられた加
熱ヒータとからなる真空蒸着装置が知られている。
るつぼ内の蒸着用金属は、加熱ヒータによって加熱され
て蒸発し、蒸発した蒸着用金属の金属分子が真空槽内を
連続的に通過する銅帯の表面に付着して、銅帯の表面に
前記蒸着用金属の薄い皮膜が連続的に形成される。
て蒸発し、蒸発した蒸着用金属の金属分子が真空槽内を
連続的に通過する銅帯の表面に付着して、銅帯の表面に
前記蒸着用金属の薄い皮膜が連続的に形成される。
しかしながら、蒸着用金属が例えばチタンやシリコンの
ような高融点の金属の場合には、上述した従来の装置で
は、るつぼ内の蒸着用金属を十分に加熱して蒸発させる
ことができず、且つ、蒸発した金属分子を鋼帯の表面に
強固に密着させることができない。更に、従来の装置は
、真空槽内のるつぼに、真空槽の真空度を低下させるこ
となく、蒸着用金属を連続的に供給することができない
。
ような高融点の金属の場合には、上述した従来の装置で
は、るつぼ内の蒸着用金属を十分に加熱して蒸発させる
ことができず、且つ、蒸発した金属分子を鋼帯の表面に
強固に密着させることができない。更に、従来の装置は
、真空槽内のるつぼに、真空槽の真空度を低下させるこ
となく、蒸着用金属を連続的に供給することができない
。
このようなことから、アルミニウムや亜鉛のような低融
点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金
属でも、銅帯のような帯板の表面に連続的に且つ高い密
着力で真空蒸着することができ、且つ、真空槽内のるつ
ぼに、真空槽の真空度を低下させることなく、蒸着用金
属を連続的に供給することができる装置の開発が強く望
まれているが、かかる装置は、まだ提案されていない。
点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金
属でも、銅帯のような帯板の表面に連続的に且つ高い密
着力で真空蒸着することができ、且つ、真空槽内のるつ
ぼに、真空槽の真空度を低下させることなく、蒸着用金
属を連続的に供給することができる装置の開発が強く望
まれているが、かかる装置は、まだ提案されていない。
従って、この発明の目的は、銅帯のような帯板の表面に
、アルミニウムや亜鉛のような低融点の金属は勿論、チ
タンやシリコンのような高融点の金属でも、連続的に且
つ高い密着力で真空蒸着し。
、アルミニウムや亜鉛のような低融点の金属は勿論、チ
タンやシリコンのような高融点の金属でも、連続的に且
つ高い密着力で真空蒸着し。
且つ、真空槽の真空度を低下させることなく、蒸着用金
属を連続的に真空槽内のるつぼに供給するための装置を
提供することにある。
属を連続的に真空槽内のるつぼに供給するための装置を
提供することにある。
この発明は、帯板が連続的に通過する真空槽と、前記真
空槽内を通過する前記帯板の下方に設けられた、粒状蒸
着用金属を収容するためのるつぼと、前記るつぼ内に前
記粒状蒸着用金属を定量的に供給するための粒状蒸着用
金属供給手段と、前記るつは内に収容された前記粒状蒸
着用金属に電子ビームを当て、前記粒状蒸着用金属を加
熱して蒸発させるための、前記真空槽に取り付けられた
電子ビーム銃と、前記電子ビーム銃からの電子ビームに
より前記粒状蒸着用金属から蒸発した金属分子を原子と
電子とに電離させるための、前記るつぼの上方に設けら
れた電極と、前記電極と前記粒状蒸着用金属との間に電
圧を印加するための第1電源と、前記帯板に負の極性を
付与するための第2電源とからなることに特徴を有する
ものである。
空槽内を通過する前記帯板の下方に設けられた、粒状蒸
着用金属を収容するためのるつぼと、前記るつぼ内に前
記粒状蒸着用金属を定量的に供給するための粒状蒸着用
金属供給手段と、前記るつは内に収容された前記粒状蒸
着用金属に電子ビームを当て、前記粒状蒸着用金属を加
熱して蒸発させるための、前記真空槽に取り付けられた
電子ビーム銃と、前記電子ビーム銃からの電子ビームに
より前記粒状蒸着用金属から蒸発した金属分子を原子と
電子とに電離させるための、前記るつぼの上方に設けら
れた電極と、前記電極と前記粒状蒸着用金属との間に電
圧を印加するための第1電源と、前記帯板に負の極性を
付与するための第2電源とからなることに特徴を有する
ものである。
次に、この発明を図面を参照しながら説明する。
第1図はこの発明の装置の一実施態様を示す概略垂直断
面図、第2図は第1図のA−A線矢視図である。第1図
および第2図に示すように、真空槽2は水平な短円筒状
に形成されており、その側部には帯板人口3が、そして
、その上部には帯板出口4が設けられている。帯板人口
3および帯板出口4の各々にはケ゛−ト5が開閉自在に
取り付けられている。真空槽2内は図示しない真空ポン
プによって、約10−”porrの高真空に保たれてい
る。
面図、第2図は第1図のA−A線矢視図である。第1図
および第2図に示すように、真空槽2は水平な短円筒状
に形成されており、その側部には帯板人口3が、そして
、その上部には帯板出口4が設けられている。帯板人口
3および帯板出口4の各々にはケ゛−ト5が開閉自在に
取り付けられている。真空槽2内は図示しない真空ポン
プによって、約10−”porrの高真空に保たれてい
る。
6は真空槽2の一方の側面に設けられた扉である。
真空槽2内の上部には、帯板人口3を通って真空槽2内
に水平に導かれた例えば銅帯のような帯板1の移動方向
を、帯板出口4に向けて上方に変えるだめのガイドロー
ラ7が設けられている。ガイドローラ7の内周面は、循
環する水によって常時冷却されている。
に水平に導かれた例えば銅帯のような帯板1の移動方向
を、帯板出口4に向けて上方に変えるだめのガイドロー
ラ7が設けられている。ガイドローラ7の内周面は、循
環する水によって常時冷却されている。
真空槽2内の下部には、粒状蒸着用金属21を収容する
ためのるつは8が、絶縁碍子9を介して取り付けられて
いる。
ためのるつは8が、絶縁碍子9を介して取り付けられて
いる。
真空槽2の上部には、るつぼ8内に収容されている粒状
蒸着用金属21に向けて電子ビームを当て、粒状蒸着用
金属21を加熱して蒸発させるための、電子ビーム銃1
0が取り付けられている。
蒸着用金属21に向けて電子ビームを当て、粒状蒸着用
金属21を加熱して蒸発させるための、電子ビーム銃1
0が取り付けられている。
電子ビーム銃10からの電子ビームが、るつぼ8内の粒
状蒸着用金属21の表面を走査して1粒状蒸着用金属2
1を平均に加熱するために、電子ビーム銃10の先端に
は、偏向コイル(図示せず)が取り付けられている。
状蒸着用金属21の表面を走査して1粒状蒸着用金属2
1を平均に加熱するために、電子ビーム銃10の先端に
は、偏向コイル(図示せず)が取り付けられている。
真空槽2内のるつは8の上方には、例えばモリブデン製
の電極11が設けられている。電極11とるつぼ8との
間には、電極11と、るつぼ8内の粒状蒸着用金属21
との間に電圧を印加するための第1電源12が設けられ
ている。蒸発した粒状蒸着用金属21の金属分子は、電
極11とるつぼ8内の粒状蒸着用金属21との間に発生
したアークによって、原子と電子とに電離する。13は
、真空槽2に取り付けられたガイドローラ7を介して、
帯板1に負の極性を付与するための第2電源である。真
空槽2内を通過する帯板1は、ガイドローラ7と接触す
ることによって負の極性が付与され、従って、電離した
正の電荷をもつ金属の原子は、帯板1の表面に電気的に
吸着される。るつは8の上方には、るつぼ8内から蒸発
した金属分子が帯板1以外の部分に付着することを防止
するための遮蔽壁15が設けられている。遮蔽壁15の
上端には、帯板1の下面に対する粒状蒸着用金属の原子
の付着量を調整するためのシャッタ14が設けられてい
る。
の電極11が設けられている。電極11とるつぼ8との
間には、電極11と、るつぼ8内の粒状蒸着用金属21
との間に電圧を印加するための第1電源12が設けられ
ている。蒸発した粒状蒸着用金属21の金属分子は、電
極11とるつぼ8内の粒状蒸着用金属21との間に発生
したアークによって、原子と電子とに電離する。13は
、真空槽2に取り付けられたガイドローラ7を介して、
帯板1に負の極性を付与するための第2電源である。真
空槽2内を通過する帯板1は、ガイドローラ7と接触す
ることによって負の極性が付与され、従って、電離した
正の電荷をもつ金属の原子は、帯板1の表面に電気的に
吸着される。るつは8の上方には、るつぼ8内から蒸発
した金属分子が帯板1以外の部分に付着することを防止
するための遮蔽壁15が設けられている。遮蔽壁15の
上端には、帯板1の下面に対する粒状蒸着用金属の原子
の付着量を調整するためのシャッタ14が設けられてい
る。
16は帯板1を巻戻すだめのアンコイラである。
アンコイラ16と真空槽2の帯板人口3とは、入側ダク
ト17によって接続されている。入側ダクト17内には
、帯板1を予め加熱するための加熱用コイル18が設け
られている。19は真空蒸着・された帯板1を巻取るた
めのコインである。真空槽2の帯板出口4とコイン19
との間は、出側ダクト20によって接続されている。
ト17によって接続されている。入側ダクト17内には
、帯板1を予め加熱するための加熱用コイル18が設け
られている。19は真空蒸着・された帯板1を巻取るた
めのコインである。真空槽2の帯板出口4とコイン19
との間は、出側ダクト20によって接続されている。
次に、粒状蒸着金属供給手段について述べる。
るつぼ8内に粒状蒸着用金属21を供給するための第1
シユート22および第2シユート22′が真空槽2に取
り付けられている。第1シユート22および第2シユー
ト22′は、導管23 、23’を介して、真空槽2の
外に設けられたスパイラル管状の第1ストツカー24お
よび第2ストツカー24′に接続されている。第1スト
ツカー24および第2ストツカー24′には、粒状蒸着
用金属21の予て、ホツノe−25内の粒状蒸着用金属
は、ホラ・ぞ−25の下方に設けられたフィーダー26
およびフィーダー26の側壁下部にほぼ水平に設けられ
た整列フィーダー27を介して定量器28に導かれ、定
量器28により一定量ずつ導管23 、23’を介して
、第1ストツカー24および第2ストツカー24′に供
給される。
シユート22および第2シユート22′が真空槽2に取
り付けられている。第1シユート22および第2シユー
ト22′は、導管23 、23’を介して、真空槽2の
外に設けられたスパイラル管状の第1ストツカー24お
よび第2ストツカー24′に接続されている。第1スト
ツカー24および第2ストツカー24′には、粒状蒸着
用金属21の予て、ホツノe−25内の粒状蒸着用金属
は、ホラ・ぞ−25の下方に設けられたフィーダー26
およびフィーダー26の側壁下部にほぼ水平に設けられ
た整列フィーダー27を介して定量器28に導かれ、定
量器28により一定量ずつ導管23 、23’を介して
、第1ストツカー24および第2ストツカー24′に供
給される。
第1ストツカー24および第2ストツカー24′内は、
真空ボンf29によって真空槽2と同圧かまたは同圧以
下の真空に保たれ、第1導管23および第2導管23′
内も、真空ポンプ30によって同じように真空に保たれ
ている。31は第1シユート22および第2シユート2
2′と、導管23゜23′との間に設けられたダート、
33は導管23゜23′の途中に設けられたパルプであ
る。
真空ボンf29によって真空槽2と同圧かまたは同圧以
下の真空に保たれ、第1導管23および第2導管23′
内も、真空ポンプ30によって同じように真空に保たれ
ている。31は第1シユート22および第2シユート2
2′と、導管23゜23′との間に設けられたダート、
33は導管23゜23′の途中に設けられたパルプであ
る。
粒状蒸着用金属21は、例えば、直径10鵡。
幅5鵡の大きさのペレットからなっており、ホツノ#−
25からフィーダー26を介して、整列フィーダー27
により一列に整列されて定量器28に導かれる。そして
、定量器28により一定数量ずつ第1ストツカー24お
よび第2ストツカー24′に交互に供給され、第1スト
ツカー24または第2ストツカー24′において、予熱
用ヒーター32によって予熱された後、第1シユート2
2または第2シユート22′を経て、るつは8内に真空
槽2の真空度が低下することなく供給される。
25からフィーダー26を介して、整列フィーダー27
により一列に整列されて定量器28に導かれる。そして
、定量器28により一定数量ずつ第1ストツカー24お
よび第2ストツカー24′に交互に供給され、第1スト
ツカー24または第2ストツカー24′において、予熱
用ヒーター32によって予熱された後、第1シユート2
2または第2シユート22′を経て、るつは8内に真空
槽2の真空度が低下することなく供給される。
予め酸洗等によって表面が清浄化された帯板lは、アン
コイラ16によって巻戻され、入側ダクト17.真空槽
2および出側ダクト20を連続的に移動し、コイン19
によって巻取られる。このように移動する帯板1は、入
側ダク)17内に設けられた加熱用コイル18によって
、300乃至500℃の温度に加熱される。一方、るつ
は8内に供給された粒状蒸着用金属21は、電子ビーム
銃10からの電子ビームにより加熱されて蒸発する。蒸
発した粒状蒸着用金属21の金属分子は。
コイラ16によって巻戻され、入側ダクト17.真空槽
2および出側ダクト20を連続的に移動し、コイン19
によって巻取られる。このように移動する帯板1は、入
側ダク)17内に設けられた加熱用コイル18によって
、300乃至500℃の温度に加熱される。一方、るつ
は8内に供給された粒状蒸着用金属21は、電子ビーム
銃10からの電子ビームにより加熱されて蒸発する。蒸
発した粒状蒸着用金属21の金属分子は。
電極11と粒状蒸着用金属21との間に発生したアーク
によって、原子と電子とに電離する。このようにして電
離した原子は、ガイドローラ7を介して第2電源13の
負極側に接続されている帯板1の下面に電気的に吸引さ
れて付着する。かくして、帯板1の下面に2乃至5ミク
ロンの厚さの蒸着用金属の皮膜が形成される。蒸着用金
属の皮膜が形成された帯板1は、出側ダクト20を通り
、コイン19に巻き取られる。
によって、原子と電子とに電離する。このようにして電
離した原子は、ガイドローラ7を介して第2電源13の
負極側に接続されている帯板1の下面に電気的に吸引さ
れて付着する。かくして、帯板1の下面に2乃至5ミク
ロンの厚さの蒸着用金属の皮膜が形成される。蒸着用金
属の皮膜が形成された帯板1は、出側ダクト20を通り
、コイン19に巻き取られる。
この発明の装置において、るつぼ8内の粒状蒸着用金属
21の加熱は、上述したように、電子ビーム銃10から
の高エネルギーを有する電子ビームによって行なわれる
ので、チタンやシリコンのような高融点の金属であって
も、容易に蒸発させることかできる。そして、蒸発した
金属分子を、電極11とるつぼ8内の粒状蒸着用金属2
1との間に発生させたアークによって電離し、電離した
原子を負の極性をもつ帯板1の下面に電気的に吸着させ
ているので、帯板1の下面に効率的に且つ高い密着力で
金属皮膜を形成させることができ、且つ、真空槽2の真
空度をそれほど高めなくても済む。
21の加熱は、上述したように、電子ビーム銃10から
の高エネルギーを有する電子ビームによって行なわれる
ので、チタンやシリコンのような高融点の金属であって
も、容易に蒸発させることかできる。そして、蒸発した
金属分子を、電極11とるつぼ8内の粒状蒸着用金属2
1との間に発生させたアークによって電離し、電離した
原子を負の極性をもつ帯板1の下面に電気的に吸着させ
ているので、帯板1の下面に効率的に且つ高い密着力で
金属皮膜を形成させることができ、且つ、真空槽2の真
空度をそれほど高めなくても済む。
るつぼ8内の粒状蒸着用金属21の減少に見合う量だけ
、一定間隔で第1ストツカー24または第2ストツカー
24′内の粒状蒸着用金属21を。
、一定間隔で第1ストツカー24または第2ストツカー
24′内の粒状蒸着用金属21を。
導管23 、23’および第1シユート22、第2シユ
ート22′を経て、るつぼ8内に供給する。このとき、
第1ストツカー24および第2ストツカー24′内の粒
状蒸着用金属21は、予熱用ヒーター32によって予熱
されているので、るつぼ8内における溶融状態の蒸着用
金属の温度が低下したり、供給時にスジラッシュの発生
することはない。
ート22′を経て、るつぼ8内に供給する。このとき、
第1ストツカー24および第2ストツカー24′内の粒
状蒸着用金属21は、予熱用ヒーター32によって予熱
されているので、るつぼ8内における溶融状態の蒸着用
金属の温度が低下したり、供給時にスジラッシュの発生
することはない。
なお、遮蔽壁15の帯板1に近接する上端には、シャッ
タ14が設けられているので、その開度を調節すること
により、帯板1に蒸着する金属皮膜の膜厚を制御するこ
とができ、また、帯板1が真空槽2内を通らないときに
は、シャッタ14を閉じることによって、ガイドローラ
フに対する蒸発金属の付着を防止することができる。
タ14が設けられているので、その開度を調節すること
により、帯板1に蒸着する金属皮膜の膜厚を制御するこ
とができ、また、帯板1が真空槽2内を通らないときに
は、シャッタ14を閉じることによって、ガイドローラ
フに対する蒸発金属の付着を防止することができる。
以上述べたように、この発明の装置によれば、銅帯のよ
うな帯板の表面に、アルミニウムや亜鉛のような低融点
の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金属
でも、連続的に且つ高い密着力で金属皮膜を蒸着するこ
とができ、且つ、るつぼ内への粒状蒸着用金属の供給を
、定量的に且つ真空槽の真空度が低下することなく行な
うことができる等、工業上多くの優れた効果がもたらさ
れる。
うな帯板の表面に、アルミニウムや亜鉛のような低融点
の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金属
でも、連続的に且つ高い密着力で金属皮膜を蒸着するこ
とができ、且つ、るつぼ内への粒状蒸着用金属の供給を
、定量的に且つ真空槽の真空度が低下することなく行な
うことができる等、工業上多くの優れた効果がもたらさ
れる。
第1図はこの発明の装置の一実施態様を示す概略垂直断
面図、第2図は第1図のA−A線矢視図である。図面に
おいて、 1−・・帯板 2・・・真空槽3・・・帯板
人口 4・・・帯板出口5・・・ゲート
6・・・扉 7・・・ガイVローラ 8・・・るつぼ9・・・碍子
10・・・電子ビーム銃11・・・電極
12・・・第1電源13・・・第2を源
14・・・シャッタ15・・・遮蔽壁 16・・
・アンコイラ17・・・入側ダク) 18・・・加
熱用コイル19・・・コイン 20・・・出側ダ
クト21・・・粒状蒸着用金属22・・・第1シユート
22′・・・第2シユート 23 、23’・・・導管
24・・・第1ストツカー 24′・・・第2ストツカ
ー25・・・ホツノぐ−26・・・フィーダー27・・
・整・列フィーダー 28・・・定量器29.30・・
・真空ポンプ 31・・・ケゞ−ト32・・・予熱用ヒ
ーター 33・・・パルプ。
面図、第2図は第1図のA−A線矢視図である。図面に
おいて、 1−・・帯板 2・・・真空槽3・・・帯板
人口 4・・・帯板出口5・・・ゲート
6・・・扉 7・・・ガイVローラ 8・・・るつぼ9・・・碍子
10・・・電子ビーム銃11・・・電極
12・・・第1電源13・・・第2を源
14・・・シャッタ15・・・遮蔽壁 16・・
・アンコイラ17・・・入側ダク) 18・・・加
熱用コイル19・・・コイン 20・・・出側ダ
クト21・・・粒状蒸着用金属22・・・第1シユート
22′・・・第2シユート 23 、23’・・・導管
24・・・第1ストツカー 24′・・・第2ストツカ
ー25・・・ホツノぐ−26・・・フィーダー27・・
・整・列フィーダー 28・・・定量器29.30・・
・真空ポンプ 31・・・ケゞ−ト32・・・予熱用ヒ
ーター 33・・・パルプ。
Claims (1)
- 帯板が連続的に通過する真空槽と、前記真空槽内を通過
する前記帯板の下方に設けられた、粒状蒸着用金属を収
容するためのるつぼと、前記るつぼ内に前記粒状蒸着用
金属を定量的に供給するための粒状蒸着用金属供給手段
と、前記るつぼ内に収容された前記粒状蒸着用金属に電
子ビームを当て、前記粒状蒸着用金属を加熱して蒸発さ
せるための、前記真空槽に取り付けられた電子ビーム銃
と、前記電子ビーム銃からの電子ビームにより前記粒状
蒸着用金属から蒸発した金属分子を原子と電子とに電離
させるための、前記るつぼの上方に設けられた電極と、
前記電極と前記粒状蒸着用金属との間に電圧を印加する
ための第1電源と、前記帯板に負の極性を付与するため
の第2電源とからなることを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16205086A JPS6318066A (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16205086A JPS6318066A (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6318066A true JPS6318066A (ja) | 1988-01-25 |
Family
ID=15747140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16205086A Pending JPS6318066A (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6318066A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5189241A (en) * | 1989-11-25 | 1993-02-23 | Casio Computer Co., Ltd. | Pickup apparatus for detecting string vibration free from external inductive noise |
-
1986
- 1986-07-11 JP JP16205086A patent/JPS6318066A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5189241A (en) * | 1989-11-25 | 1993-02-23 | Casio Computer Co., Ltd. | Pickup apparatus for detecting string vibration free from external inductive noise |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH08176807A (ja) | 電磁気的に制御された環境中で高度にイオン化された媒体を真空蒸着するための方法および装置 | |
US3616452A (en) | Production of deposits by cathode sputtering | |
US4140546A (en) | Method of producing a monocrystalline layer on a substrate | |
GB1425095A (en) | Process for feeding an evaporation bath | |
GB551220A (en) | Improvements in or relating to the thermal deposition of metals in a vacuum | |
JPS6318066A (ja) | 真空蒸着装置 | |
US2899528A (en) | Method and apparatus for supplying | |
US3777704A (en) | Apparatus for vaporizing metal on a substratum | |
JP3901336B2 (ja) | イオンプレーティング装置の運転方法 | |
JPS6320464A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JPS6318060A (ja) | 真空蒸着方法 | |
JP3399570B2 (ja) | 連続真空蒸着装置 | |
JPS6318065A (ja) | 真空蒸着装置 | |
EP0055328A1 (en) | A beam source for deposition of thin film alloys and method therefor | |
JPS6318062A (ja) | 真空蒸着方法 | |
JPS6318061A (ja) | 真空蒸着方法 | |
JPS6314861A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JPS6314860A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JPS6318059A (ja) | 真空蒸着方法 | |
JPS6318064A (ja) | 真空蒸着方法 | |
JPS6318063A (ja) | 真空蒸着方法 | |
WO2019096391A1 (en) | Method and apparatus for vapor depositing an insulation layer of metal oxide on a substrate | |
JP3409874B2 (ja) | イオンプレーティング装置 | |
GB1355798A (en) | Process for the deposition of metal coatings on to metal elements and on apparatus therefor | |
US4400407A (en) | Method for deposition of thin film alloys utilizing electron beam vaporization |