JPS6318062A - 真空蒸着方法 - Google Patents
真空蒸着方法Info
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- JPS6318062A JPS6318062A JP16088486A JP16088486A JPS6318062A JP S6318062 A JPS6318062 A JP S6318062A JP 16088486 A JP16088486 A JP 16088486A JP 16088486 A JP16088486 A JP 16088486A JP S6318062 A JPS6318062 A JP S6318062A
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- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 75
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 75
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 22
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 20
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 15
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 10
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 aluminum and zinc Chemical class 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、銅帯のような帯板の表面に、金属皮膜を連
続的に真空蒸着するための方法に関するものである。
続的に真空蒸着するための方法に関するものである。
例えば、銅帯の表面に亜鉛やアルミニウムのような金属
皮膜を連続的に真空蒸着するための方法として、銅帯が
連続的に通過する真空槽内に、蒸着用金属を収容するた
めのるつぼを配置し、るっは内の蒸着用金属を、るつぼ
に設けられた加熱用ヒータにより加熱して蒸発させ、蒸
発した蒸着用金属の金属分子を真空槽内を連続的に通過
する銅帯の表面に付着させて、銅帯の表面に前記蒸着用
金属の薄い皮膜を連続的に形成することからなる方法が
知られている。
皮膜を連続的に真空蒸着するための方法として、銅帯が
連続的に通過する真空槽内に、蒸着用金属を収容するた
めのるつぼを配置し、るっは内の蒸着用金属を、るつぼ
に設けられた加熱用ヒータにより加熱して蒸発させ、蒸
発した蒸着用金属の金属分子を真空槽内を連続的に通過
する銅帯の表面に付着させて、銅帯の表面に前記蒸着用
金属の薄い皮膜を連続的に形成することからなる方法が
知られている。
しかしながら、蒸着用金属が例えばチタンやシアノ′リ
コンのような高融点の金属の場合には、上述した従来の
方法では、るつぼ内の蒸着用金属を十分に加熱して蒸発
させることができず、且つ、蒸発した金属分子を銅帯の
表面に強固に密着させることができない。
コンのような高融点の金属の場合には、上述した従来の
方法では、るつぼ内の蒸着用金属を十分に加熱して蒸発
させることができず、且つ、蒸発した金属分子を銅帯の
表面に強固に密着させることができない。
このようなことから、アルミニウムや亜鉛のような低融
点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金
属でも、銅帯のような帯板の表面に連続的に且つ高い密
着力で真空蒸着することができる方法の開発が強く望ま
れているが、かかる方法は、まだ提案されていない。
点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金
属でも、銅帯のような帯板の表面に連続的に且つ高い密
着力で真空蒸着することができる方法の開発が強く望ま
れているが、かかる方法は、まだ提案されていない。
従って、この発明の目的は、銅帯のような帯板の表面に
、アルミニウムや亜鉛のような低融点の金属は勿論、チ
タンやシリコンのような高融点の金属でも、連続的に且
つ高い密着力で真空蒸着するための方法を提供すること
にある。
、アルミニウムや亜鉛のような低融点の金属は勿論、チ
タンやシリコンのような高融点の金属でも、連続的に且
つ高い密着力で真空蒸着するための方法を提供すること
にある。
この発明の方法は、帯板が連続的に通過する真空槽内の
、前記帯板の下方に、蒸着用金属を収容するためのるつ
ぼと、前記るつぼの上方に、前記るつぼ内の前記蒸着用
金属との間にアークを発生させるための電極とを設け、
前記るつぼ内に収容された前記蒸着用金属に電子ビーム
を当てて、前記蒸着用金属に点火するための電子ビーム
銃を前記真空槽に取り付け、前記電子ビーム銃からの電
子ビームにより前記るつぼ内の前記蒸着用金属に点火し
、前記電極と前記蒸着用金属との間に発生させたアーク
によって、前記蒸着用金属を加熱して蒸発させ、一方、
前記真空槽内を連続的に通過する前記帯板に負の極性を
付与し、前記アークによって蒸発し且つ電離した前記蒸
着用金属の原子を前記帯板の下面に電気的に吸着させ、
かくして、前記帯板の下面に前記蒸着用金属の皮膜を形
成することに特徴を有するものである。
、前記帯板の下方に、蒸着用金属を収容するためのるつ
ぼと、前記るつぼの上方に、前記るつぼ内の前記蒸着用
金属との間にアークを発生させるための電極とを設け、
前記るつぼ内に収容された前記蒸着用金属に電子ビーム
を当てて、前記蒸着用金属に点火するための電子ビーム
銃を前記真空槽に取り付け、前記電子ビーム銃からの電
子ビームにより前記るつぼ内の前記蒸着用金属に点火し
、前記電極と前記蒸着用金属との間に発生させたアーク
によって、前記蒸着用金属を加熱して蒸発させ、一方、
前記真空槽内を連続的に通過する前記帯板に負の極性を
付与し、前記アークによって蒸発し且つ電離した前記蒸
着用金属の原子を前記帯板の下面に電気的に吸着させ、
かくして、前記帯板の下面に前記蒸着用金属の皮膜を形
成することに特徴を有するものである。
次に、この発明を図面を参照しながら説明する。
第１図はこの発明の方法を実施するための装置の一実施
態様を示す概略垂直断面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線
矢視図である。第１図および第２図に示すように、真空
槽２は水平な短円筒状に形成されており、その側部には
帯板人口３が、そして、その上部には帯板出口４が設け
られている。帯板人口３および帯板出口４の各々にはゲ
ート５が開閉自在に取り付けられている。真空槽２内は
図示しない真空ポンプによって、約１０”” Ｔｏｒｒ
Ｏ高真空に保たれている。６は真空槽２の一方の側面に
設けられた扉である。
態様を示す概略垂直断面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線
矢視図である。第１図および第２図に示すように、真空
槽２は水平な短円筒状に形成されており、その側部には
帯板人口３が、そして、その上部には帯板出口４が設け
られている。帯板人口３および帯板出口４の各々にはゲ
ート５が開閉自在に取り付けられている。真空槽２内は
図示しない真空ポンプによって、約１０”” Ｔｏｒｒ
Ｏ高真空に保たれている。６は真空槽２の一方の側面に
設けられた扉である。
真空槽２内の上部には、帯板人口３を通って真空槽２内
に水平に導かれた例えば銅帯のような帯板Ｉの移動方向
を、帯板出口４に向けて上方に変えるためのガイドロー
ラ７が設けられている。ガイドローラフの内周面は、循
環する水によって常時冷却されている。
に水平に導かれた例えば銅帯のような帯板Ｉの移動方向
を、帯板出口４に向けて上方に変えるためのガイドロー
ラ７が設けられている。ガイドローラフの内周面は、循
環する水によって常時冷却されている。
真空槽２内の下部には、蒸着用金属２１を収容するため
のるつぼ８が、絶縁碍子９を介して取り付けられている
。
のるつぼ８が、絶縁碍子９を介して取り付けられている
。
真空槽２の上部には−るつぼ８内に収容されている蒸着
用金属２１に向けて電子ビームを当て、蒸着用金属２１
に点火するための、電子ビーム銃ｌＯが取り付けられて
いる。電子ビーム銃１０からの電子ビームが、るつぼ８
内の蒸着用金属２１の表面を走査して、蒸着用金属２１
に平均に点火するために、電子ビーム銃１０の先端には
、偏向コイル（図示せず）が取り付けられている。
用金属２１に向けて電子ビームを当て、蒸着用金属２１
に点火するための、電子ビーム銃ｌＯが取り付けられて
いる。電子ビーム銃１０からの電子ビームが、るつぼ８
内の蒸着用金属２１の表面を走査して、蒸着用金属２１
に平均に点火するために、電子ビーム銃１０の先端には
、偏向コイル（図示せず）が取り付けられている。
真空槽２内のるつぼ８の上方には、例えばモリブデン製
の電極１１が設けられている。電極１１とるつぼ８との
間には、電極１１と、るつぼ８内の蒸着用金属２１と間
に電圧を印加するための第１電源１２が設けられている
。るつぼ８内の蒸着用金属２１は、電極１１とるつぼ８
内の蒸着用金属２１との間に発生したアークにより加熱
されて蒸発し、蒸発した蒸着用金属２１の金属分子は、
原子と電子とに電離する。１３は、真空槽２に取り付け
られたガイドローラ７を介して、帯板１に負の極性を付
与するための第２電源である。真空槽２内を通過する帯
板１は、ガイドローラ７と接触することによって負の極
性が付与され、従って、電離した正の電荷をもつ金属の
原子は、帯板１の表面に電気的に吸着される。るつぼ８
の上方には、るつぼ８円から蒸発した金属分子が帯板１
−以′外の部分に付着することを防止するための遮蔽壁
１５が設けられている。遮蔽壁１５の上端には、帯板１
の下面に対する蒸着用金属の原子の付着量を調整するた
めのシャッタ１４が設けられている。
の電極１１が設けられている。電極１１とるつぼ８との
間には、電極１１と、るつぼ８内の蒸着用金属２１と間
に電圧を印加するための第１電源１２が設けられている
。るつぼ８内の蒸着用金属２１は、電極１１とるつぼ８
内の蒸着用金属２１との間に発生したアークにより加熱
されて蒸発し、蒸発した蒸着用金属２１の金属分子は、
原子と電子とに電離する。１３は、真空槽２に取り付け
られたガイドローラ７を介して、帯板１に負の極性を付
与するための第２電源である。真空槽２内を通過する帯
板１は、ガイドローラ７と接触することによって負の極
性が付与され、従って、電離した正の電荷をもつ金属の
原子は、帯板１の表面に電気的に吸着される。るつぼ８
の上方には、るつぼ８円から蒸発した金属分子が帯板１
−以′外の部分に付着することを防止するための遮蔽壁
１５が設けられている。遮蔽壁１５の上端には、帯板１
の下面に対する蒸着用金属の原子の付着量を調整するた
めのシャッタ１４が設けられている。
１６は帯板ｌを巻戻すためのアンコイラで６る。
アンコイラ１６と真空槽２の帯板人口３とは、入側ダク
）１７によって接続されている。入側ダクト１７内には
、帯板１を予め加熱するための加熱用コイル１８が設け
られている。１９は真空蒸着された帯板１を巻取るため
のコインである。真空槽２の帯板出口４とコイン１９と
の間は、出側ダクト２０によって接続されている。
）１７によって接続されている。入側ダクト１７内には
、帯板１を予め加熱するための加熱用コイル１８が設け
られている。１９は真空蒸着された帯板１を巻取るため
のコインである。真空槽２の帯板出口４とコイン１９と
の間は、出側ダクト２０によって接続されている。
予め酸洗等によって表面が清浄化された帯板１は、アン
コイラ１６によって巻戻され、入側ダク）１７、真空槽
２および出側ダクト２０を連続的に移動し、コイン１９
によって巻取られる。このように移動する帯板１は、入
側ダクト１７内に設けられた加熱用コイル１８によって
、３００ 乃至５００℃の温度に加熱される。一方、
るつぼ８内の蒸着用金属２１は、電子ビーム銃ｌＯから
の電子ビームにより点火され、そして、電極１１と蒸着
用金属２１との間に発生したアークにより加熱されて蒸
発する。蒸発した蒸着用金属２１の金属分子は、アーク
によって、原子と電子とに電離する。このようにして電
離した原子は、ガイドローラ７を介して第２電源１３の
負極側に接続されている帯板ｌの下面に電気的に吸引さ
れて付着する。
コイラ１６によって巻戻され、入側ダク）１７、真空槽
２および出側ダクト２０を連続的に移動し、コイン１９
によって巻取られる。このように移動する帯板１は、入
側ダクト１７内に設けられた加熱用コイル１８によって
、３００ 乃至５００℃の温度に加熱される。一方、
るつぼ８内の蒸着用金属２１は、電子ビーム銃ｌＯから
の電子ビームにより点火され、そして、電極１１と蒸着
用金属２１との間に発生したアークにより加熱されて蒸
発する。蒸発した蒸着用金属２１の金属分子は、アーク
によって、原子と電子とに電離する。このようにして電
離した原子は、ガイドローラ７を介して第２電源１３の
負極側に接続されている帯板ｌの下面に電気的に吸引さ
れて付着する。
かくして、帯板１の下面に２乃至５ミクロンの厚さの蒸
着用金属の皮膜が形成される。蒸着用金属の皮膜が形成
された帯板１は、出側ダクト２０を通り、コイン１９に
巻き取られる。
着用金属の皮膜が形成される。蒸着用金属の皮膜が形成
された帯板１は、出側ダクト２０を通り、コイン１９に
巻き取られる。
この発明の方法において、るつぼ８内の蒸着用金属２１
の加熱は、上述したように、電極１１と蒸着用金属２１
との間に発生させたアークによって行なわれるので、チ
タンやシリコンのような高融点の金属であっても、容易
に蒸発させることができる。そして、蒸発した金属分子
を、電極１１と蒸着用金属２１との間に発生させたアー
クによって電離し、電離した原子を負の極性をもつ帯板
１の下面に電気的に吸着させているので、帯板１の下面
に効率的に且つ高い密着力で金属皮膜を形成させること
ができ、且つ、真空槽２の真空度をそれほど高めなくて
Ｎも済む。
の加熱は、上述したように、電極１１と蒸着用金属２１
との間に発生させたアークによって行なわれるので、チ
タンやシリコンのような高融点の金属であっても、容易
に蒸発させることができる。そして、蒸発した金属分子
を、電極１１と蒸着用金属２１との間に発生させたアー
クによって電離し、電離した原子を負の極性をもつ帯板
１の下面に電気的に吸着させているので、帯板１の下面
に効率的に且つ高い密着力で金属皮膜を形成させること
ができ、且つ、真空槽２の真空度をそれほど高めなくて
Ｎも済む。
るつぼ８内の蒸着用金属２１に対する点火は、電子ビー
ム銃１０からの電子ビームによって、短時間に確実に行
なうことができる。ねお、点火後の蒸着用金属２１の溶
解、蒸発は、電極１１と蒸着用金属２１との間に発生さ
せたアークによって行なわれるので、電子ビーム銃１ｏ
は小能力のもので済み経済的である。
ム銃１０からの電子ビームによって、短時間に確実に行
なうことができる。ねお、点火後の蒸着用金属２１の溶
解、蒸発は、電極１１と蒸着用金属２１との間に発生さ
せたアークによって行なわれるので、電子ビーム銃１ｏ
は小能力のもので済み経済的である。
なお、遮蔽壁１５の帯板に近接する上端には、シャッタ
１４が設けられているので、その開度を調節することに
より、帯板１に蒸着する金属皮膜の膜厚を制御すること
ができ、また、帯板１が真空槽２内を通らないときには
、シャッタ１４を閉じることによって、ローラフに対す
る蒸発金属の付着を防止することができる。
１４が設けられているので、その開度を調節することに
より、帯板１に蒸着する金属皮膜の膜厚を制御すること
ができ、また、帯板１が真空槽２内を通らないときには
、シャッタ１４を閉じることによって、ローラフに対す
る蒸発金属の付着を防止することができる。
以上述べたように、この発明の方法によれば、銅帯のよ
うな帯板の表面に、アルミニウムや亜鉛のような低融点
の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金属
でも、連続的に且つ高い密着力で金属皮膜を蒸着するこ
とができる工業上優れた効果がもたらされる。
うな帯板の表面に、アルミニウムや亜鉛のような低融点
の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金属
でも、連続的に且つ高い密着力で金属皮膜を蒸着するこ
とができる工業上優れた効果がもたらされる。
第１図はこの発明の方法を実施するための装置の一実施
態様を示す概略垂直断面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線
矢視図である。 図面において、 ｌ・・・帯板 ２・・・真空槽３・・・帯板
人口 ４・・・帯板出口５・・・ゲート６・・・
扉 ７・・・ガイドローラ ８・・・るつｔ丁９・・・碍
子 １０・・・電子ビーム銃１１・・・電極
１２・・・第１電源１３・・・第２電源
１４・・・シャッタ１５・・・遮蔽壁 １６・
・・アンコイラ１７・・・入側ダクト １８・・・加
熱用コイル１９・・・コイン ２０・・・出側ダ
クト２１・・・蒸着用金属。
態様を示す概略垂直断面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線
矢視図である。 図面において、 ｌ・・・帯板 ２・・・真空槽３・・・帯板
人口 ４・・・帯板出口５・・・ゲート６・・・
扉 ７・・・ガイドローラ ８・・・るつｔ丁９・・・碍
子 １０・・・電子ビーム銃１１・・・電極
１２・・・第１電源１３・・・第２電源
１４・・・シャッタ１５・・・遮蔽壁 １６・
・・アンコイラ１７・・・入側ダクト １８・・・加
熱用コイル１９・・・コイン ２０・・・出側ダ
クト２１・・・蒸着用金属。
Claims (1)
- 帯板が連続的に通過する真空槽内の、前記帯板の下方に
、蒸着用金属を収容するためのるつぼと、前記るつぼの
上方に、前記るつぼ内の前記蒸着用金属との間にアーク
を発生させるための電極とを設け、前記るつぼ内に収容
された前記蒸着用金属に電子ビームを当てて、前記蒸着
用金属に点火するための電子ビーム銃を前記真空槽に取
り付け、前記電子ビーム銃からの電子ビームにより前記
るつぼ内の前記蒸着用金属に点火し、前記電極と前記蒸
着用金属との間に発生させたアークによつて、前記蒸着
用金属を加熱して蒸発させ、一方、前記真空槽内を連続
的に通過する前記帯板に負の極性を付与し、前記アーク
によつて蒸発し且つ電離した前記蒸着用金属の原子を前
記帯板の下面に電気的に吸着させ、かくして、前記帯板
の下面に前記蒸着用金属の皮膜を形成することを特徴と
する真空蒸着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16088486A JPS6318062A (ja) | 1986-07-10 | 1986-07-10 | 真空蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16088486A JPS6318062A (ja) | 1986-07-10 | 1986-07-10 | 真空蒸着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6318062A true JPS6318062A (ja) | 1988-01-25 |
Family
ID=15724451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16088486A Pending JPS6318062A (ja) | 1986-07-10 | 1986-07-10 | 真空蒸着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6318062A (ja) |
-
1986
- 1986-07-10 JP JP16088486A patent/JPS6318062A/ja active Pending
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