JPS6314860A - 真空蒸着装置 - Google Patents

真空蒸着装置

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Publication number
JPS6314860A
JPS6314860A JP15865686A JP15865686A JPS6314860A JP S6314860 A JPS6314860 A JP S6314860A JP 15865686 A JP15865686 A JP 15865686A JP 15865686 A JP15865686 A JP 15865686A JP S6314860 A JPS6314860 A JP S6314860A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
crucible
strip
vapor deposition
electron beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15865686A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadashi Fujioka
藤岡 忠志
Fumitaka Kaneko
金子 文孝
Tsutomu Sakurai
桜井 勉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、鋼帯  ’ −−−、“−〕ような帯板の
表面に、金属皮膜を連続的に真空蒸着するだめの装置に
関するものである。
〔従来技術とその問題点〕
例えば、銅帯の表面に亜鉛やアルミニウムのような金属
皮膜を連続的に真空蒸着するための装置として、銅帯が
連続的に通過する真空槽と、真空槽内に配置された蒸着
用金属を収容するためのるつぼと、るつぼ内の蒸着用金
属を加熱蒸発させるだめの、るつぼに設けられた加熱ヒ
ータとからなる真空蒸着装置が知られている。
るつぼ内の蒸着用金属は、加熱ヒータによって加熱され
て蒸発し、蒸着用金属から蒸発した金属分子が真空槽内
を連続的に通過する銅帯の表面に付着して、銅帯の表面
に蒸着用金属の薄い皮膜が形成される。
しかしながら、蒸着用金属が例えばチタンやシリコンの
ような高融点の金属の場合には、上述した従来の装置で
は、るつぼ内の蒸着用金属を十分に加熱蒸発させること
ができず、且つ、蒸着用金属から蒸発した金属分子を銅
帯の表面に強固に密着させることができない。
このようなことから、アルミニウムや亜鉛のような低融
点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金
属をも、鋼帯 °−の ような帯板の表面に連続的に且つ高い密着力で真空蒸着
することができる真空蒸着装置の開発が強く望まれてい
るが、かかる装置は、まだ提案されていない。
〔発明の目的〕
従って、この発明の目的は、鋼帯 °−゛′す士のよう
な帯板の表面に、アルミニウムや亜鉛のような低融点の
金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金属を
も、連続的に且つ高い密着力で真空蒸着することができ
る真空蒸着装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
この発明は、帯板が連続的に通過する真空槽と、前記真
空槽内を通過する前記帯板の下方に設けられた、蒸着用
金属を収容するためのるつぼと、前記真空槽に取り付け
られた、前記蒸着用金属に電子ビームを当てて前記蒸着
用金属を加熱蒸発させるための電子ビーム銃と、前記る
つぼの上方に設けられた、前記蒸着用金属との間に発生
させたア前記電極と前記蒸着用金属との間に電圧を印加
するだめの第1電源と、前記帯板に負の極性を与えるだ
めの第2電源とからなり、前記るつぼは、銅製外槽と前
記外槽内に断熱材を介して設けられた耐火物製内槽とか
らなり、前記外槽と前記内槽とば゛通電プラグによって
′電気的に接続されていることに特徴を有するものであ
る。
〔発明の構成〕
次に、この発明の真空蒸着装置を図面を参照しながら説
明する。第1図は、この発明の真空蒸着装置の一実施態
様を示す断面図、第2図は、第1図のA−A線断面図で
ある。
第1図および第2図に示すように、真空槽1は水平な短
円筒状に形成されており、その側部には帯板入口3が、
そして、その上部には帯板出口4が設けられている。帯
板人口3および帯板出口4の各々には、ゲート5が取り
付けられている。真空槽1内は、真空ポンプ(図示せず
)によって、約10’−’ Torrの高真空に医たれ
ている。6は真空槽1の一方の側面に設けられた開閉扉
である。
真空槽1内の上部には、帯板入口3紫通って真空槽1内
に水平に導かれた例えば銅帯のような帯板2の移動方向
を、帯板出口4に向けて上方に変更させるだめのガイド
ローラ7が設けられている。
ガイドローラ7は、その内部を循環する水によって常時
冷却されている。
真空槽1内の下部には、蒸着用金属8を収容するための
るつぼ9が、絶縁碍子10を介して取り付けられている
。るつぼ9は、第3図に示すように、冷却通路(図示せ
ず)が壁内に形成された銅製外槽9Aと外槽9A内にセ
ラミック粉等の断熱材11を介して設けられたセラミッ
ク等でできた内槽9Bとからなっている。外槽9Aと内
槽9Bとは、複数個の通電プラグ12によって電気的に
接続されている。通電プラグ12の内部には、通電プラ
グ12を冷却するだめの冷却水が通る冷却水通路12A
が形成されている。
真空槽lの上部には、るつぼ9内の蒸着用金属8に向け
て電子ビームを当てて蒸着用金属8を加熱蒸発させるだ
めの電子ビーム銃13が取り付けられている。電子ビー
ム銃13からの電子ビームが、るつぼ9内の蒸着用金属
80表面を走査して、蒸着用金属8を平均に加熱するた
めに、電子ビーム銃13の先端には、偏向コイル(図示
せず)が取り付けられている。
真空槽1内のるつぼ9の上方には、例えばモリブデン製
の電極14が設けられている。電極14と通電プラグ1
2との間には、第1電源15が設けられている。蒸着用
金属8がら蒸発した金属分子は、電極14と蒸着用金属
8との間に発生したアークによって、金属原子と電子と
に電離する。
真空槽l内を通過する帯板2は、第2電源16の負極側
に真空槽1を介して電気的に接続されているガイドロー
ラ7と電気的に接触している。従って、帯板2は、第2
電極16の負極側に接続されることになる。これによっ
て、アーク放電により電離した正の電荷をもつ金属原子
は、帯板2の下面に電気的に吸着される。るっぽ9の上
方には、蒸発した金属分子が帯板2以外の部分に付着す
ることを防止するために、遮蔽壁17が設けられている
。遮蔽壁17の上端には、帯板2の下面への金属原子の
付着量を調整するための7ヤツター18が設けられてい
る。
19は帯板2を巻き戻すためのアンコイラーテある。ア
ンコイラ−19と真空槽1の帯板人口3とは、入側導管
2oによって気密に接続されている。入側導管20内の
途中には、帯板2を予め加熱するための加熱用コイル2
1が設けられている。
22は真空蒸着処理された帯板2を巻き取るためのコイ
ラーである。真空槽lの帯板出口4とコイラー22との
間は、出f、H1t 4管23によって気密に接続され
ている。
予め酸洗等によって表面が清浄化された帯板2は、アン
コイラ−19によって巻戻され、入側導管20、真空槽
1および出側導管23内tガイドローラ7を経て連続的
に移動し、コイラー22によって巻き取られる。このよ
うに移動する帯板2は、入側導管20内に設けられた加
熱用コイル21によって、300〜500°Cの温度に
加熱される。
一方、るつぼ9内の蒸着用金属8は、電子ビーム銃13
からの電子ビームによって加熱蒸発する。
これによって生じた蒸着用金属8の金は4分子は、電極
14と蒸着用金属8との間に発生したアークによって金
属原子と止子とに電離する。そして、前記金属原子は、
第2電源16の負極<lli+にガイドローラー7を介
して電気的に接続されている帯板1の下面に電気的に吸
引されて付着する。このようにして、帯板2の下面に、
2〜5ミクロンの厚さの蒸着用金属の皮膜が形成される
。この後、帯板2は出側導管23を通り、コイラー22
に巻き取られる。
この発明の装置において、るつぼ9内の蒸着用金属8の
加熱は、上述したように、電子ビーム銃13からの高い
エネルギーを有する電子ビームによって行なわれるので
、チタンやシリコンのような高融点の金属であっても、
容易に加熱蒸発させることができる。そして、蒸発した
金属分子を、電極14とるつぼ9内の蒸着用金属8との
間に発生させたアークによって電離させ、その金属原子
を帯板2の下面に電気的に吸着させるので、帯板2の表
面に高い密着力で金属皮膜を形成させることができ、し
かも、真空槽1の真空度をそれほど高めなくても済む。
なお、遮蔽壁17の上端には、シャッター18が設けら
れているので、その開度を調節することにより、帯板2
に蒸着される金属皮膜の膜厚を調整することができる。
〔発明の効果〕
以上述べたように、この発明の真空蒸着装置によれば、
鋼帯;°−−”=つような帯板の下面に、アルミニウム
や亜鉛のような低融点の金属は勿論、チタンやシリコン
のような高融点の金属をも、連続的に且つ高い密着力で
蒸着することができる工業上優れた効果がもたらされる
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の真空蒸着装置の一実施態様を示す
断面図、第2図は、第1図のA−A線断面図、第3図は
、同実施態様におけるつぼの部分切欠き斜視図である。 図面において、 l・・・真空槽、      2・・・帯板、3・・・
帯板入口、     4・・帯板出口、5・・・ゲート
、      6・・・開閉扉、7・・ガイドローラ、
   8・・・蒸着用金属、9・・・るつぼ、    
 lO・・絶縁碍子、11・・・断熱材、     1
2・・・通電プラグ、13・・・電子ビーム銃、  1
4・・・電極、15・・第1電極、    15・・第
2電極、17・・・遮蔽壁、     18・・シャッ
ター、19・・・アンコイラ−12o・・・入側導管、
21・・・加熱用コイル、  22・・コイラー、23
・・・出側導管。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 帯板が連続的に通過する真空槽と、前記真空槽内を通過
    する前記帯板の下方に設けられた、蒸着用金属を収容す
    るためのるつぼと、前記真空槽に取り付けられた、前記
    蒸着用金属に電子ビームを当てて前記蒸着用金属を加熱
    蒸発させるための電子ビーム銃と、前記るつぼの上方に
    設けられた、前記蒸着用金属との間に発生させたアーク
    によつて前記蒸着用金属から蒸発した金属分子を金属原
    子と電子とに電離させるアークを発生させるための電極
    と、前記電極と前記蒸着用金属との間に電圧を印加する
    ための第1電源と、前記帯板に負の極性を与えるための
    第2電源とからなり、前記るつぼは、銅製外槽と前記外
    槽内に断熱材を介して設けられた耐火物製内槽とからな
    り、前記外槽と前記内槽とは通電プラグによつて電気的
    に接続されていることを特徴とする真空蒸着装置。
JP15865686A 1986-07-08 1986-07-08 真空蒸着装置 Pending JPS6314860A (ja)

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JP15865686A JPS6314860A (ja) 1986-07-08 1986-07-08 真空蒸着装置

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JP15865686A Pending JPS6314860A (ja) 1986-07-08 1986-07-08 真空蒸着装置

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