JPS6318059A - 真空蒸着方法 - Google Patents
真空蒸着方法Info
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- JPS6318059A JPS6318059A JP16088186A JP16088186A JPS6318059A JP S6318059 A JPS6318059 A JP S6318059A JP 16088186 A JP16088186 A JP 16088186A JP 16088186 A JP16088186 A JP 16088186A JP S6318059 A JPS6318059 A JP S6318059A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、銅帯等の帯板の表面に、金属皮膜を連続的
に真空蒸着するだめの方法に関するものである。
に真空蒸着するだめの方法に関するものである。
例えば、−帯の表面に亜鉛やアルミニウムのような金属
皮膜を連続的に真空蒸着するための方法として、真空槽
内を銅帯を連続的に通過させ、真空槽内に配置されたる
つぼ内の蒸着用金属を加熱ヒータによって加熱蒸発させ
ることからなる真空蒸着方法が知られている。
皮膜を連続的に真空蒸着するための方法として、真空槽
内を銅帯を連続的に通過させ、真空槽内に配置されたる
つぼ内の蒸着用金属を加熱ヒータによって加熱蒸発させ
ることからなる真空蒸着方法が知られている。
るつぼ内の蒸着用金属は、加熱ヒータによって加熱され
て蒸発し、蒸着用金属から蒸発した金属分子が真空槽内
を連続的に通過する銅帯の表面に付着して、銅帯の表面
に蒸着用金属の薄い皮膜が形成される。
て蒸発し、蒸着用金属から蒸発した金属分子が真空槽内
を連続的に通過する銅帯の表面に付着して、銅帯の表面
に蒸着用金属の薄い皮膜が形成される。
しかしながら、蒸着用金属が例えはチタンやシリコンの
ような高融点の金属の場合には、上述した従来の装置で
は、るつは内の蒸着用金属を十分に加熱蒸発させること
ができず、且つ、蒸着用金属から蒸発した金属分子を銅
帯の表面に強固に密着させることができない。
ような高融点の金属の場合には、上述した従来の装置で
は、るつは内の蒸着用金属を十分に加熱蒸発させること
ができず、且つ、蒸着用金属から蒸発した金属分子を銅
帯の表面に強固に密着させることができない。
このようなことから、アルミニウムや亜鉛のような低融
点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金
属をも、銅帯等の帯板の表面に連続的に且つ高い密着力
で真空蒸着することができ、且つ、蒸着される金属皮膜
の膜厚を自由に調整することができる真空蒸着方法の開
発が強く望まれているが、かかる方法は、まだ提案され
ていない。
点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金
属をも、銅帯等の帯板の表面に連続的に且つ高い密着力
で真空蒸着することができ、且つ、蒸着される金属皮膜
の膜厚を自由に調整することができる真空蒸着方法の開
発が強く望まれているが、かかる方法は、まだ提案され
ていない。
従って、この発明の目的は、銅帯等の帯板の表面に、ア
ルミニウムや亜鉛のような低融点の金属は勿論、チタン
やシリコンのような高融点の金属をも、連続的に且つ高
い密着力で真空蒸着することができも、且つ、蒸着され
る金属皮膜の膜厚を自由に調督することができる真空蒸
着方法を提供することにある。
ルミニウムや亜鉛のような低融点の金属は勿論、チタン
やシリコンのような高融点の金属をも、連続的に且つ高
い密着力で真空蒸着することができも、且つ、蒸着され
る金属皮膜の膜厚を自由に調督することができる真空蒸
着方法を提供することにある。
この発明は、真空槽内を帯板を連続的に通過させ、前記
真空槽内を通過する前記帯板の下方に蒸着用金属を収容
するためのるつぼを設け、前記真空槽に取り付けた電子
ビーム銃によって前記蒸着用金属に電子ビームを当てて
前記蒸着用金属を加熱蒸発させ、前記るつほと前記帯板
との間に設けた電極と、前記蒸着用金属との間にアーク
を発生させて前記蒸着用金属から蒸発した金属分子を金
属原子と電子とに電離させ、前記帯板に負の極性を与え
て前記帯板下面に前記金属原子を電気的に吸着させ、そ
して、前記電極に供給する電力量を調整して前記帯板の
下面に蒸着される金属皮膜の膜厚全調整することに特徴
を有するものである。
真空槽内を通過する前記帯板の下方に蒸着用金属を収容
するためのるつぼを設け、前記真空槽に取り付けた電子
ビーム銃によって前記蒸着用金属に電子ビームを当てて
前記蒸着用金属を加熱蒸発させ、前記るつほと前記帯板
との間に設けた電極と、前記蒸着用金属との間にアーク
を発生させて前記蒸着用金属から蒸発した金属分子を金
属原子と電子とに電離させ、前記帯板に負の極性を与え
て前記帯板下面に前記金属原子を電気的に吸着させ、そ
して、前記電極に供給する電力量を調整して前記帯板の
下面に蒸着される金属皮膜の膜厚全調整することに特徴
を有するものである。
次に、この発明の真空蒸着方法の一実施態様を図面を参
照しながら説明する。第１図は、この発明の真空蒸着方
法の一実施態様を示す断面図、第２図は、第１図のＡ−
Ａ線断面図である。
照しながら説明する。第１図は、この発明の真空蒸着方
法の一実施態様を示す断面図、第２図は、第１図のＡ−
Ａ線断面図である。
第１図および第２図に示すように、真空槽ｌは水平な短
円筒状に形成されており、その側部には帯板人口３が、
そして、その上部には帯板出口４が設けられている。帯
板入口３および帯板出口４の各々には、ゲート５が取り
付けられている。真空槽ｌ内は、真空ポンプ（図示せず
）によって、約１０−’ Ｔｏｒｒの高真空に保たれて
いる。６は真空槽１の一方の側面に設けられた開閉扉で
ある。
円筒状に形成されており、その側部には帯板人口３が、
そして、その上部には帯板出口４が設けられている。帯
板入口３および帯板出口４の各々には、ゲート５が取り
付けられている。真空槽ｌ内は、真空ポンプ（図示せず
）によって、約１０−’ Ｔｏｒｒの高真空に保たれて
いる。６は真空槽１の一方の側面に設けられた開閉扉で
ある。
真空槽１内の上部には、帯板入口３を通って真空槽ｌ内
に水平に導かれた例えば銅帯のような帯板２の移動方向
を、帯板出口４に向けて上方に変更させるだめのガイド
ローラフが設けられている。
に水平に導かれた例えば銅帯のような帯板２の移動方向
を、帯板出口４に向けて上方に変更させるだめのガイド
ローラフが設けられている。
ガイドローラ７は、その内部を循環する水によって常時
冷却される。
冷却される。
真空槽ｌ内の下部には、蒸着用金属８を収容するだめの
水冷構造のるつぼ９が、絶縁碍子１ｏを介して取り付け
られている。
水冷構造のるつぼ９が、絶縁碍子１ｏを介して取り付け
られている。
真空槽１の上部には、るつぼ９内の蒸着用金属８に向け
て電子ビームを当てて蒸着用金属８を加熱蒸発させるた
めの電子ビーム絖ｌｌが取シ付けられている。電子ビー
ム銃１１からの電子ビームが、るつぼ９内の蒸着用金属
８の表面を走査して、蒸着用金属８を平均に加熱するた
めに、電子ビーム銃１１の先端には、偏向コイル（図示
せず）が取り付けられている。
て電子ビームを当てて蒸着用金属８を加熱蒸発させるた
めの電子ビーム絖ｌｌが取シ付けられている。電子ビー
ム銃１１からの電子ビームが、るつぼ９内の蒸着用金属
８の表面を走査して、蒸着用金属８を平均に加熱するた
めに、電子ビーム銃１１の先端には、偏向コイル（図示
せず）が取り付けられている。
真空槽ｌ内のるつぼ９の上方には、例えばモリブデン製
の電極１２が設けられている。電極１２とるつぼ９との
間には、供給電力を自在に調整できる第１電源１３が設
けられている。蒸着用金属８から蒸発した金属分子は、
電極１２と蒸着用金属８との間に発生したアークによっ
て、金属原子と電子とに電離する。
の電極１２が設けられている。電極１２とるつぼ９との
間には、供給電力を自在に調整できる第１電源１３が設
けられている。蒸着用金属８から蒸発した金属分子は、
電極１２と蒸着用金属８との間に発生したアークによっ
て、金属原子と電子とに電離する。
真空槽ｌ内を通過する帯板２は、第２電源１４の負極側
に真空槽ｌを介して電気的に接続されているガイドロー
ラフと電気的に接触している。従って、帯板２は、第２
電極１４の負極側に電気的に接続されることになる。こ
れによって、アーク放電により電離した正の電荷をもつ
金属原子は、帯＆２の下面に電気的に吸着される。るつ
は９の上方には、蒸発した金属分子が帯板２以外の部分
に付着することを防止するために、遮蔽板１５が設けら
れている。遮蔽板１５の上端には、帯板２の下面への金
属原子の付着量を調整するためのシャツター１６が設け
られている。
に真空槽ｌを介して電気的に接続されているガイドロー
ラフと電気的に接触している。従って、帯板２は、第２
電極１４の負極側に電気的に接続されることになる。こ
れによって、アーク放電により電離した正の電荷をもつ
金属原子は、帯＆２の下面に電気的に吸着される。るつ
は９の上方には、蒸発した金属分子が帯板２以外の部分
に付着することを防止するために、遮蔽板１５が設けら
れている。遮蔽板１５の上端には、帯板２の下面への金
属原子の付着量を調整するためのシャツター１６が設け
られている。
１７は帯板２を巻き戻すためのアンコイラ−である。ア
ンコイラ−１７と真空槽ｌの帯板人口３とは、入側導管
１８によって気密に接続されている。入側導管１８内の
途中には、帯板２を予め加熱するための加熱用コイル１
９が設けられている。
ンコイラ−１７と真空槽ｌの帯板人口３とは、入側導管
１８によって気密に接続されている。入側導管１８内の
途中には、帯板２を予め加熱するための加熱用コイル１
９が設けられている。
２０は真空蒸着処理された帯板２盆巻き取るためのコイ
ラーである。真空槽１の帯板出口４とコイラー２０との
間は、出側導管２１によって気密に接続されている。
ラーである。真空槽１の帯板出口４とコイラー２０との
間は、出側導管２１によって気密に接続されている。
予め酸洗等によって表面が清浄化された帯板２は、アン
コイラ−１７によって巻戻され、入側導管１８、真空槽
ｌおよび出側導管２１内をガイドローラーを経て連続的
に移動し、コイラー２０によって巻き取られる。このよ
うに移動する帯板２は、入側導管１８内に設けられた加
熱用コイル１９によって、３００〜５００℃の温度に加
熱される。
コイラ−１７によって巻戻され、入側導管１８、真空槽
ｌおよび出側導管２１内をガイドローラーを経て連続的
に移動し、コイラー２０によって巻き取られる。このよ
うに移動する帯板２は、入側導管１８内に設けられた加
熱用コイル１９によって、３００〜５００℃の温度に加
熱される。
一方、るつは９内の蒸着用金属８は、電子ビーム銃１１
からの電子ビームによって加熱蒸発する。
からの電子ビームによって加熱蒸発する。
これによって生じた蒸着用金属８の金属分子は、電極１
２と蒸着用金属８との間に発生したアークによって金属
原子と電子とに電離する。そして、前記金属原子は、第
２電源１４の負極側にガイドローラー７を介して電気的
に接続されている帯板１の下面に電気的に吸引されて付
着する。このようにして、帯板２の下面に、２〜５ミク
ロンの厚さの金属皮膜が形成される。この後、帯板２は
出側導管２１を通９、コイラー２０に巻き取られる。
２と蒸着用金属８との間に発生したアークによって金属
原子と電子とに電離する。そして、前記金属原子は、第
２電源１４の負極側にガイドローラー７を介して電気的
に接続されている帯板１の下面に電気的に吸引されて付
着する。このようにして、帯板２の下面に、２〜５ミク
ロンの厚さの金属皮膜が形成される。この後、帯板２は
出側導管２１を通９、コイラー２０に巻き取られる。
帯板２の下面に蒸着される金属皮膜の膜厚を調整するに
は、第１電源１３から電極１２に供給される電力量を調
整すれば良い。即ち、金属被膜の膜厚を厚くするには電
力量を増加して蒸発金属量を増し、一方、金属皮膜の膜
厚を薄くするには電力量を減少させて蒸発金属量を減ら
せば良い。金属皮膜の膜厚を測定し、この測定結果に基
いて第１電源１３の電力量を自動制御することもできる
。
は、第１電源１３から電極１２に供給される電力量を調
整すれば良い。即ち、金属被膜の膜厚を厚くするには電
力量を増加して蒸発金属量を増し、一方、金属皮膜の膜
厚を薄くするには電力量を減少させて蒸発金属量を減ら
せば良い。金属皮膜の膜厚を測定し、この測定結果に基
いて第１電源１３の電力量を自動制御することもできる
。
この発明の装置において、るつは９内の蒸着用金属８の
加熱は、上述したように、電子ビーム銃１１からの高い
エネルギーを有する電子ビームによって行なわれるので
、チタンやシリコンのヨウな高融点の金属であっても、
容易に加熱蒸発させることができる。そして、蒸発した
金属分子を、電極１２とるつぼ９内の蒸着用金属８との
間に発生させたアークによって電離させ、その金属原子
を帯板２の下面に電気的に吸着させるので、帯板２の表
面に高い密着力で金属皮膜を蒸着させることができ、し
かも、真空槽１の真空度をそれほど高めなくても済む。
加熱は、上述したように、電子ビーム銃１１からの高い
エネルギーを有する電子ビームによって行なわれるので
、チタンやシリコンのヨウな高融点の金属であっても、
容易に加熱蒸発させることができる。そして、蒸発した
金属分子を、電極１２とるつぼ９内の蒸着用金属８との
間に発生させたアークによって電離させ、その金属原子
を帯板２の下面に電気的に吸着させるので、帯板２の表
面に高い密着力で金属皮膜を蒸着させることができ、し
かも、真空槽１の真空度をそれほど高めなくても済む。
なお、遮蔽板１５の上端には、シャッター１６が設けら
れているので、その開度を調節することにより、帯板２
に蒸着される金属皮膜の膜厚を調整することができる。
れているので、その開度を調節することにより、帯板２
に蒸着される金属皮膜の膜厚を調整することができる。
以上述べたように、この発明の真空蒸着方法によれば、
銅帯等の帯板の下面に、アルミニウムや亜鉛のような低
融点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の
金属をも、連続的に且つ高い密着力で蒸着することがで
き、しかも、蒸着される金属皮膜の膜厚を自由に調整す
ることができるといった工業上優れた効果がもたらされ
る。
銅帯等の帯板の下面に、アルミニウムや亜鉛のような低
融点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の
金属をも、連続的に且つ高い密着力で蒸着することがで
き、しかも、蒸着される金属皮膜の膜厚を自由に調整す
ることができるといった工業上優れた効果がもたらされ
る。
−９＝
第１図は、この発明の真空蒸着装置の一実施態様を示す
断面図、第２図は、第１図のＡ−Ａ線断面図である。図
面において、 １・・・真空槽、 ２・・・帯板、３・・・帯
板入口、 ４・・・帯板出口、５・・・ゲート
、 ６・・・開閉扉、７・・・ガイドローラ
、 ８・・・蒸着用金属、９・・・るつぼ、
１ｏ・・・絶縁碍子、１１・・・電子ビーム銃、
１２・・・電極、１３・・・第１電源、 １４
・・・第２電源、１５・・・遮蔽板、 １６・
・・シャッター、１７・・・アンコイラ−１１８・・・
入側導管、１９・・・加熱用コイル、 ２０・・・コ
イラー、２１・・・出側導管。
断面図、第２図は、第１図のＡ−Ａ線断面図である。図
面において、 １・・・真空槽、 ２・・・帯板、３・・・帯
板入口、 ４・・・帯板出口、５・・・ゲート
、 ６・・・開閉扉、７・・・ガイドローラ
、 ８・・・蒸着用金属、９・・・るつぼ、
１ｏ・・・絶縁碍子、１１・・・電子ビーム銃、
１２・・・電極、１３・・・第１電源、 １４
・・・第２電源、１５・・・遮蔽板、 １６・
・・シャッター、１７・・・アンコイラ−１１８・・・
入側導管、１９・・・加熱用コイル、 ２０・・・コ
イラー、２１・・・出側導管。
Claims (1)
- 真空槽内を帯板を連続的に通過させ、前記真空槽内を通
過する前記帯板の下方に蒸着用金属を収容するためのる
つぼを設け、前記真空槽に取り付けた電子ビーム銃によ
つて前記蒸着用金属に電子ビームを当てて前記蒸着用金
属を加熱蒸発させ、前記るつぼと前記帯板との間に設け
た電極と、前記蒸着用金属との間にアークを発生させて
前記蒸着用金属から蒸発した金属分子を金属原子と電子
とに電離させ、前記帯板に負の極性を与えて前記帯板下
面に前記金属原子を電気的に吸着させ、そして、前記電
極に供給する電力量を調整して前記帯板の下面に蒸着さ
れる金属皮膜の膜厚を調整することを特徴とする真空蒸
着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16088186A JPS6318059A (ja) | 1986-07-10 | 1986-07-10 | 真空蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16088186A JPS6318059A (ja) | 1986-07-10 | 1986-07-10 | 真空蒸着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6318059A true JPS6318059A (ja) | 1988-01-25 |
Family
ID=15724388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16088186A Pending JPS6318059A (ja) | 1986-07-10 | 1986-07-10 | 真空蒸着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6318059A (ja) |
-
1986
- 1986-07-10 JP JP16088186A patent/JPS6318059A/ja active Pending
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