JPS6320465A - 真空蒸着装置 - Google Patents

真空蒸着装置

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JPS6320465A
JPS6320465A JP16367186A JP16367186A JPS6320465A JP S6320465 A JPS6320465 A JP S6320465A JP 16367186 A JP16367186 A JP 16367186A JP 16367186 A JP16367186 A JP 16367186A JP S6320465 A JPS6320465 A JP S6320465A
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JP
Japan
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metal
crucible
strip
deposition
electron beam
Prior art date
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Pending
Application number
JP16367186A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadashi Fujioka
藤岡 忠志
Fumitaka Kaneko
金子 文孝
Tsutomu Sakurai
桜井 勉
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、銅帯等の帯板の両面に、金属皮膜を連続的
に真空蒸着するための装置に関するものである。
〔従来技術とその問題点〕
例えば、銅帯の表面に亜鉛やアルミニウムのような金属
皮膜を連続的に真空蒸着するための装置として、銅帯が
連続的に通過する真空槽と、真空槽内に配置された蒸着
用金属を収容するためのるつぼと、るつぼ内の蒸着用金
属を加熱蒸発させるための加熱ヒータとからなる真空蒸
着装置が知られている。
るつぼ内の蒸着用金属は、加熱ヒータによって加熱され
て蒸発し、蒸着用金属から蒸発した金属分子が真空槽内
を連続的に通過する銅帯の表面に付着して、銅帯の表面
に蒸着用金属の薄い皮膜が形成される。
しかしながら、蒸着用金属が例えばチタンやシリコンの
ような高融点の金属の場合には、上述した従来の装置で
は、るつぼ内の蒸着用金属を十分に加熱蒸発させること
ができず、且つ、蒸着用金属から蒸発した金属分子を銅
帯の表面に強固に密着させることができない。しかも、
銅帯の両面に同時に蒸着処理を施こすことができなかっ
た。
このようなことから、アルミニウムや亜鉛のような低融
点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金
属をも、銅帯等の帯板の両面に連続的に且つ高い密着力
で真空蒸着することができる真空蒸着装置の開発が強く
望まれているが、かかる装置は、まだ提案されていない
〔発明の目的〕
従って、この発明の目的は、銅帯等の帯板の両面に、ア
ルミニウムや亜鉛のような低融点の金属は勿論、チタン
やシリコンのような高融点の金属をも、連続的に且つ高
い密着力で真空蒸着することができる真空蒸着装置を提
供することにある。
〔発明の概要〕
この発明は、帯板が連続的に通過する真空槽と、前記真
空槽内において、前記帯板を下方にループ状にガイドさ
せるための複数個のガイドローラと、前記真空槽内にお
いて、ループ状にガイドされた前記帯板の内側に設けら
れた、前記帯板の一方の面に蒸着される蒸着用金属を収
容するための第1るつぼと、前記真空槽内において、ル
ープ状にガイドされた前記帯板の外側に設けられた、前
記帯板の他方の面に蒸着される蒸着用金属を収容するた
めの第2るつぼと、前記真空槽に取り付けられた、前記
第1るつぼ内の蒸着用金属に電子ビームを当てて蒸着用
金属を加熱蒸発させるための第1電子ビーム銃と、前記
第2るつぼ内の蒸着用金属に電子ビームを当てて蒸着用
金属を加熱蒸発させるための第2電子ビーム銃と、前記
第1るつぼの直上に設けられた、前記第1るつぼ内の蒸
着用金属との間に発生させたアークによって前記第1る
つは内の蒸着用金属から蒸発した金属分子を金属原子と
電子とに電離させるための第1電極と、前記第2るつぼ
内の蒸着用金属との間に発生させたアークによって前記
第2るつぼ内の蒸着用金属から蒸発した金属分子を金属
原子と電子とに電離させるための第2電極と、前記第1
電極と前記第1るつぼ内の蒸着用金属との間に電圧を印
加するための第1電源と、前記第2電極と前記第2るつ
ぼ内の蒸着用金属との間に電圧を印加するための第2電
源と、前記帯板に負の極性を与えるための第3電源とか
らなることに特徴を有するものである。
〔発明の構成〕
次に、この発明の真空蒸着装置の一実施態様を図面を参
照しながら説明する。第1図は、この発明の真空蒸着装
置の一実施態様を示す断面図、第2図は、第1図のA−
A矢視図である。
第1図および第2図に示すように、真空槽1は水平な短
円筒状に形成されており、その周壁土部には帯板人口3
および帯板出口4が対向して設けられている。帯板人口
3および帯板出口4の各々には、ゲート5が取り付けら
れている。真空槽1内は、真空ポンプ(図示せず)によ
って、約10−′Torr  の真空度に保たれている
。6は真空槽1の側面に設けられた開閉扉である。
真空槽1内には、帯板人口3から真空槽1内に水平に導
かれた鋼帯等の帯板2を下方に向けてループ状にガイド
した後、帯板出口4から水平に送り出すための複数個の
ガイドローラ7が設けられている。複数個のガイドロー
ラ7のうち帯板2の進行方向最下流側のガイドローラ7
′は、第3図に示すように、その内面に取シ付けられた
スパイラル状の導管8内を循環する冷却水によって常時
冷却される。
真空槽l内において、ループ状にガイドされた帯板2の
内側には、帯板2の一方の面に蒸着される蒸着用金属9
を収容するための、水冷構造の銅製第1るつぼ10が、
絶縁碍子を介して設けられている。真空槽1内において
、ループ状にガイドされた帯板2の外側には、帯板2の
他方の面に蒸着される蒸着用金属11を収容するための
、水冷構造の銅製第2るつぼ12が、絶縁碍子を介して
設けられている。
真空槽1の周壁頂部には、第1るつぼ10内の蒸着用金
属9に向けて電子ビームを当てて蒸着用金属9を加熱蒸
発させるための第1電子ビーム銃13が取り付けられて
いる。第1電子ビーム銃13の先端には偏向コイル(図
示せず)が取り付けられており、第1電子ビーム銃13
からの電子ビームを走査して、第1るつぼ10内の蒸着
用金属9を均一に加熱する。真空槽1の周壁下部には、
第2るつぼ12内の蒸着用金属11に向けて電子ビーム
を当てて蒸着用金属11を加熱蒸発させる大めの第2電
子ビーム銃14が取り付けられてい7:)1、第2電子
ビーム銃14からの電子ビームも第1電子ビーム銃13
におけると同様に、偏向コイル(図示せず)により、蒸
着用金属11が均一に加熱されるように走査される。
第1るつぼ10の直上には、第1電極15が設けられて
いる。第1電極15は、第1るつぼlO内の蒸着用金属
9との間にアークを発生させて、蒸着用金属9から蒸発
した金属分子を金、属原子と電子とに電離させる。第2
るつぼ12の直上には、第2電極16が設けられている
。第2電極16は、第2るつぼ12内の蒸着用金属11
との間にアークを発生させて、蒸着用金属11から蒸発
した金属分子を金属原子と電子とに電離させる。
第1′1を極15と第1るつぼ10との間には、アーク
発生用の第1電源17が接続されている。第2を極16
と第2るつぼ12との間には、アーク発生用の第2電源
1Bが接続されている。
真空槽1内を通過する帯板2は、第3電源19の負極側
に真空槽1を介して電気的に接続されているガイドロー
ラ7′と電気的に接触している。従って、帯板2は、第
3電極19の負極側に接続されていることになる。これ
によって、アーク放電によって電離した正の電荷を持つ
第1および第2るつぼ10.12からの金属原子は、帯
板2の両面にそれぞれ電気的に吸引されて付着する。
20は帯板2を巻き戻すだめのアンコイラ−である。ア
ンコイラ−20と真空槽1の帯板人口3とは、入側導管
21によって気密に接続されている。入側導管21内の
途中には、蒸着処理前に帯板2を予め加熱するための加
熱用コイル22が設けられている。23は真空蒸着処理
された帯板2を巻き取るだめのコイラーである。真空槽
1の帯板出口4とコイラー23との間は、出側導管24
によって気智に接続されている。
予め酸洗等によって表面が清浄化された帯板2は、アン
コイラ−20によって巻き戻され、入側導管21、真空
槽1および出側導管24内をガイドローラ7.7′を経
て連続的に移動し、コイラー23によって巻き取られる
。このように移動する帯板2は、入側導管21内の途中
に設けられた加熱用コイル22によって、300〜50
0℃の温度に加熱される。
一方、第1および第2るつぼ10.12内の蒸着用金属
9.11は、第1および第2電子ビーム銃13.14か
らの電子ビームによってそれぞれ加熱蒸発する。これに
よって生じた蒸着用金属9・。
11の金属分子は、電極15.16と蒸着用金属9.1
1との間にそれぞれ発生したアークによって金属原子と
電子とに電離する。そして、前記金属原子は、第3電源
19の負極側にガイドローラー7′を介して電気的に接
続されている帯板2の両面にそれぞれ電気的に吸引され
て付着する。このようにして、帯板2の両面に、2〜5
ミクロンの厚さの蒸着用金属の皮膜が形成される。この
後、帯板2は出側導管24を通9、コイラー23に巻き
取られる。
この発明の装置において、第1および第2るつぼ9内の
蒸着用金属9,11の加熱は、上述したように、第1お
よび第2電子ビーム銃13.14からの高いエネルギー
を有する電子ビームによってそれぞれ行なわれるので、
チタンやシリコンのような高融点の金属であっても、容
易に加熱蒸発させることができる。そして、蒸発した金
属分子を、第1および第2電極15.16と第1および
第2るつぼ10.12内の蒸着用金属8との間にそれぞ
れ発生させたアークによって電離させ、その金属原子を
帯板20両面にそれぞれ電気的に吸着させるので、帯板
2の両面に高い密着力で金属皮膜を形成させることがで
きると共に、真空槽1の真空度をそれほど高めなくても
済む。
〔発明の効果〕
以上述べたように、この発明の真空蒸着装置によれば、
銅帯等の帯板の両面に、アルミニウムや亜鉛のような低
融点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の
金属をも、連続的に且つ高い密着力で蒸着することがで
きる工業上優れた効果がもたらされる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の真空蒸着装置の一実施態様を示す
断面図、第2図は、第1図のA−A矢視図、第3図は、
同実施態様におけるガイドローラの部分断面図である。 図面において。 1・・・真空槽、      2・・・帯板。 3・・・帯板入口、     4・・・帯板出口、5、
・・ゲート、      6・・・開閉扉、7.7′・
・・ガイドローラ、   8・・・導管、9・・・蒸着
用金属、   1o・・・第1るつぼ、11・・・蒸着
用金属、   12・・・第2るつぼ、13・・・第1
電子ビーム銃、14・・・第2電子ビーム銃、15・・
・第1電極、    16・・・第2電極。 17・・・第1電源、    18・・・第2電源。 19・・・第3電源、    20・・・アンコイラ−
121・・・入側導管、    22・・・加熱用コイ
ル、23・・・コイラー、    24・・・出側導管

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 帯板が連続的に通過する真空槽と、前記真空槽内におい
    て、前記帯板を下方にループ状にガイドさせるための複
    数個のガイドローラと、前記真空槽内において、ループ
    状にガイドされた前記帯板の内側に設けられた、前記帯
    板の一方の面に蒸着される蒸着用金属を収容するための
    第1るつぼと、前記真空槽内において、ループ状にガイ
    ドされた前記帯板の外側に設けられた、前記帯板の他方
    の面に蒸着される蒸着用金属を収容するための第2るつ
    ぼと、前記真空槽に取り付けられた、前記第1るつぼ内
    の蒸着用金属に電子ビームを当てて蒸着用金属を加熱蒸
    発させるための第1電子ビーム銃と、前記第2るつぼ内
    の蒸着用金属に電子ビームを当てて蒸着用金属を加熱蒸
    発させるための第2電子ビーム銃と、前記第1るつぼの
    直上に設けられた、前記第1るつぼ内の蒸着用金属との
    間に発生させたアークによつて前記第1るつぼ内の蒸着
    用金属から蒸発した金属分子を金属原子と電子とに電離
    させるための第1電極と、前記第2るつぼ内の蒸着用金
    属との間に発生させたアークによつて前記第2るつぼ内
    の蒸着用金属から蒸発した金属分子を金属原子と電子と
    に電離させるための第2電極と、前記第1電極と前記第
    1るつぼ内の蒸着用金属との間に電圧を印加するための
    第1電源と、前記第2電極と前記第2るつぼ内の蒸着用
    金属との間に電圧を印加するための第2電源と、前記帯
    板に負の極性を与えるための第3電源とからなることを
    特徴とする真空蒸着装置。
JP16367186A 1986-07-14 1986-07-14 真空蒸着装置 Pending JPS6320465A (ja)

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JP16367186A JPS6320465A (ja) 1986-07-14 1986-07-14 真空蒸着装置

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62141065A (ja) * 1985-12-17 1987-06-24 Toray Silicone Co Ltd 硬化性オルガノポリシロキサン組成物
WO1998058095A1 (de) * 1997-06-13 1998-12-23 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum plasmaaktivierten elektronenstrahlverdampfen und einrichtung zur durchführung des verfahrens
JP2007317865A (ja) * 2006-05-25 2007-12-06 Aisin Seiki Co Ltd 熱電モジュール
WO2014166482A1 (de) * 2013-04-10 2014-10-16 Uwe Beier Vorrichtung zum bearbeiten von flexiblen substraten

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