JPS6318058A - 真空蒸着装置 - Google Patents

真空蒸着装置

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JPS6318058A
JPS6318058A JP16088086A JP16088086A JPS6318058A JP S6318058 A JPS6318058 A JP S6318058A JP 16088086 A JP16088086 A JP 16088086A JP 16088086 A JP16088086 A JP 16088086A JP S6318058 A JPS6318058 A JP S6318058A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
strip
vacuum
electron beam
crucible
Prior art date
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Pending
Application number
JP16088086A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadashi Fujioka
藤岡 忠志
Fumitaka Kaneko
金子 文孝
Tsutomu Sakurai
桜井 勉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
Priority to JP16088086A priority Critical patent/JPS6318058A/ja
Publication of JPS6318058A publication Critical patent/JPS6318058A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、銅帯等の帯板の表面に、金属皮膜を連続的
に真空蒸着するだめの装置に関するものである。
〔従来技術とその問題点〕
例えは、銅帯の表面に亜鉛やアルミニウムのような金属
皮膜を連続的に真空蒸着するための装置として、銅帯が
連続的に通過する真空槽と、真空槽内に配置された蒸着
用金属7収容するためのるつぼと、るつぼ内の蒸着用金
属を加熱蒸発させるための、るつぼに設けられた加熱ヒ
ータとからなる真空蒸着装置が知られている。
るつは内の蒸着用金属は、加熱ヒータによって加熱され
て蒸発し、蒸着用金属から蒸発した金属分子が真空槽内
を連続的に通過する銅帯の表面に付着して、銅帯の表面
に蒸着用金属の薄い皮膜が形成される。
しかしながら、蒸着用金属が例えばチタンやシリコンの
ような高融点の金属の場合には、上述した従来の装置で
は、るつは内の蒸着用金属を十分に加熱蒸発させること
ができず、且つ、蒸着用金属から蒸発した金属分子を銅
帯の表面に強固に密着させることができない。
このようなことから、アルミニウムや亜鉛のような低融
点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点の金
属でも、銅帯等の帯板の表面に連続的に且つ高い密着力
で真空蒸着することができ、しかも、1台の装置によっ
て異種の金属全多層に蒸着することが容易に行なえる真
空蒸着装置の開発が強く望まれているが、かかる装置は
、まだ提案されていない。
〔発明の目的〕
従って、この発明の目的は、銅帯等の帯板の表面に、ア
ルミニウムや亜鉛のような低融点の金属ハ勿論、チタン
やシリコンのような高融点の金属をも、連続的に且つ高
い密着力で蒸着することができ、さらに、1台の装置に
よって異種の金属を多層に蒸着することができる真空蒸
着装置を提供することにある。
〔発明の概要〕 この発明は、帯板が連続的に通過する真空槽と、前記真
空槽内を通過する前記帯板の下方に水平方向に並べて設
けられた、蒸着用金属を収容するための複数個のるつぼ
と、前記真空槽に取り付けられた、前記蒸着用金属に電
子ビームを当てて前記蒸着用金属を加熱蒸発させるため
の電子ビーム銃と、前記るつぼと前記帯板との間に設け
られた、前記蒸着用金属との間に発生させたアークによ
って前記蒸着用金属から蒸発した金属分子を金属原子と
電子とに電離させる    −′   −ための電極と
、前記電極と前記蒸着用金属との間に電圧を印加するた
めの第1′亀源と、前記帯板に負の極性を与えるための
第2電源とからなり、前記複数個のるつほは、移動手段
によって水平方向に移動可能になっていることに特徴を
有するものである。
〔発明の構成〕
次に、この発明の真空蒸着装置を図面を参照しながら説
明する。第1図は、この発明の真空蒸着装置の一実施態
様を示す断面図、第2図は、第1図のA−A線断面図で
ある。
第1図および第2図に示すように、真空槽lは水平な短
円筒状に形成されており、その側部には帯板人口3が、
そして、その上部には帯板出口4が設けられている。帯
板人口3および帯板出口4の各々には、ゲート5が取り
付けられている。真空槽1内は、真空ポンプ(図示せず
)によって、約10−’ TorrQ高真空に保たれて
いる。6は真空槽1の一方の側面に設けられた開閉扉で
ある。
真空槽l内の上部には、帯板入口3を通って真空槽1内
に水平に導かれた例えば銅帯のような帯板2の移動方向
を、帯板出口4に向けて上方に変更させるためのガイド
ローラ7が設けられている。
ガイドローラ7は、その内部を循環する水によって常時
冷却される。
真空槽l内の下部には、異種の蒸着用金属8,8′をそ
れぞれ収容するためのるつぼ9,9′が、真空槽1と電
気的に絶縁されて設けられている。るつは9,9′は、
第3図に示すように、駆動手段lOによって絶縁台12
上を水平方向に移動可能な架台ll上に2個並べて設け
られている。るつぼ9゜9′は、銅製でその壁内に設け
られた冷却水通路(図示せず)内を冷却水が循環するこ
とによって常時冷却される。架台11とるつぽ9,9′
とは電気的に接続されている。
移動手段IOは、架台11に螺合するスクリューネジ1
3とスクリューネジ13を回転させるためのモーター1
4とからなっている。モーター14を駆動させれば、ス
クリューネジ13が回転し、これによって、架台ll上
のるつぼ9,9′は水平方向に移動する。なお、るつぼ
の数は2個に限定されない。
真空槽lの上部には、一方のるつぼ9内の蒸着用金属8
に向けて電子ビームを当てて蒸着用金属8を加熱蒸発さ
せるための電子ビーム銃15が取り付けられている。電
子ビーム銃15からの電子ビームが、るつぼ9内の蒸着
用金属80表面を走置して、蒸着用金属8を平均に加熱
するために、成子ビーム玖15の先端には、偏向コイル
(図示せず)が取り付けられている。
真空槽1内のるつぼ9の上方には、例えばモリブデン製
の電極16が設けられている。電極16と架台11との
間には、第1電源17が設けられている。蒸着用金属8
から蒸発した金属分子は、架台11と電気的に接続され
ているるつぼ9内の蒸着用金属8と電極16との間に発
生したアークによって、金属原子と電子とに電離する。
真空槽1内を通過する帯板2は、第2電源18の負極側
に真空槽1を介L7て電気的に接続されているガイドロ
ーラ7と電気的に接触している。従って、帯域2は、第
2電極1Bの負極側に接続されることになる。これによ
って、アークσ電により電離した正の電荷をもつ金属ノ
東子は、帯域2の下面に電気的に吸着される。るつは9
の上方には、蒸発した金属分子が帯板2以外の部分に付
着することを防止するために、遮蔽板19が設けられて
一マー いる。遮蔽板19の上端には、帯板2の下面への金属原
子の付着量を調整するだめのシャッター20が設けられ
ている。
21は帯板2を巻き戻すだめのアンコイラ−である。ア
ンコイラ−21と真空槽lの帯板人口3とは、入側導管
22によって気密に接続されている。入側導管22内の
途中には、帯板2を予め加熱するための加熱用コイル2
3が設けられている。
24は真空蒸着処理された帯板2を巻き取るためのコイ
ラーである。真空槽lの帯板出口4とコイラー24との
間は、出側導管25によって気密に接続されている。
予め酸洗等によって表面が清浄化された帯板2は、アン
コイラ−21によって巻戻され、入側導管22、真空槽
lおよび出側導管25内をガイドローラ7を経て連続的
に移動し、コイラー24によって巻き取られる。このよ
うに移動する帯板2は、入側導管22内に設けられた加
熱用コイル23によって、300〜500℃の温度に加
熱される。
一方、るつは9内の蒸着用金属8は、電子ビーム115
からの電子ビームによって加熱蒸発する。
これによって生じた蒸着用金属8の金属分子は、異原子
は、第2電源18の負極側にガイドローラー7を介して
電気的に接続されている帯板1の下面に電気的に吸引さ
れて付着する。このようにして、帯板2の下面に、2〜
5ミクロンの厚さの蒸着用金属の皮膜が形成される。こ
の後、帯板2は出側導管25を通り、コイラー24に巻
き取られる。
コイラー24に巻き取られた、1回目の蒸着が終了し−
た帯板2は、再びアンコイラ−21に装着され、上述し
た操作と同様な操作が繰り返し行なわれる。但し、今度
は、るつぼ9内の蒸着用金属8と異なる蒸着用金属8′
が収容された他方のるつぼ9′が、電子ビームの照射位
置に移動手段10によって移動される。これによって、
第1ノーの蒸着皮膜の上Vにれとは異種金属からなる第
2層の蒸着皮膜が形成される。
この発明の装置において、るつぼ9,9′内の蒸着用金
属8,8′の加熱は、上述したように、電子ビーム甑1
5からの高いエネルギーを有する電子ビームによって行
なわれるので、チタンやシリコンのような高融点の金属
であっても、容易に加熱蒸発させることができる。そし
て、蒸発した金属分子を、電極16とるつぼ9,9′内
の蒸着用金属8.8′との間に発生させたアークによっ
て電離させ、その金属原子を帯板2の下面に電気的に吸
着させるので、帯板20表面に高い密着力で金属皮膜を
形成させることができ、しかも、真空槽1の真空度をそ
れほど高めなくても済む。さらに、帯板1に容易に異種
の金属を多層に蒸着することができる。
なお、遮蔽板19の上端には、シャッター20が設けら
れているので、その開度を調節することにより、帯板2
に蒸着される金属皮膜の膜厚を容易に調整することがで
きる。
〔発明の効果〕
以上述べ/こように、この発明の真空蒸着装置によれば
、銅帯等の帯板の下面に、アルミニウムや亜鉛のような
低融点の金属は勿論、チタンやシリコンのような高融点
の金属をも、連続的に且つ高い密着力で蒸着することが
でき、しかも、異種の金属を容易に多層に蒸着すること
ができるといったきわめて有用な効果がもたらされる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の真空蒸着装置の一実施態様を示す
断面図、第2図は、第1図のA−A線断面図、第3図は
、第1図の部分拡大断面図である。 図面において、 1・・・真空槽、     2・・・帯板、3・・・帯
板入口、     4・・・帯板出口、5・・・ゲート
、      6・・・開閉扉、7・・・ガイドローラ
、  8,8′・・・蒸着用金属、9.9′・・・るつ
ぼ、     10・・・移動手段、11・・・架台、
      12・・・絶縁台、13・・・スクリュー
ネジ、 14・・・モーター、15・・・電子ビーム銃
、  16・・・電極、17・・・第1電源、    
18・・・第2電源、19・・・遮蔽板、     −
20・・・シャッター、21・・・アンコイラ−122
・・入側導管、23・・・加熱用コイル、  24・・
・コイラー、25・・・出側導管。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 帯板が連続的に通過する真空槽と、前記真空槽内を通過
    する前記帯板の下方に水平方向に並べて設けられた、蒸
    着用金属を収容するための複数個のるつぼと、前記真空
    槽に取り付けられた、前記蒸着用金属に電子ビームを当
    てて前記蒸着用金属を加熱蒸発させるための電子ビーム
    銃と、前記るつぼと前記帯板との間に設けられた、前記
    蒸着用金属との間に発生させたアークによつて前記蒸着
    用金属から蒸発した金属分子を金属原子と電子とに電離
    させるための電極と、 前記電極と前記蒸着用金属との間に電圧を印加するため
    の第1電源と、前記帯板に負の極性を与えるための第2
    電源とからなり、前記複数個のるつぼは、移動手段によ
    つて水平方向に移動可能になつていることを特徴とする
    真空蒸着装置。
JP16088086A 1986-07-10 1986-07-10 真空蒸着装置 Pending JPS6318058A (ja)

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JP16088086A JPS6318058A (ja) 1986-07-10 1986-07-10 真空蒸着装置

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JPS6318058A true JPS6318058A (ja) 1988-01-25

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JP16088086A Pending JPS6318058A (ja) 1986-07-10 1986-07-10 真空蒸着装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5518597A (en) * 1995-03-28 1996-05-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Cathodic arc coating apparatus and method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57161062A (en) * 1981-03-13 1982-10-04 Balzers Hochvakuum Evaporation of substance under vacuum and device
JPS61143577A (ja) * 1984-12-14 1986-07-01 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 薄膜形成装置

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