JPS6320304A - クロロスルホン化ポリエチレン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はクロロスルホン化ポリエチレンに関するもので
ある。

さらに詳しくは、粘度の温度依存性が小さいこと罠より
、加工特性が優れたクロロスルホン化ポリエチレンに関
するものである。

〔従来の技術〕

クロロスルホン化ポリエチレンは二重結合を持たないハ
ロゲン化エラストマーであり、同じノ１０ゲン系ノエラ
ストマーであるクロロプレンゴムと比べて、耐熱性、耐
候性、耐オゾン性により優れた特質を示すことからクロ
ロプレンゴムよりさらにワンランク上の特殊エラストマ
ーとして位置づけられる。

しかしながら、これらの優れた特質を持つにもかかわら
ず、市場における使用量はクロロプレンゴムに及ばない
。

この原因のひとつには、クロロスルホン化ポリエチレン
が加工しづらいニジストマーであり、その加工性が、ク
ロロブレンゴムのそれに遠く及ばないことが挙げられる
。

たとえば １）オープンロールによろ混練作業の際にゴムがロール
に粘着し、作業しに（い。

２）カレンダーロールによる引布作業の際も１）と同様
に粘着し、加工しづらいとともに、製品中和空気を抱き
込み、製品の不良率が上る。

３）バンバリーによる混練作業の後、ゴムコンパウンド
を取り出す際、回転ローターにゴムコンパウンドが付着
し、取り出しづらい。

ことなどがその代表例である。

このため、クロロスルホン化ポリエチレンを使用するゴ
ム加工業者においては、ステアリン酸カルシウム等の金
属せっけん、多価アルコール、低分子量ポリエチレン、
脂肪酸エステル、ワックス等の加工助剤の添加による加
工性の改善が計られている。

しかしながら、このような添加剤による加工性の改良は
おのずから限界が有り、これを多用することは製品表面
へのブルームや接着性の不良等を招（ため好ましくない
。

このため、クロロスルホン化ポリエチレンポリマーの本
質的改良による加工性の改良が望まれていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

即ち、本発明の目的とするところは、以上述べたような
りロロスルホン化ポリエチレンの加工性を改良する事で
あるが、我々はかかる加工上の欠点ハクロロスルホン化
ポリエチレンの粘度の温度依存性が大きいことに起因す
るものであると認識した。

即％、クロロスルホン化ポリエチレンの粘度の温度依存
性を減少すべく鋭意検討を行った結果、本発明をなすに
至ったものである。

〔問題を解決するための手段〕

即ち本発明者らは、分子量分布が二様分布を示す塩素量
１０〜６０ｗｔ襲、イオウ量α２〜五０　ｗｔ％のクロ
ロスルホン化ポリエチレンが上記目的を達するものであ
ることを見出し本発明をなすに至った０ 又、このようなりロロスルホン化ポリエチレンは分半量
分布が二様分布を示すポリエチレンを塩素化およびクロ
ロスルホン化して、［２１０〜６０　ｗｔ％、イオウ量
α２〜Ａ　Ｏｗｔ％のクロロスルホン化ポリエチレンを
製造することから得られるものである。

〔作用〕

本明細書に言う二様分布とは、分子量分布において、低
分子量部分と高分子量部分の２つのピークトップを持つ
ものを言い、単一のピークトップを持つ単一分布と区別
するものである。

一般に分子量分布はＧＰＣ（ゲルパーミェーションクロ
マトグラフィー）により測定されるが、以下に本明細書
に言う二様分布を定義するものとする。

又、ショルダーと言われるものを持つ分布については、
以下に示すような方法により二様分布とショルダーを区
別するものである。

く単一分布〉 溶出曲線がひとつの極大値のみを持つものく二様分布〉 溶出曲線が２つの極大値とその間にひとつの極小値を持
つもの くショルダーを持つ単一分布と二様分布の違い〉溶出曲
線の接線を考えるとき、ショルダーを持つ単一分布のも
のはその傾きが０となる点は極大値の１点だけであり、
ショルダーの部分は傾きが０とはならない。

一方、二様分布のものは、極大値、極小値、極大値の５
点において、該接線の傾きが０となる。

この点において、ショルダーと二様分布を区別するもの
とする。

これらの定義の代表例を図−１に示す。

又、二様分布の低分子量部分と高分子量部分は溶出回線
の２つの極太値の間に存在する僕小値に相当する分子量
で低分子量部分と高分子量部分に別けるものとする。

この低分子量部分と高分子量部分がより鮮明に分離した
ピークを示すものが好ましい。

本発明において、分子量の値そのものは特に発明の構成
要素とはならない。重要なのは、分子量分布の形状であ
る。

一般に、本明細書に言う二様分布を示すものは分子量分
布を示す尺度であるｈい石、即ち重量平均分子量／数平
均分子量の値は大きい。

但し、単一分布を示すものにも分子量分布が広（、広イ
荘の値が大きいものもあるため、Ｍｗ／匹により規定す
ることは適当ではない。

重要なのは分子量分布の形状が二様分布を示すことであ
る。

クロロスルホン化ポリエチレンに含まれる塩素量は１０
〜６０ｖｒｔ％、好ましくは２０〜４５ｗｔ％である。

同イオウ量はα２〜五Ｏｖｔ％、好ましくはα４〜１・
６ｗｔ％である。

イオウ量はクロロスルホン化ポリエチレンに含マレロク
ロロスルホン基の量を示す尺度であり、加硫速度、加硫
密度等の加硫挙動を支配する因子となる。

特に好ましくはα８〜１．２　ｗｔ％である。

本明細書で言う粘度の温度依存性はムーニー粘度（ＭＬ
ｔ＋Ｊの温度依存性を測定することから求めろことが出
来る。たとえば、１００℃のムーニー粘度と１５０℃の
ムーニー粘度を測定し、その差を求めるものである。

この差の小さいもの稈温度依存性が小さいが、一般に１
００℃のムーニー粘度の絶対値が小さなもの（たとえば
ＭＩＪｔ＋ａ　、　　１００℃が２０以下のもの）はそ
の差が小さく現われ１００℃のムーニー粘度の絶対値が
大きなもの（たとえばＭＬ＋＋４−１００℃が８０以上
のもの）はその差が大きく現を比較することは、適当で
はない。そこで我々は次の様な（式）により温度依存性
を表現することとした。

（式） ここでＸが（１５０以下であるものは温度依存性が小さ
なりロロスルホン化ポリエチレンである。

Ｘがα５０を超えるものは、温度依存性が大きなりロロ
スルホン化ポリエチレンである。

従来、市販のクロロスルホン化ポリエチレンはＸが１５
０を超える。

一方、市販のクロロプレンゴムはα５０以下である。

本発明圧より得られるクロロスルホン化ポリエチレンは
（Ｌ５０以下の値を示すクロロスルホン化ポリエチレン
であることを特徴とする。

分子量分布が二様分布を示すクロロスルホン化ポリエチ
レンは、分子量分布が二様分布を示すポリエチレンを塩
素化およびクロロスルホン化することで製造することが
出来る。

分子量が二様分布を示すポリエチレンは本来二様分布を
示すポリエチレンを原料とする以外に低分子量ポリエチ
レンと高分子量ポリエチレンからなる混合ポリエチレン
を原料として、自ら作り出すことも可能である。

この場合も、低分子量部分と高分子量部分の比は１：１
により近いものが好ましい。

先にも述べたように、本発明において重要なことは分子
量分布が二様分布を示すことであり、分子量そのものの
値、あるいはＭｗ／Ｍｒ＞の値そのものが重要ではない
。

一般に二様分布を示すポリエチレンは分子量分布が広く
なるため、Ｍｖｒ／Ｍｎあるいは、特開昭６０−１４９
６０４で述べたようなメルトフローレーシオ（ＭＩ、い
／Ｍ工１１．′）′ＩＪ″−犬き（なる。

但し、単一分布を示すポリエチレンでも、分子量分布が
広いために、応ン６あるいはメルトフローレーシオが大
きくなる場合もあるため、これらの量で規定することは
適当ではない。

あ（までも分子量分布の形状が二様分布を示すことが重
要である。

これは、クロロスルホン化ポリエチレ／の分子量分布の
形状は反応の状況に依らず、原料ポリエチレンの分子量
分布の形状に依存するという事にもとづくものである。

即ち、ポリエチレンで単一分布を持つものはクロロスル
ホン化ポリエチレンにおいても、単一分布を示し、ポリ
エチレンで二様分布を持つものはクロロスルホン化ポリ
エチレンにおいても二様分布を示す。

もちろん、分子量については反応条件により、その絶対
値は変化するが、このことは本発明においては特に重要
なこととはならない。

本明細書で言うポリエチレンとはエチレンホモポリマー
の他に、エチレンと１０モル嗟以下の共重合成分とから
なるエチレン共重合体をも含めて定義するものとする。

この共重合成分としては、たとえばブテン−１゜プロピ
レン、ペンテン−１，４−メチルペンテン−１，オクテ
ン−１，ヘキセン−１，酢ｆｉビニル。

アクリル酸、アクリル酸エステル等がちる。

特に望ましいポリエチレンは高密度ポリエチレンである
が、メルトインデックスＱ、１〜１０ｇ／１０分、密度
α９４８〜α９６２９　／　ｃｃなるものが特に好まし
い。

ポリエチレンを塩素化およびクロロスルホン化してクロ
ロスルホン化ポリエチレンとする方法は、たとえば、溶
媒にポリエチレンを溶解させ、塩素と亜硫酸ガスおよび
又は塩化スルフリル、あるいは塩化スルフリルを単独で
ラジカル発生剤を触媒として、必要に応じて助触媒を用
いることから製造する方法が挙げられる。

この際、溶媒としては、ハロゲン化反応に不活性な、四
塩化炭素、クロロホルム、四塩化エタン。

モノクロルベンゼン、ベンゼンなどが用いられる。

ラジカル発生剤としては、α、ｄ−アゾビスインブチロ
ニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリルのよ
うなアゾ系ラジカル開始剤、過酸化ベンゾイル、過酸化
アセチルのような過酸化物あるいは紫外線が用いられる
。

助触媒としては、ピリジン、キノリンのようなアミン化
合物が挙げられろ。

反応の終了した溶液は、液中に残存する塩化水素ガス、
亜硫酸ガス等の酸分を取り除く。

この後エポキシ系の安定剤が添加される。

２．２′−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）プロ
パンが望ましい。

得られた溶液からクロロスルホン化ポリエチレンを分離
、乾燥する手段としては １）水蒸気蒸留法 熱水中にポリマー溶液をフィードし溶媒を水蒸気蒸留に
より分離した後、乾燥する方法。（たとえば米国特許２
５９２８１４を参照） ２）　ドラム乾燥法 加熱した回転ドラム表面にポリマー溶液をフィードして
、ポリマーをフィルムとして取り出す方法。（たとえば
米国特許 ２９２３９７９を参照） ３）押出乾燥法 ポリマー溶液を予備濃縮し、あるいは直接に押出乾燥機
を用いて乾燥する方法。

（たとえば特開昭５７−４７５０５を番孔）等の公知の
方法が挙げられる。

ただ本発明を実施するに当り、製造プロセスは上記の方
法に限定するものではない。

溶剤に懸濁させて反応する方法、気相中で反応する方法
等で反応を行うことも可能である得られたクロロスルホ
ン化ポリエチレンは加硫剤、加硫促進剤、補強剤、充填
剤、可塑剤、軟化剤、老化防止剤等の配合物を加え、加
硫することによって加硫物として、あるいは未加硫物と
して使用される。

一般にクロロスルホン化ポリエチレンは、加硫剤として
、マグネシア、リサージ、三塩基性マレイン酸鉛、水酸
化カルシウム、酸化カルシウム等の金属酸化物、エポキ
シ樹脂、多価アルコール。

多価アミンなどが用いられる。

加硫促進剤としては、ＴＲＡ（ジペンタメチレンチウラ
ムテトラスルフィド）、ＴＴ（テトラメチルチウラムジ
スルフィド）、エチレンチオ尿素などのイオウ系加硫促
進剤、ＤＣＰ（ジクミルパーオキサイド）等の過酸化物
、ＰＭ（Ｎ、Ｎ’−ｍ　−）二二レンジマレイミド）等
のマレイミド類が挙げられる。

補強剤、充填剤としては、カーボンブラック。

クレー、タルク、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン
等が挙げられる。

可塑剤、軟化剤としては、７タル酸エステル。

セバシン酸エステル、各種オイルが挙げられる。

又、ＮＢＣ（ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル）、
アミン系、フェノール系の老化防止剤が用いられるが、
これら配合剤は上記に限定されるものではない。

これら配ＩＪとのゴムコンパウンドは未加硫物としであ
るいはプレス加硫、蒸気加硫、ＵＨＦ加硫あるいは電子
線加硫などにより加硫されて、各稽製品となる。

たとえば、ＬＰガスホース、都市ガスホース。

電線、自動車用ホース、エスカレータ−手摺、雨合羽、
ウィンドブレーカ−、ゴムボート、カバン。

型もの、ベルト、ブーツなどが挙げられる。

〔発明の効果〕

本発明によるクロロスルホン化ポリエチレンは粘度の温
度依存性が従来のクロロスルホン化ポリエチレンに比べ
、著しく小さいものである。

このため １）ロール作業の可能な温度範囲が広がったため、作業
がやりやすく、ロールへの粘着が小さい。

２）カレンダーロールへの粘着が小さくなり、空気の抱
き込みも少ない。

３）バンバリーによる混練の後、コンパウンドの排出性
が良い。

という特徴を有する。

一方加硫物の物性は従来のクロロスルホン化ポリエチレ
ンと同等の性質を示す。

このため、電線、ホース、引布、工業部品など従来のポ
リエチレンと同様の分野に使用することが可能である。

〔実施例〕

次に実施例にもとづき、本発明をさらに詳しく説明する
が、これらは本発明の理解を助けるための例であって、
本発明はこれらの実施例から何らの制限を受けるもので
はない。

なお、これらの実施例で用いた値は以下の測定法に準拠
して得られたものである。

くポリエチレンについて〉 メルトインデックス：ＪＩＳ　　Ｋ　　７２１０密度　
　　：ＪＩＳ　Ｋ　７１１２ ＧＰＣによる分子量分布の測定：以下の通り機　塊　　
　：ウォータース社　Ｇｐｅ／１５０Ｃカラム　　　：
東洋曹達工業■製 ＧＭＨ−ＨＴ　　２本 浴　媒　　　：オルトジクロルベンゼン流　速　　　＝
１．０ゴ／分 温度　：１４０℃ サンプル濃度：α１％ 検出器　　　：Ｒ１方式 検量線　　　二東洋曹達工業■製標準ポリエチレンによ
る。なお検定はＮＢＳのポ リエチレンＳＲＭ１４８２゜ １４８３．１４８４を用いた。

分子量の計算：標準ポリスチレンにより得られる分子量
をＱファクター１７．７とし て、ポリスチレン分子量に α４２８をかけたものを、分子量 とした。

〈クロロスルホン化ポリエチレンについて〉塩素、イオ
ウ量の分析：燃焼フラスコ法ムーニー粘度：ＪＩＳ　　
Ｋ　　６３００ＧＰＯによる分子量分布の測定：以下の
通り機　種　　　：東洋曹達工業■！ＡＨＬｃ８０２Ａ
カラム　　　：東洋曹達工業Ｍ）ｆｆＧＭ）（６２本Ｋ
ＸＬ　　１本を接続したもの 溶　媒　　　：テトラヒドロフラン 流速　：１．２ａｇ／分 圧力　：４４〜４５に９／ｉ 温度　：３８℃ サンプルＱ度：（１１０ｗｔ％ 検出器　　　：Ｒ１方式 検量線　　　：東洋口達工業τ畑製　標準ポリスチレン
による。

分子量の計算：標準ポリスチレンの分子量そのものを用
いた。

加硫ゴム物性：ＪＩＳ　　Ｋ　　６３０１実施例−１ メルトインデックス（１０５９／１０分、密度α９５１
９　／ｃｃの高密度ポリエチレンを原料ポリエチレンと
する。

このポリエチレンのＧＰｃチャートを図−２に得られた
平均分子量（Ｍｙ／Ｍｎ　）　、分子量分布（庁７筋）
を表−１に示す。

図−２から明らかなように、このポリエチレンは二様分
布を示す。

３０ｔのグラスライニング表の攪拌機付オートクレーブ
にこのポリエチレン１．６８７Ｃ９と溶媒の四塩化炭素
２８Ａ９を仕込み加圧下に１１０’Ｃの温度でポリエチ
レンを均一に溶解させた。

溶解の後、１００℃まで降温し、助触媒としてのピリジ
ンｃＬ２６ｇを添力口した後、ラジカル発生剤としての
ｃＬ、ｄ−アゾビスイソブチロニトリルλ３ｇと溶解し
た四塩化炭素溶液２．８神を連続的に添加しつつ、塩化
スルフリル５６５０９を添加することから反応を行った
。

塩化スルフリルの添加には２時間を要しこの間反応源Ｗ
ヲ１００℃に、反応圧力を２．８に９／ｃＩａＫ保った
。

反応の終了後、７０℃に降温し、常圧下で窒素を吹き込
むことから溶液中に残存する塩化水素。

亜硫酸ガスを除いた。

安定剤として２．２′−ビス（４−グリシジルオキシフ
ェニル）プロパン３０りを添力ａした後、ドラム乾燥機
にフィードして生成物を分離した。

分析の結果、このクロロスルホン化ポリエチレンは５Ｓ
、２ｗｔ％の塩素と１．３　ｗｔ％のイオウを含むこと
が判った。

さらにａｐｃによって、分子量分布を測定したが、溶出
曲線を図−３に分析値を表−２に示す。

図−３よりこのクロロスルホン化ポリエチレンの分子量
分布は二様分布を示すことが判る。

なお、ポリエチレンのＧＰｃかも計算されるクロロスル
ホン化ポリエチレンのＭｗ、　Ｍｎ、　Ｍｗ／Ｍｎ　カ
実測値のそれと異なるのは、両者のＧＰＣの測定条件の
違いにもとづくものである。

このクロロスルホン化ポリエチレンのムーニー粘度の温
度依存性を測定値を表−５に示し、図−４に表わした。

Ｘの値はα３４であり、ムーニー粘度の温度依存性が小
さなりロロスルホン化ポリエチレンである。

次に、！−４に示す配合によりゴムコンパウンドを作製
した。

表−４ クロロスルホン化ホリエチＶ：／　　　　　　１００マ
グネシア　　　　　　　　　　　　　　　　５ＳＲ？カ
ーボンブラツク　　　　　　　　　　５０ジオクチルセ
バシン酸　　　　　　　　　　２０ＡＣポリエチレン　
６１７Ａ　　　　　　　　　３サンタイト　　　　　　
　　　　　　　　　　　　２スプレンダー　Ｒ５００２ ペンタエリスリトール　　　　　　　　　　　　５ＴＲ
Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２ＮＢ
０　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３ＰＭ　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３合　　
　計　　　　　　　　　　　　　　　　１９３本配合は
次のＡ、Ｂ両法により混線を行った。

Ａ法 １０インチオープンロールによる混線 Ｂ法 Ａ６ｔのバンバリーミキサ−によりクロロスルホン化ポ
リエチレン、マグネシア、ＳＲ？カーボン、ジオクチル
セパシン酸、ＡＣポリエチレン、サンタイト、スブレン
ダーＲ３００を混練した後、１０インチオープンロール
により、ペンタエリスリトール、ＴＲＡ、Ｎ１５Ｃ，Ｐ
Ｍを混練する。

Ａ法による混練では、ロール粘着が見られず、ロールの
作業性は良好であった。

配合物は１５Ｇ’ｌ：で４０分間プレス加硫し力０硫物
の物性を測定したが、これらの結果をまとめて表−５に
示す。

一方Ｂ法によるバンバリーの排出性は良好で、ゴムコン
パウンドがローターに付着することはなかった。

又、ロール混練の際も良好であった。

この結果についても表−５に示す。

実施例−２ 反応故に添加する塩化スルフリルの量を２８９５９と変
え、助触媒ピリジンの量をＣＬ２１９と変化させた以外
は実施例−１と同一の条件で反応を行ないクロロスルホ
ン化ポリエチレンを得た。

分析の結果、このクロロスルホン化ポリエチレンは２９
．８　ｗｔ％の塩素とα９　ｗｔ％のイオウを含むこと
が判った。

ＧＰＯの溶出曲線を図−５に分子量等の値を表−２に示
す。

このクロロスルホン化ポリエチレンの分子量分布は二様
分布であることが判る。

ムーニー粘度の温度依存性の結果を表−５に示し、図−
４に表した。

Ｘの値はα３４であり、ムーニー粘度の温度依存性が小
さなりロロスルホン化ポリエチレンであることが判る。

次に表−４に示す配合により実施例−１と同様にＡ、Ｂ
両法によって混練を行った。

Ａ、Ｂ両法とも加工性は良好であった。

実施例−１と同様に加硫し、その物性を測定したが、こ
れらの結果をまとめて表−５に示す。

実施例−３ 原料となるポリエチレンなメルトインデックス（ＬＯ３
９／１０分、密度［１９４９９／　ｃｃの高密度ポリエ
チレンと変えた以外は実施例−１と同様和反応ヲ行ない
クロロスルホン化ポリエチレンを得た。

原料ポリエチレンのＧＰＣ浴出曲線を図−６におよび同
曲線から得られる分子量等の結果を表−１に示す。

このポリエチレンは二様分布の分子量分布を示すことが
判る。

クロロスルホン化ポリエチレンの分析の結果はＣｔ　３
ａ９ｗｔ％、イオウ量ｔ　１　ｗｔ％と判った。

ＧＰＣの溶出曲線を図−７に分子量等の値を表−２に示
す。

このクロロスルホン化ポリエチレンの分子量分布は二様
分布を示すことが判る。

ムーニー粘度の温度依存性の結果を表−３に示し、図−
４に表した。

Ｘの値はＣＬ５８であり、ムーニー粘度の温度依存性が
小さなりロロスルホン化ポリエチレンであることが判る
。

次に表−４に示す配合により実施例−１と同様にＡ、Ｂ
両法によって混線を行った。

Ａ、Ｂ両法とも加工性は良好であった。

実施例−１と同様に加硫し、その物性を測定したが、こ
れらの結果をまとめて表−５に示す。

比較例−１ 原料となるポリエチレンをメルトインデックスα９９／
１　（＋分、密度（Ｌ　９５３９　／　ｃｃの高密度ポ
リエチレンと変えた以外は実施例−１と同様に反応を行
ないクロロスルホン化ポリエチレンヲ得り。

原料ポリエチレンのＧＰＣ溶出曲線を図−８におよび同
曲線から得られる分子量等の結果を表−１に示す。

このポリエチレンは単一分布の分子量分布を示すことが
判る。

クロロスルホン化ポリエチレンの分析の結果はＣ４３５
，２ｗｔ％、イオウ量１．１　ｗｔ％と判った。

ＧＰＣの溶出曲線を図−９に分子量等の値を表−２に示
す。

このクロロスルホン化ポリエチレンの分子量分布は単一
分布を示すことが判る。

ムーニー粘度の温度依存性の結果を表−３に示し、図−
４に表した。

Ｘの値はα５８であり、ムーニー粘度の温度依存性は大
きい。

次に表−４に示す配合により実施例−１と同様にＡ、Ｂ
両法によって混練を行った。

Ａ法においては作業性は良好であったが、Ｂ法において
は、バンバリーによる排出の際、ゴムの一部がローター
に巻きつき、若干作業性が劣った。

実施例−１と同様に加硫し、その物性を測定したが、こ
れらの結果をまとめて、表−５に示す。

比較例−２ 原料となるポリエチレンをメルトインデックス５．５９
７１０分、密度α９６１９　／　ｃｃの高密度ポリエチ
レンと変えた以外は実施例−１と同様に反応ヲ行ないク
ロロスルホン化ポリエチレンを得た。

原料ポリエチレンのＧＰＣ溶出曲線を図−１０におよび
同曲線から得られる分子量等の結果を表−１に示す。

このポリエチレンは単一分布の分子量分布を示すことが
判る。

クロロスルホン化ポリエチレンの分析の結果はＣｔ３Ｓ
、６ｗｔ％、イオウ−ｉｌ　１．１　ｗｔ％と判った。

ＧＰＣの溶出曲線を図−１１に分子量等の値を表−２に
示す。

このクロロスルホン化ポリエチレンの分子量分布は単一
分布を示すことが判る。

ムーニー粘度の温度依存性の結果を表−３に示し、図−
４に表した。

Ｘの値はα６７であり、ムーニー粘度の温度依存性が太
きい。

次に表−４に示す配合により、実施例−１と同様にＡ、
Ｂ両法によって混線を行った。

Ａ法においては、ゴムがロールに若干粘着気味となり作
業性が劣った。

Ｂ法においては、ゴムがローターに巻き付き、排出性が
悪かった。

実施例−１と同様に加硫し、その物性を測定したが、こ
れらの結果をまとめて、表−５に示す。

比較例−５ 市販のＴＯ８Ｏ−Ｃ８Ｍ　　ＴＳ−５３０のムーニー粘
度の温度依存性を表−６に示す。

比較例−４ 市販のＴＯ８０−Ｃ８Ｍ　　ＴＳ−９３０（７）ムーニ
ー粘度の温度依存性を表−６に示す。

比較例−５ 市販のＴＯ８Ｏ−Ｃ！ＳＭ　　ＴＳ−４３０のムーニー
粘度の温度依存性を表−６に示す。

比較例−６ 市販のクロロスルホン化ポリエチレンであるハイパロン
４０のムーニー粘度の温度依存性を表−６に示す。

比較例−７ 市販のハイパロン４０８５のムーニー粘度の温度依存性
を表−６に示す。

比較例−８ 市販のハイパロン５８５９のムーニー粘度の温度依存性
を表−６に示す。

比較例−９ 市販のハイパロン４５のムーニー粘度の温度依存性を表
−６に示す。

比較例−１０ 市販のハイパロン４８のムーニー粘度の温度依存性を表
−６に示す。

比較例−１１ 市販のデンカＣ３Ｍ３５０のムーニー粘度の温度依存性
を表−６に示す。

比較例−１２ 市販のクロロプレンゴムであるスカイプレンＢ−５０の
ムーニー粘度の温度依存性を表−６に示す。

比較例−１３ 市販のクロロプレンゴムであるスカイプレンＹ−３１の
ムーニー粘度の温度依存性を表−６に示す。

比較例−３から比較例−１１までの市販のクロロスルホ
ン化ポリエチレンは、いづれも分子量分布が単一分布を
示すものであり、表−６より判るように、いづれもムー
ニー粘度の温度依存性が大きい。（Ｘが１５０を超える
。） 一方、市販のクロロプレンゴムはＸが１５０以下であり
、ムーニー粘度の温度依存性は小さい。

以上の実施例、比較例を参照すれば本発明により得うれ
るクロロスルホン化ポリエチレンは、粘度の温度依存性
が小さく、加工性の改善された新しいクロロスルホン化
ポリエチレンであることは明らかである。

【図面の簡単な説明】

図−１は二様分布、単一分布を示す概念図である。図−
２９図−６９図−８９図−１０はポリエチレンのＧＰＣ
溶出曲線である。 図−３９図−５９図−７９図−９９図−１１はクロロス
ルホン化ポリエチレンのＧＰＣ溶出曲線である。 図−４はムーニー粘度の温度依存性を示すグラフである
。 特許出願人　　東洋曹達工業株式会社 図面の浄書（内容に変更なし〕 図−１ く単一分布〉　　　　　　　　　　〈二様分布〉分子量
　　　　　　　　　　　　　分子量〈単一分布でショル
ダー　　　　く二様分布でショルダーを持つもの〉　　
　　　　　　　　を持つもの：・図−４ 温度（０Ｃ） 手続ネ由正書（方式） 昭和６１年１０月３０口

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）分子量分布が二様分布を示す塩素量１０〜６０ｗｔ
   ％、イオウ量０．２〜３．０ｗｔ％のクロロスルホン化
   ポリエチレン。 ２）１００℃のムーニー粘度（ＭＬ＿１＿＋＿４）と１
   ５０℃のムーニー粘度（ＭＬ＿１＿＋＿４）の差を１０
   ０℃のムーニー粘度で割った値が０．５０以下であるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１）項に記載のクロロ
   スルホン化ポリエチレン。 ３）分子量分布が二様分布を示すポリエチレンを塩素化
   およびクロロスルホン化して塩素量１０〜６０ｗｔ％、
   イオウ量０．２〜３．０ｗｔ％のクロロスルホン化ポリ
   エチレンを製造することを特徴とするクロロスルホン化
   ポリエチレンの製造法。