ES2315603T3 - Composicion polimerica semiconductora. - Google Patents
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Abstract
Composición polimérica semiconductora que comprende: un homopolímero o copolímero de etileno multimodal preparado en un procedimiento de polimerización que comprende un catalizador "single-site"; hasta 10% en peso de copolímero polar; y negro de carbón; en la que dicha composición polimérica tiene una densidad de 870 a 930 kg/m 3 , una MFR 2 de 1 a 30 g/10 min y una Mw/Mn menor o igual a 10, midiéndose los intervalos indicados en ausencia de aditivos.
Description
Composición polimérica semiconductora.
La presente invención se refiere a una
composición polimérica semiconductora de negro de carbón para su
utilización en cables eléctricos, con un rendimiento eléctrico y
una capacidad de proceso mejorados en comparación con otras
composiciones poliméricas semiconductoras conocidas. La presente
invención se refiere también a un procedimiento para preparar el
polímero, así como a la utilización de la composición polimérica
como capa semiconductora de cables eléctricos para CA o CC.
Generalmente, en los cables eléctricos el
conductor metálico está recubierto con una capa polimérica interior
semiconductora, una capa polimérica de aislamiento, una capa
polimérica exterior semiconductora, un apantallamiento metálico y,
finalmente, una camisa polimérica.
Se ha utilizado una amplia variedad de
materiales poliméricos como materiales de apantallamiento aislantes
eléctricos y semiconductores para cables en diversas aplicaciones.
A efectos de ser utilizados en servicios o productos en los que se
requiere un rendimiento a largo plazo, dichos materiales
poliméricos, además de presentar propiedades dieléctricas
adecuadas, también deben ser duraderos y deben retener
sustancialmente sus propiedades iniciales para un funcionamiento
seguro a lo largo de muchos años de servicio. Una composición
polimérica semiconductora debe cumplir una serie de propiedades,
entre las que las propiedades eléctricas son de vital
importancia.
Se conoce el hecho de que el comportamiento de
carga de espacio de los cables se puede modificar mediante la
selección de los componentes presentes en el material
semiconductor. La carga de espacio es una acumulación de cargas
eléctricas (electrones, agujeros y iones) dentro del aislamiento,
lo que provoca una distorsión del campo eléctrico. Dichas cargas
emanan de componentes presentes dentro del aislamiento o de la
inyección de electrones desde las capas semiconductoras. Las cargas
de espacio atrapadas en sistemas de aislamiento de alto voltaje (es
decir, cables eléctricos poliméricos) pueden alterar
significativamente la distribución de campo eléctrico interior, lo
que puede provocar un fallo prematuro del sistema para tensiones
muy por debajo de los valores previstos o de diseño.
Se han llevado a cabo esfuerzos para mejorar las
composiciones poliméricas semiconductoras, particularmente a
efectos de reducir los efectos de carga de espacio manteniendo otras
propiedades importantes, por ejemplo, la suavidad superficial y una
buena capacidad de proceso. De este modo, se han utilizado
composiciones poliméricas semiconductoras que incluyen un
copolímero de etileno-acrilato, negro de carbón,
estabilizante y agente reticulante de peróxido orgánico.
- A continuación se definen algunos conceptos: La velocidad de flujo de masa fundida (MFR) se mide en g/10 min de un polímero descargado a través de una matriz definida en unas condiciones especificadas de temperatura y presión, y constituye una medida de la viscosidad del polímero que, a su vez, para cada tipo de polímero, se ve influenciada principalmente por su peso molecular, aunque también por su grado de ramificación. La velocidad de flujo de masa fundida medida bajo una carga de 2,16 kg (ISO 1133) se designa MFR_{2}. A su vez, la velocidad de flujo de masa fundida medida con 21,6 kg se designa MFR_{21}.
Como característica adicional, debe considerarse
la distribución de peso molecular (MWD), que es la relación entre
el número de moléculas en un polímero y el peso molecular de las
moléculas individuales. La anchura de la distribución se indica
como un número que se define como la relación (Mw/Mn) entre el
"peso molecular promedio en peso" M_{w} dividido por el
"peso molecular promedio en número" M_{n}.
El documento EP 1 065 672 A2 (UNION CARBIDE CHEM
PLASTIC) da a conocer una composición que comprende un polímero
olefínico, tal como un copolímero de etileno, y ésteres insaturados
con un contenido en éster, como mínimo, de aproximadamente 5% en
peso en base al peso de copolímero, y un contenido de negro de
carbón de aproximadamente 25% a aproximadamente 45% en peso en base
al peso de la composición, con propiedades estrictamente definidas,
tales como un tamaño de partícula, como mínimo, de aproximadamente
29 nm, y una fuerza de tinción menor de aproximadamente 100%. Sin
embargo, la aplicación no ofrece ninguna información de cómo se
pueden modificar las propiedades de carga de espacio.
El documento EP 0 644 558 Al (Alcatel Cable)
describe una estructura aislante para cables que comprende, como
mínimo, una primera capa semiconductora que es contigua y coaxial
con el núcleo del cable y está rodeada por una segunda capa
aislante eléctrica que a su vez está recubierta por una tercera
capa semiconductora, caracterizada porque dichas capas
semiconductoras están compuestas exclusivamente por una matriz,
comprendiendo polímeros no polares, cuyos componentes tienen un
peso molecular (masa molar) mayor de 1.000.
El documento CA 2145366 (BICC Cables Corp) da a
conocer composiciones de apantallamiento semiconductor que contiene
un polímero lineal catalizado por catalizador
"single-site", formado por polimerización de
etileno con, como mínimo, un comonómero seleccionado entre
alfa-olefinas C_{3} a C_{20}; un negro de carbón
seleccionado entre negros de carbón de horno que contienen cenizas
y azufre en cantidades de 50 ppm o menores y presentan unas
dimensiones cristalinas L_{a} y L_{c} de 30 A o menores, negros
de carbón de acetileno, y negros de carbón de horno con un grado
ASTM de N-351; y un agente
reticulante. El copolímero de etileno tiene una distribución de
peso molecular estrecha debido al catalizador
"single-site" y, en consecuencia, no es
multimodal.
El documento US 5.246.783 (Exxon Chemical
Patents, Inc.) describe una composición semiconductora que
comprende copolímero de etileno con una densidad de 0,86 g/cm^{3}
a 0,96 g/cm^{3} y una distribución de peso molecular Mw/Mn de 1,5
a 30. Sin embargo, dicha memoria no utiliza un copolímero de
etileno multimodal.
Se conoce el hecho de que los polímeros
preparados mediante un catalizador
"single-site" presentan una distribución de
peso molecular (MWD) estrecha, lo que es perjudicial para los
procedimientos de extrusión conocidos. Para una buena capacidad de
extrusión, sin embargo, se requiere una distribución de peso
molecular ancha.
En consecuencia, el problema que se debe
resolver consiste en dar a conocer una composición polimérica
semiconductora con un comportamiento de carga de espacio mejorado y
una buena capacidad de proceso, lo que comporta una larga vida útil
de los cables.
Según la presente invención, se da a conocer una
composición polimérica semiconductora que comprende un homopolímero
o copolímero de etileno multimodal no polar preparado en un
procedimiento de polimerización que comprende un catalizador
"single-site"; hasta 10% en peso de copolímero
polar; y negro de carbón;
en la que dicha composición polimérica tiene una
densidad de 870 a 930 kg/m^{3}, una MFR_{2} de 1 a 30 g/10 min
y una Mw/Mn menor o igual a 10,
lo que conduce a una composición polimérica con
excelentes propiedades, particularmente buenas propiedades de carga
de espacio y una buena capacidad de proceso.
La densidad y la velocidad de flujo de masa
fundida (MFR) se ven afectadas principalmente por el tipo de
polímero, pero también por aditivos adicionales. En consecuencia,
los intervalos indicados de densidad, MFR_{2} y de la relación
Mw/Mn se entienden, según la presente invención, como valores de la
composición polimérica semiconductora medidos sin aditivos,
particularmente sin los aditivos de negro de carbón.
La composición polimérica semiconductora según
la presente invención combina los beneficios de las propiedades
alcanzadas mediante el catalizador
"single-site" utilizado en un procedimiento de
polimerización y manteniendo los intervalos mencionados
anteriormente de densidad, MFR_{2} y de la relación Mw/Mn.
La composición se puede obtener por mezclado o
mediante un procedimiento in situ, tal como se describe a
continuación. Sin embargo, resulta preferente que la composición se
obtenga mediante un procedimiento in situ, y más
preferentemente mediante un procedimiento in situ como el
descrito a continuación.
Para obtener un polímero con una distribución de
peso molecular ancha, es decir, un homopolímero o copolímero de
etileno multimodal, se requiere un procedimiento de polimerización
que utilice catalizadores "single-site".
La expresión "modalidad de un polímero" se
refiere a la forma de su curva de distribución de peso molecular
(MWD), es decir, al aspecto del gráfico de la fracción de peso del
polímero en función de su peso molecular. Si los polímeros se
preparan en un procedimiento de etapas secuenciales, por ejemplo
utilizando reactores acoplados en serie y utilizando diferentes
condiciones en cada reactor, cada una de las diferentes fracciones
poliméricas producidas en los distintos reactores tendrá su propia
distribución de peso molecular, que pueden diferir
considerablemente entre sí. La curva de distribución de peso
molecular del polímero final resultante se puede considerar una
superposición de las curvas de distribución de peso molecular de
las fracciones poliméricas, la cual, en consecuencia, tendrá dos o
más máximos distintos o, como mínimo, se habrá ensanchado de forma
evidente en comparación con las curvas para las fracciones
individuales. Un polímero que exhibe una curva de distribución de
peso molecular de este tipo se designa bimodal o multimodal,
respectivamente. Los polímeros bimodales y multimodales se pueden
preparar mediante diversos procedimientos, por ejemplo, los
descritos en el documento WO 92/12182.
Sin embargo, alternativamente, el polímero
bimodal o multimodal se puede preparar mediante polimerización en
un único reactor con ayuda de un catalizador de coordinación
"dual-site" o una mezcla de diferentes
catalizadores de coordinación. El catalizador
"dual-site" puede comprender dos o más especies
"single-site", cada una de las cuales da lugar
a una distribución de peso molecular estrecha y a una distribución
de comonómeros estrecha.
La composición polimérica semiconductora según
la presente invención exhibe, en comparación con los materiales
unimodales, una mejor capacidad de proceso en términos de una menor
presión durante la extrusión y un periodo más largo para la
formación de quemaduras, tal como se demuestra en el ensayo de
Brabender (procedimiento de ensayo descrito a continuación).
El homopolímero o copolímero de etileno
multimodal se prepara preferentemente en un procedimiento
multietapa en una secuencia de reacción multietapa, tal como se
describe en el documento WO 92/12182 (procedimiento Borstar).
En este procedimiento, en una primera etapa, el
etileno se polimeriza en un reactor de bucle en fase líquida de un
medio hidrocarburo inerte de bajo punto de ebullición. A
continuación, tras la polimerización, la mezcla de reacción se
descarga del reactor de bucle y, como mínimo, una parte sustancial
del hidrocarburo inerte se separa del polímero.
\newpage
A continuación, el polímero se transfiere a una
segunda etapa o etapa posterior, a uno o más reactores de fase
gaseosa, donde prosigue la polimerización en presencia de un
etileno gaseoso. El polímero multimodal preparado según este
procedimiento presenta una mayor homogeneidad con respecto a la
distribución de las diferentes fracciones poliméricas que no se
puede obtener, por ejemplo, mediante una mezcla de polímeros.
El catalizador, tal como se ha indicado
anteriormente para la producción del polímero para la composición
polimérica semiconductora, comprende un catalizador
"single-site" tal como, por ejemplo, un
catalizador metaloceno. Los catalizadores
"single-site" preferentes se describen en los
documentos EP 688794, EP 949274, WO 95/12622 y WO 00/34341. Los
contenidos de dichos documentos se incluyen en el presente
documento como referencia. Sin embargo, el catalizador
"single-site" no se limita al catalizador tal
como se ha descrito anteriormente.
La ventaja de utilizar un catalizador
"single-site" en un procedimiento multimodal,
tal como se ha descrito anteriormente, consiste en obtener un
polímero semiconductor de peróxido reticulable, lo que hace posible
obtener un grado suficiente de reticulación del producto final sin
la formación de "quemaduras" durante la extrusión. Al procesar
este tipo de composiciones poliméricas por extrusión, es importante
que la reticulación no tenga lugar hasta que la mezcla haya
abandonado la extrusionadora, ya que una reticulación o una
quemadura prematuras hacen imposible mantener una capacidad de
producción uniforme y, además, la calidad del producto resultante
es insatisfactoria. La reticulación o el precurado dentro de la
extrusionadora provocan la gelificación y la adherencia del gel
polimérico a las superficies del equipo, con el consiguiente riesgo
de obstrucción. En consecuencia, la extrusionadora debe ser lavada
a efectos de eliminar el gel polimérico adherido, y para cada
operación de lavado el equipo se debe desconectar, lo que provoca
pérdidas en la producción.
Además, los grumos de gel que no obstruyen el
equipo de producción pueden terminar incorporados en el producto en
forma de aglomerados no deseados. Estos efectos pueden tener un
impacto muy negativo en el rendimiento eléctrico del cable.
Es bien conocido que la utilización de un
catalizador "single-site" proporciona una
distribución uniforme de comonómero en la cadena polimérica. Sin
embargo, el catalizador "single-site" en un
procedimiento multimodal comprende adicionalmente la ventaja de una
distribución de peso molecular más ancha, lo que permite una mejor
capacidad de extrusión.
A efectos de minimizar el riesgo de formación de
quemaduras debido a la descomposición del peróxido, resulta
preferente que la composición según la presente invención se pueda
extruir a una temperatura menor de 120ºC, más preferentemente menor
de 110ºC, y de la forma más preferente menor de 100ºC.
El peso molecular del homopolímero o copolímero
de etileno multimodal se puede caracterizar mediante su velocidad
de flujo de masa fundida (MFR), según ISO 1133 a 190ºC. La velocidad
de flujo de masa fundida depende principalmente del peso molecular
promedio. Esto es debido a que las moléculas largas confieren al
material una menor tendencia al flujo que las moléculas cortas.
Un aumento en el peso molecular significa una
disminución en el valor de MFR. Es necesario que la MFR_{2} de la
composición polimérica esté comprendida dentro del intervalo de 1 a
30 g/10 min, preferentemente de 2 a 25 g/10 min, y de la forma más
preferente de 3 a 20 g/10 min.
Como característica adicional, se debe tener en
cuenta la distribución de peso molecular (MWD), que es la relación
entre el número de moléculas en un polímero y el peso molecular de
las moléculas individuales. La anchura de la distribución,
expresada como un número que se define como la relación (Mw/Mn)
entre el "peso molecular promedio en peso" M_{w} dividido
por el "peso molecular promedio en número" M_{n} debe ser
menor o igual a 10, preferentemente menor o igual a 8, más
preferentemente menor o igual a 7, y de la forma más preferente
menor o igual a 6. Sin embargo, resulta adicionalmente preferente
que la composición tenga una relación Mw/Mn mayor o igual a 2,0,
más preferentemente 2,5, aún más preferentemente 3,0, y de la forma
más preferente 3,5.
Resulta particularmente preferente que la
relación Mw/Mn esté dentro del intervalo de 2,5 a 10, más
preferentemente de 3 a 8, y de la forma más preferente de 3,5 a
6.
Para la determinación de la relación Mw/Mn, se
puede utilizar cromatografía de exclusión por tamaños (SEC) o
cromatografía de permeación en gel (GPC), que es básicamente un
procedimiento para la separación de moléculas según su tamaño, o de
forma más precisa, según el radio hidrodinámico de las moléculas
presentes en la solución. El método particular utilizado se indica
en la sección de ejemplos.
Como requisito adicional, la densidad de la
composición polimérica debe estar comprendida dentro de un
intervalo determinado. La densidad afecta a las propiedades de la
composición polimérica semiconductora, tales como resistencia
mecánica y características de encogimiento. Adicionalmente, la
dispersión óptima de posibles aditivos depende de la selección
adecuada de la densidad. Por este motivo, debe establecerse un
equilibrio entre estas propiedades. Para la composición polimérica,
según la presente invención, la densidad debe estar comprendida
entre 870 y 930 kg/m^{3}, o preferentemente entre 880 y 915
kg/m^{3}, más preferentemente entre 885 y 915 kg/m^{3}.
\newpage
Preferentemente, no sólo la composición
polimérica semiconductora cumple los requisitos mencionados
anteriormente de MFR_{2}, relación Mw/Mn y densidad, sino también
el homopolímero o copolímero de etileno multimodal preparado en un
procedimiento de polimerización que comprende un catalizador
"single-side".
El homopolímero o copolímero de etileno
multimodal es no polar, ya que ello conduce a un comportamiento de
carga de espacio adicionalmente mejorado, tal como se muestra, por
ejemplo, en los ejemplos C frente a B. Un homopolímero o copolímero
no polar según la presente invención es un polímero que no presenta
ningún momento dipolar eléctrico permanente originado por los
monómeros. En consecuencia, resulta preferente que el polímero no
comprenda grupos polares, más preferente que consista únicamente en
C y H, y aún más preferente que el polímero sea un polímero
saturado que consiste únicamente en C y H.
El homopolímero o copolímero de etileno
multimodal comprende preferentemente una fracción de homopolímero o
copolímero de etileno de peso molecular bajo (LMW) y una fracción
de homopolímero o copolímero de etileno de peso molecular alto
(HMW). Así, la fracción LMW tiene un peso molecular menor que la
fracción HMW.
Dependiendo de si el homopolímero o copolímero
de etileno multimodal es bimodal o presenta una modalidad mayor, la
fracción LMW y/o HMW pueden comprender una sola fracción en cada
caso, o dos o más subfracciones.
La expresión "homopolímero de etileno", tal
como se utiliza en el presente documento, se refiere a un
polietileno que consiste sustancialmente, es decir, en como mínimo,
97% en peso, preferentemente como mínimo 99% en peso, más
preferentemente como mínimo 99,5% en peso, y de la forma más
preferente como mínimo 99,8% en peso de etileno.
Preferentemente, el homopolímero o copolímero de
etileno multimodal es un polímero bimodal, más preferentemente el
homopolímero o copolímero de etileno multimodal es un polímero
bimodal que consiste en una fracción LMW y una fracción HMW.
Resulta más preferente que el copolímero
comprenda, como mínimo, una alfa-olefina
C_{3}-C_{8} como comonómero, preferentemente,
como mínimo, un comonómero se selecciona entre el grupo que consiste
en propileno, 1-buteno,
4-metil-1-penteno,
1-hexeno y
1-octeno. Preferentemente, la cantidad de
comonómeros en el polímero de etileno es de 0,02 a 5,0% en moles,
más preferentemente de 0,05 a 2,0% en moles.
Además, resulta preferente que el homopolímero o
copolimero de etileno multimodal sea producido según el
procedimiento descrito a continuación. Preferentemente, la fracción
LMW se prepara en un reactor de bucle y la fracción HMW en un
reactor de fase gaseosa.
Una desventaja de los materiales semiconductores
basados en polímeros no polares en lugar de EBA, EVA y otros
polímeros polares consiste en una adherencia reducida entre la capa
semiconductora interior y el conductor metálico, lo que provoca una
retracción mayor y posiblemente, por lo tanto, problemas durante la
instalación del cable. Por este motivo, la composición polimérica
comprende adicionalmente una cantidad pequeña de negro de carbón y
un copolimero polar, y opcionalmente también otros aditivos. Un
copolímero polar es un compuesto que contiene un enlace covalente
polar con un momento dipolar eléctrico permanente. En consecuencia,
resulta preferente que el copolímero comprenda adicionalmente
elementos distintos de C y H, aún más preferente que el copolímero
comprenda, como mínimo, un elemento seleccionado entre el grupo que
consiste en 0, S, P, Si y N. Aún más preferentemente, el polímero
comprende, como mínimo, un elemento tal como se ha definido
anteriormente y/o, como mínimo, un enlace no saturado. Sin embargo,
la adición de copolímeros polares a la composición tendrá un
impacto negativo en el comportamiento de carga de espacio exhibido
debido al mayor factor de incremento de campo (FEF), tal como se
describe en la descripción de los métodos de ensayo utilizados. En
consecuencia, el copolímero polar está presente en la composición
total hasta en un 10% en peso, preferentemente hasta 8% en peso,
más preferentemente hasta 6% en peso y en la forma más preferente
hasta 5% en peso (correspondiente a 0,7% en peso de comonómero
polar en la composición semiconductora del ejemplo F - tabla I).
La pequeña cantidad de copolímeros polares en la
composición polimérica semiconductora tiene un efecto menor en las
cargas de espacio, pero tiene un efecto adicional elevado con
respecto a una mejor adherencia y capacidad de proceso.
Resulta más preferente que el componente polar
sea un copolímero de alta presión. Resulta más preferente que el
copolimero de alta presión contenga no más de 30% en peso, más
preferentemente no más de 25% en peso, y de la forma más preferente
no más de 20% en peso, de comonómeros polares. Además, resulta
preferente que el copolímero de alta presión contenga de 5 a 30% en
peso, más preferentemente de 10 a 25% en peso, y de la forma más
preferente de 10 a 20% en peso, de comonómero polar.
El polímero de alta presión según la presente
invención se prepara por polimerización por radicales a presiones
mayores de 1.500 bar.
Preferentemente, el polímero de alta presión se
selecciona entre el grupo que consiste en copolímero de
etileno-butilo-acrilato, copolímero
de etileno-etilo-acrilato,
copolímero de
etileno-metilo-acrilato, copolímero
de etileno-vinilo-acetato o,
alternativamente, un copolímero de
etileno-vinilsilano.
Entre los copolimeros de vinilsilano, resulta
preferente el VISICO^{TM} (copolímero de vinilsilano), que es un
copolímero preparado mediante el procedimiento tubular de alta
presión, tal como el procedimiento según el documento WO 90/07542.
Dicho documento se incluye en el presente documento como
referencia. Básicamente, se trata de un esqueleto de polietileno
con ramificaciones de silano distribuidas aleatoriamente. Un
copolimero preferente de vinilsilano tiene una densidad de 923
kg/m^{3} y una MFR_{2} de 0,9 g/10 min. Cuando el copolímero de
etileno-vinilsilano de alta presión se
utiliza como copolímero polar aditivo, dicho polímero se selecciona
preferentemente entre el grupo que consiste en copolímero de
etileno-vinilsilano al 1 a 3% en peso, más
preferentemente copolímero de etileno-vinilsilano al
2% en peso, es decir, un copolímero que contiene 98% en peso de
etileno y 2% en peso de vinilsilano.
Resulta más preferente que la composición
polimérica semiconductora comprenda aditivos conductores.
La dispersión de aditivos conductores, tal como
negro de carbón, en el componente es un requisito crítico. Una
dispersión pobre del negro de carbón, o la presencia de partículas
extrañas, pueden tener un impacto negativo en las propiedades
eléctricas. En consecuencia, es crítico que se alcance una
dispersión adecuada de aditivos conductores, preferentemente de
negro de carbón limpio, durante la composición, a efectos de
asegurar un buen rendimiento eléctrico.
En consecuencia, resulta preferente utilizar
negros de carbón que contienen ceniza en una cantidad de 100 ppm o
menor, y azufre en una cantidad de 100 ppm o menor. Más
preferentemente, se utiliza negro de carbón de acetileno, ya que
proporciona no sólo una mejor suavidad superficial, sino también
unas mejores propiedades de carga de espacio en comparación con el
negro de horno.
La selección de la cantidad de negro de carbón
es importante, ya que las propiedades de carga de espacio y la
capacidad de proceso mejoran a medida que decrece el contenido en
negro de carbón. Sin embargo, los requisitos de conductividad
eléctrica imponen un límite. En consecuencia, la cantidad de negro
de carbón es preferentemente menor o igual a 40% en peso del
polímero total, más preferentemente menor o igual a 35% en peso del
polímero total, y de la forma más preferente menor o igual a 30% en
peso del polímero total. Más preferentemente, la cantidad de negro
de carbón está comprendida entre 10 y 35% en peso, aún más
preferentemente entre 15 y 35% en peso.
Además, resulta preferente que la composición
esté reticulada, como mínimo parcialmente. Preferentemente, un
agente de reticulación está presente durante la extrusión.
Son generalmente adecuados los agentes
reticulantes tales como los peróxidos orgánicos. Los peróxidos
particularmente preferentes incluyen
bis-(tert-butilperoxi-isopropil)-benzeno,
dicumil-peróxido y
2,5-dimetil-2,5-di(tert-butilperoxi)-hexano.
Se pueden utilizar diversos otros coagentes
conocidos. Se pueden utilizar mezclas de antioxidantes, retardantes
de quemadura y adyuvantes del procesamiento utilizados
convencionalmente en materiales de cable a efectos de preparar la
composición polimérica semiconductora final. La misma puede incluir,
como antioxidantes preferentes,
1,2-dihidro-2,2,4-trimetilquinolina
u
octadecil-3,5-di-tert-butil-4-hidroxi-hidrocinamato
polimerizados, preferentemente en cantidades de 0,1 a 2,5% en
peso, más preferentemente de 0,4 a 0,8% en peso. Otros antioxidantes
convencionales adecuados incluyen fenoles estéricamente impedidos,
fosfatos y aminas seleccionadas.
Aunque los adyuvantes del procesamiento no son
necesarios para alcanzar una composición polimérica semiconductora
homogénea, se pueden incorporar retardantes de quemadura,
polisiloxanos, polietilenglicoles (peso molecular de 10.000 a
30.000) y posiblemente otros aditivos (preferentemente libres de
especies iónicas), a la composición polimérica semiconductora a
efectos de mejorar adicionalmente las propiedades. Los adyuvantes
del procesamiento, si están presentes, se utilizan preferentemente
en cantidades comprendidas entre 0,2 y 4,0% en peso en base al peso
total de la composición polimérica semiconductora.
La presente invención también comprende el
procedimiento para preparar la composición semiconductora,
particularmente el procedimiento para preparar el homopolímero o
copolímero de etileno multimodal en la composición polimérica
semiconductora.
El homopolímero o copolímero de etileno
multimodal se puede preparar por mezclado, pero resulta preferente
que el homopolimero o copolímero de etileno multimodal se prepare
en un procedimiento multietapa, tal como los dados a conocer en los
documentos EP-B-O 517 868 y
WO-A-96/18662.
Preferentemente, una primera fracción, más
preferentemente una fracción copolimérica de peso molecular bajo,
se prepara en una etapa de un procedimiento de polimerización
multietapa, y una segunda fracción, preferentemente una fracción
copolimérica de peso molecular alto, se prepara preferentemente en
otra etapa del procedimiento. Resulta preferente que la segunda
fracción, más preferentemente la fracción de peso molecular alto,
se prepare en presencia de un catalizador
"single-site". Más preferentemente, la primera
fracción, aún más preferentemente la fracción copolimérica de peso
molecular bajo, se prepara en un reactor de bucle de operación
continua, en el que el etileno se polimeriza en presencia de un
catalizador de polimerización, tal como se ha indicado
anteriormente, y un agente de transferencia de cadena, tal como
hidrógeno. El disolvente es un hidrocarburo alifático inerte,
preferentemente isobutano o propano. El comonómero o comonómeros de
alfa-olefina C_{3}-C_{8} se
añaden preferentemente a efectos de controlar la densidad de la
fracción polimérica de peso molecular bajo.
\global\parskip0.900000\baselineskip
Preferentemente, la concentración de hidrógeno
se selecciona de tal modo que la fracción copolimérica de peso
molecular bajo tenga la velocidad de flujo de masa fundida deseada.
Más preferentemente, la relación molar entre hidrógeno y etileno
está comprendida entre 0,1 y 1,0 mol/mol, y de la forma más
preferente entre 0,2 y 0,8 mol/mol.
En caso de que la densidad objetivo de la
fracción copolimérica de peso molecular bajo sea superior a 955
kg/m^{3}, resulta ventajoso hacer funcionar el reactor de bucle
utilizando disolvente propano en las así designadas condiciones
supercríticas, en las que la temperatura de funcionamiento es
superior a la temperatura crítica de la mezcla de reacción y la
presión de funcionamiento es superior a la presión crítica de la
mezcla de reacción. Un intervalo preferente de temperatura está
comprendido entre 90 y 110ºC, y el intervalo de presión está
comprendido entre 50 y 80 bar.
La suspensión se extrae intermitente o
continuamente del reactor de bucle y se transfiere a una unidad de
separación, donde hidrocarburos, incluyendo un comonómero o
comonómeros de alfa-olefina
C_{3}-C_{8}, y particularmente el agente de
transferencia de cadena, se separan del polímero. El polímero que
contiene el catalizador activo se introduce en el reactor de fase
gaseosa, donde la polimerización tiene lugar en presencia de silano
adicional y/o un comonómero o comonómeros de
alfa-olefina C_{3}-C_{8}
funcional, y opcionalmente agente de transferencia de cadena, a
efectos de obtener la fracción copolimérica de peso molecular alto.
El polímero se extrae intermitente o continuamente del reactor de
fase gaseosa y los hidrocarburos restantes se separan del polímero.
Dicho polímero se recoge del reactor de fase gaseosa y es, como
mínimo, un homopolímero o copolímero de etileno bimodal.
Las condiciones en el reactor de fase gaseosa se
seleccionan de tal modo que el homopolímero o copolímero de etileno
tiene las propiedades deseadas. Preferentemente, la temperatura en
el reactor está comprendida entre 70 y 110ºC, y la presión está
comprendida entre 10 y 40 bar. La relación molar entre hidrógeno y
etileno varía preferentemente de 0,0001 a 0,02 mol/mol, más
preferentemente de 0,001 a 0,1 mol/mol, y la relación molar entre
comonómero de alfa-olefina y etileno varía
preferentemente de 0,03 a 0,7 mol/mol, más preferentemente de 0,04
a 0,6 mol/mol, y de la forma más preferente de 0,05 a 0,5
mol/mol.
Tras la polimerización, resulta además
preferente que el homopolímero o copolímero de etileno multimodal
se mezclen con los aditivos conductores, tal como el negro de
carbón, y preferentemente polímeros polares de alta presión en las
cantidades especificadas anteriormente.
Al preparar dicha composición polimérica
semiconductora, los ingredientes de la misma, tales como un
homopolímero o copolímero de etileno multimodal, negro de carbón,
polímeros de alta presión y opcionalmente aditivos, se deben
mezclar íntimamente a efectos de obtener una composición lo más
homogénea posible.
La invención comprende también la utilización de
una composición polimérica semiconductora tal como la descrita
anteriormente como capas semiconductoras de cables eléctricos para
CA o CC. La invención comprende también cables eléctricos para CA o
CC aislados que comprenden un conductor, una capa aislante y capas
semiconductoras que comprenden la composición polimérica
semiconductora según la presente invención, preferentemente
consistentes en la composición polimérica semiconductora según la
presente invención. De forma aún más preferente, los cables
eléctricos para CA o CC aislados comprenden un conductor, una capa
semiconductora interior, una capa aislante y una capa
semiconductora exterior, comprendiendo, como mínimo, una de las dos
capas semiconductoras, una composición polimérica semiconductora
tal como la descrita anteriormente. Además, resulta preferente que
la capa aislante de los cables eléctricos para CA o CC comprendan,
y preferentemente sean, un polímero de etileno multimodal preparado
en un procedimiento de polimerización multietapa que comprende un
catalizador "single-site".
A continuación, la presente invención se
describe adicionalmente mediante ejemplos.
\vskip1.000000\baselineskip
\global\parskip1.000000\baselineskip
La resistividad de volumen de los materiales
semiconductores se mide en cables de polietileno reticulados según
ISO 3915 (1981). La construcción de los cables es: 50 mm^{2} de
conductor de Al trenzado y aislamiento de 5,5 mm de grosor. Las
capas semiconductoras interior y exterior tienen un grosor de 0,9 y
0,8 mm, respectivamente. La línea de cable es un sistema 1+2, es
decir, un cabezal de extrusión para el semicon interior
("semicon" se utiliza como abreviación para una capa
semiconductora en un cable), y otro para el semicon de aislamiento
+ exterior. Se acondicionan muestras con una longitud de 13,5 cm a
1 atm y 60 \pm 2ºC durante 5 \pm 0,5 horas antes de la
medición. La resistencia del semicon exterior se mide utilizando un
sistema de cuatro terminales utilizando cables metálicos comprimidos
contra la capa semiconductora. Para medir la resistencia del
semicon interior, es necesario cortar el cable en dos mitades y
extraer el conductor metálico. A continuación, la resistencia entre
la pasta de plata conductora dispuesta en los extremos de la
muestra se utiliza para determinar la resistividad de volumen del
semicon interior.
\vskip1.000000\baselineskip
Las mediciones de carga de espacio se llevaron a
cabo principalmente con placas moldeadas a presión con electrodos
semiconductores en ambos lados. La pieza aislante tenía un grosor
de 2 mm y un diámetro de 210 mm. Las correspondientes dimensiones
para los electrodos semiconductores fueron de 1 mm y 50 mm. Las
placas se obtuvieron en un procedimiento de dos etapas. En primer
lugar, el aislamiento se moldeó a presión a partir de una cinta
extruida a 130ºC durante 10 min. A continuación, los electrodos
semiconductores (precomprimidos) se comprimieron en contra del
aislamiento en una segunda operación llevada a cabo a 180ºC durante
15 min a efectos de asegurar la reticulación (si está presente
peróxido). El enfriamiento a temperatura ambiente se llevó a cabo
bajo presión con una velocidad de enfriamiento de aproximadamente
20ºC/min. Se han utilizado películas Mylar® como material de
refuerzo durante el moldeo. Los datos indicados en el presente
documento se refieren a muestras no desgasadas (véase figura 1).
Adicionalmente, cables eléctricos con la misma
construcción que para las mediciones de resistividad de volumen se
han utilizado también como muestras para mediciones de carga de
espacio.
Los perfiles de carga de espacio tras la
aplicación de voltaje CC se determinaron mediante un sistema
electroacústico de pulsos (PEA). Se utilizaron pulsos de +2,5 kV
(+3,5 kV para cables) 50 ns de longitud a efectos de excitar ondas
de presión que se detectaron mediante una película de PVDF
piezoeléctrica de 52 mm de grosor en el semicon exterior. Las
señales se registraron a una velocidad de 0,25 Gmuestras/s y se
promediaron 256 veces en un osciloscopio digital. A continuación,
se calculó la distribución de carga, es decir, la densidad de carga
de espacio frente a distancia. El parámetro conocido como factor de
incremento de campo (FEF) se utiliza en el presente documento para
describir el efecto de la carga de espacio sobre la distribución de
campo eléctrico. El FEF es igual a la relación entre la intensidad
de campo eléctrico real en el electrodo de tierra y la intensidad
de campo en la misma posición asumiendo la ausencia de cargas de
espacio. Por ejemplo, si el FEF es 1,52, el campo eléctrico en el
electrodo de tierra ha aumentado en un 52% debido a la presencia de
carga de espacio dentro del aislamiento.
El procedimiento habitual para los ensayos de
placa consiste en someter la muestra a un voltaje CC de alta
tensión de +40 kV durante tres horas a 50ºC,
llevar a cabo una medición, desconectar a continuación la fuente de
+40 kV, cortocircuitar la muestra y a continuación llevar a cabo
una medición adicional. La primera medición se designa ensayo con
voltaje ("voltaje-on"), y el segundo ensayo es
un ensayo sin voltaje ("voltaje-off"). En el
presente documento se incluyen principalmente perfiles de voltaje
on. Para los cables, los parámetros son diferentes: el voltaje
aplicado de los cables de 5,5 mm es de 100 kV CC.
La figura 2 muestra un ejemplo de un perfil de
voltaje on en el que los datos de voltaje de señal se han
recalculado a efectos de obtener el factor de incremento de campo
en el cátodo. El pico negativo agudo de la izquierda
(a 0 mm) representa la carga negativa en el cátodo, es decir, el semicon exterior, mientras que el pico positivo a
5,0 mm representa las cargas sobre el ánodo, es decir, el semicon interior. Estos picos están presentes incluso si no existe una carga de espacio dentro del aislamiento. Las cargas entre estos dos picos son las cargas en el interior del aislamiento, las cargas de espacio. Un perfil horizontal plano entre los picos de electrodo indica la ausencia de cargas de espacio, pero en este caso se observan cargas positivas cerca del semicon exterior, a la izquierda. Estas son las cargas que provocan el incremento de campo. En consecuencia, el objetivo es una línea horizontal plana entre los picos de electrodo, que indica la ausencia de cargas de espacio. En este caso, el FEF es cercano a 1,00.
(a 0 mm) representa la carga negativa en el cátodo, es decir, el semicon exterior, mientras que el pico positivo a
5,0 mm representa las cargas sobre el ánodo, es decir, el semicon interior. Estos picos están presentes incluso si no existe una carga de espacio dentro del aislamiento. Las cargas entre estos dos picos son las cargas en el interior del aislamiento, las cargas de espacio. Un perfil horizontal plano entre los picos de electrodo indica la ausencia de cargas de espacio, pero en este caso se observan cargas positivas cerca del semicon exterior, a la izquierda. Estas son las cargas que provocan el incremento de campo. En consecuencia, el objetivo es una línea horizontal plana entre los picos de electrodo, que indica la ausencia de cargas de espacio. En este caso, el FEF es cercano a 1,00.
\vskip1.000000\baselineskip
La resistencia a la quemadura (prerreticulación)
a la temperatura normal de extrusión del cable se determina
utilizando un amasador Brabender. Dicho amasador se calienta a
125ºC y se obtiene un gráfico del par de torsión del amasador en
función del tiempo. Al principio, el par de torsión decrecerá
debido a la fusión del material, pero a continuación aumentará
debido a la reticulación. El tiempo de residencia es el tiempo
desde el valor mínimo hasta el instante en el que el par de torsión
se ha incrementado en 1 Nm en comparación con el valor mínimo.
Presión del semicon interior durante la extrusión del cable La
presión de la composición semiconductora fundida antes de la criba
de barras en la extrusionadora durante la preparación de cables con
la construcción descrita anteriormente en relación con la
resistividad de volumen.
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Las propiedades de retracción de los cables
(misma construcción que los utilizados para las mediciones de
resistividad de volumen) se miden según AEIC
CS5-94, especificando la ciclación térmica de la
muestra de cable entre la temperatura ambiente y 50ºC (2 horas a
cada temperatura). El valor obtenido es el encogimiento tras un
solo ciclo.
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\vskip1.000000\baselineskip
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(Tabla pasa a página
siguiente)
Los ejemplos A y B demuestran que se consiguen
propiedades de carga de espacio mejoradas con negro de acetileno en
comparación con negro de horno. Una comparación entre los ejemplos
B y C muestra que la sustitución de la resina de base de EBA polar
por una resina "single-site" no polar mejora
las propiedades de carga de espacio, como pone de manifiesto la
reducción del FEF de 1,23 a 0,93. Introduciendo una segunda resina
"single-site" con otra distribución de peso
molecular (ejemplo D), se mejoran las propiedades de procesamiento,
como pone de manifiesto un aumento del tiempo de residencia
Brabender (medida del comportamiento de quemadura) de 160 a 264
minutos y la reducción de la presión en la extrusionadora. Se
pueden alcanzar propiedades de procesamiento todavía mejores
reduciendo la cantidad de negro de carbón (ejemplo E). Las
propiedades de retracción se mejoran añadiendo 5% de un copolímero
polar (ejemplo F), sin ningún efecto negativo evidente sobre el
comportamiento de carga de espacio. El ejemplo G pone de manifiesto
la posibilidad de utilizar una resina bimodal del procedimiento
Borstar.
Claims (21)
1. Composición polimérica semiconductora que
comprende: un homopolímero o copolímero de etileno multimodal
preparado en un procedimiento de polimerización que comprende un
catalizador "single-site";
hasta 10% en peso de copolímero polar; y negro
de carbón;
en la que dicha composición polimérica tiene una
densidad de 870 a 930 kg/m^{3}, una MFR_{2} de 1 a 30 g/10 min
y una Mw/Mn menor o igual a 10, midiéndose los intervalos indicados
en ausencia de aditivos.
2. Composición polimérica, según la
reivindicación 1, en la que la composición tiene una Mw/Mn mayor o
igual a 2,0.
3. Composición polimérica, según la
reivindicación 1 o la reivindicación 2, en la que el homopolímero o
copolímero de etileno multimodal es un homopolímero o copolímero de
etileno bimodal.
4. Composición polimérica, según cualquiera de
las reivindicaciones anteriores, en la que el copolímero comprende,
como mínimo, una alfa-olefina
C_{3}-C_{8}.
5. Composición polimérica, según la
reivindicación 1, en la que el copolímero polar es un copolímero de
alta presión.
6. Composición polimérica, según la
reivindicación 5, en la que el polímero de alta presión se
selecciona
entre el grupo que consiste en etileno-butilo-acrilato, etileno-etilo-acrilato y etileno-metilo-acrilato, etileno-vinilo-
acrilato.
entre el grupo que consiste en etileno-butilo-acrilato, etileno-etilo-acrilato y etileno-metilo-acrilato, etileno-vinilo-
acrilato.
7. Composición polimérica, según la
reivindicación 5, en la que el copolímero polar contiene de 5 a 30%
en peso de comonómeros polares.
8. Composición polimérica, según la
reivindicación 5, en la que el copolímero es un copolímero de
vinilsilano.
9. Composición polimérica, según la
reivindicación 1, en la que el negro de carbón es negro de
acetileno.
10. Composición polimérica, según la
reivindicación 1 o la reivindicación 9, en la que el negro de
carbón está presente en una cantidad menor o igual a 40% en peso de
la composición total.
11. Composición polimérica, según la
reivindicación 10, en la que el negro de carbón está presente en
una cantidad de 10 a 35% en peso de la composición total.
12. Composición polimérica, según cualquiera de
las reivindicaciones anteriores, en la que la composición está
parcialmente reticulada.
13. Composición polimérica, según cualquiera de
las reivindicaciones anteriores, en la que dicha composición
polimérica es extruible a una temperatura menor de 120ºC.
14. Procedimiento para preparar una composición
polimérica según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 13, en el
que, en una primera etapa de una polimerización multietapa del
homopolímero o copolímero de etileno multimodal, se prepara la
primera fracción, y en una segunda etapa se prepara una segunda
fracción en presencia de un catalizador
"single-site".
15. Procedimiento, según la reivindicación 14,
en el que, en la primera etapa, se utiliza un reactor de bucle, y
en la segunda etapa, un reactor de fase gaseosa.
16. Utilización de una composición polimérica,
según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 13, como capa
semiconductora en cables eléctricos para CC.
17. Utilización de una composición polimérica,
según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 13, como capa
semiconductora en cables eléctricos para CA.
18. Cable eléctrico para CC aislado que
comprende un conductor, una capa interior semiconductora, una capa
aislante y una capa exterior semiconductora, en el que, como
mínimo, una de las dos capas semiconductoras comprende una
composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 13.
19. Cable eléctrico aislado, según la
reivindicación 18, en el que la capa aislante comprende un polímero
de etileno multimodal preparado en un procedimiento que comprende
un catalizador "single-site".
\newpage
20. Cable eléctrico aislado para CA, que
comprende un conductor, una capa interior semiconductora, una capa
aislante y una capa exterior semiconductora, en el que, como
mínimo, una de las dos capas semiconductoras comprende una
composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 13.
21. Cable eléctrico aislado, según la
reivindicación 20, en el que la capa aislante comprende un polímero
de etileno multimodal preparado en un procedimiento que comprende
un catalizador "single-site".
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