JPH02160854A - クロロスルホン化ポリエチレンエラストマー組成物 - Google Patents

クロロスルホン化ポリエチレンエラストマー組成物

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JPH02160854A
JPH02160854A JP31484188A JP31484188A JPH02160854A JP H02160854 A JPH02160854 A JP H02160854A JP 31484188 A JP31484188 A JP 31484188A JP 31484188 A JP31484188 A JP 31484188A JP H02160854 A JPH02160854 A JP H02160854A
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JP
Japan
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polyethylene
weight
chlorosulfonated polyethylene
mold
parts
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JP31484188A
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English (en)
Inventor
Yoshihiro Masuko
芳弘 増子
Masao Koga
優夫 古賀
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Denka Co Ltd
Original Assignee
Denki Kagaku Kogyo KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は加硫成型時の金型離型性及び耐金型汚染性に優
れたクロロスルホン化ポリエチレンエラストマー組成物
に関するものである。
(従来の技術及び問題点) 従来、塩素系エラストマーは加硫成型時に脱塩酸するこ
とが知られており、これが−因となって金型汚染をもた
らし、繰り返し加硫成型を行うと加硫物の金型からの離
型性が損われてくる。こうした傾向は加硫成型温度が高
くなるにしたがって著しくなる。また、クロロスルホン
化ポリエチレンエラストマーは熱可塑的性質を有してい
るため、高温になると加硫物の機械的強度が低下して成
型用金型に密着しやすくなり、金型からの離型はより困
難となる。
金型からの離型性、ロール加工性を改良する手段として
は、配合時に滑剤を添加する方法(たとゴ1 えば、日本βム協会編「特殊合成ゴム10講」87〜8
8頁、昭和45年11月15日)があるが、クロロスル
ホン化ポリエチレンエラストマーに対して比較的少量の
添加で加硫時の金型離型性及び耐金型汚染性に有効なも
のは見当たらない。
(問題点を解決するための手段及び作用)本発明者等は
、この様な従来技術に鑑み種々検討した結果、クロロス
ルホン化エラストマーに特定の構造を有するポリエチレ
ン誘導体を適正量添加することにより、加硫成型時の金
型離型性及び耐金型汚染性が著しく改良されることを見
い出し本発明に到達した。
即ち、本発明はクロロスルホン化ポリエチレンエラスト
マー100重量部に対して、数平均分子量が500〜5
000であり、かつ分子内に水酸基及び/又はカルボキ
シル基を有するポリエチレン誘導体0.5〜30重量部
を含有することを特徴とするクロロスルホン化ポリエチ
レンエラストマー組成物である。
以下に本発明を更に詳細に説明する。
本発明で用いられるクロロスルホン化ポリエチレンエラ
ストマーは、特に限定することなく通常のものを用いる
ことができるが、それ等の中で、例えば線状高密度ポリ
エチレン(HDPE)、線状低密度ポリエチレン(LL
DPE、V L D P E)又は分岐状低密度ポリエ
チレン(LDPE)等の密度0.88 g /cc〜0
.97 g /cc、分子量1万〜80万程度のエチレ
ン単独重合体、もしくはエチレンとエチレンと共重合可
能な単量体くたとえば、プロピレン、ブテン−1,ヘキ
セン−1,オクテン−1,4−メチルペンテン−1等の
α−オレフィン)との共重合体等のポリエチレン系重合
体をクロロスルホン化して得られるものが好ましい。
クロロスルホン化反応は、溶媒にポリエチレン系重合体
を溶解し、ラジカル触媒(たとえば、2゜2′−アゾビ
スイソブチロニトリル)の存在下に塩素及び亜硫酸ガス
及び/又は塩化スルフリルを反応させることにより実施
される。この様にして得られるクロロスルホン化ポリエ
チレンエラストマーは、通常約20〜45重量%の塩素
及び0.2〜2.0重世%の硫黄を含有している。
次に本発明で用いられるクロロスルホン化ポリエチレン
エラストマーの金型離型性及び耐金型汚染性を改良する
ための必須成分であるポリエチレン誘導体とは、数平均
分子量が500〜5000の範囲にあり、かつ分子内に
水酸基及び/又はカルボキシル基を有するものである。
ポリエチレン分子内に水酸基及び/又はカルボキシル基
が存在することによって、既述した特性の改良が図られ
るが、実用的見地からは水酸基とカルボキシル基の含有
量が、基体となるポリエチレンに対しQ、 l mo1
%以上、好ましくは0.5mo1%以上である。また、
特性を損わない範囲で水酸基とカルボキシル基以外の他
の置換基がポリエチレン誘導体内に存在しても差しつか
えない。
また、本発明で用いられるポリエチレン誘導体の数平均
分子量は500〜5000の範囲であり、500未満で
は特性を改良する機能が失なわれ、一方、5000を超
えるとエラストマー配合物中に均一に分散させるために
高温で混練する必要が生じ、加工安全性の面から適さな
い。
本発明におけるポリエチレンff1i体の含有量はクロ
ロスルホン化ポリエチレンエラストマー100重量部に
対して0.5〜30重量部であり、好ましくは0.5〜
15重量部である。0.5ffi量1部未満では、実用
的見地から加硫成型時の金型離型性及び耐金型汚染性が
改良されず、一方、30重置部を超えると加硫物強度の
低下が著しくなり好ましくない。
次に、本発明によるエラストマー組成物を作製する方法
としては、ゴム加工分野で一般に用いられるロール、イ
ンターナルミキサー又は押出機等を用いて配合する方法
がある。この場合、加硫するに必要な加硫剤、加硫促進
剤、充てん剤、軟化剤、加工助剤、老化防止剤等も同時
に混練することができる。また、クロロスルホン化ポリ
エチレンエラストマーの製造工程中、反応終了後ポリマ
ーを分離する前の溶液に本発明によるポリエチレン誘導
体を溶解し、その後ダブルドラムドライヤー又はベント
Iを有する押出機等を用い、脱溶剤又は乾燥する方法等
によっても作製可能である。
本発明によるエラストマー組成物には、加硫するには必
要な加硫剤、加硫促進剤、更には充てん剤、軟化剤、老
化防止剤、加工助剤等を適宜含まセることができる。特
に、本発明によるポリエチレン誘導体と共に、広く知ら
れた加工助剤であるパラフィンワックス、マイクロクリ
スタリンワックス、天然ワックス等のワックス類、各種
脂肪酸、脂肪酸エステル類、脂肪酸アミド類、などを用
いることができる。なお、これらは当然のことながら本
発明による加硫成型時の金型離型性及び耐金型汚染性に
対する効果に影響を与えない範囲で添加する。
加硫剤としては、−収約なりロロスルホン化ポリエチレ
ンの加硫剤であるペンタエリスリトール、有機過酸化物
、N、N’−m−フェニレンジアミン等のマレイミド、
メルカプトトリアジン化合物類など、加硫促進剤として
はジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド、テトラ
メチルチウラムジスルフィド又はジベンゾチアジルジス
ルフィド等を用いることができる。
本発明のエラストマー組成物を加硫する場合、前段階の
各種配合組成物を作製するには、通常のポリマー加工分
野において用いられる任意の方法が適用できる。例えば
、ミキシングロール、バンバリーミキサ−1各種ニーダ
ー又は混練作用を有する押出機等が使用できる。配合組
成物の成形及び加硫の条件には特に制限はないが、金型
による加圧成形、押出成形、射出成形又はカレンダー成
形と同時に、又は成形品を加硫槽内で通常100〜20
0℃で数秒ないし数時間、電熱ヒーターオイルヒーター
、高温水蒸気、熱空気、赤外線又は筒周波等を用いて加
熱することにより加硫物とすることができる。
本発明のエラストマー組成物は、既述した様に、加硫成
型時の金型離型性及び耐金型汚染性に優れた特性を有し
、各種工業用部品等に好適であり、特にブーツ、ベルト
、ホース、ガスケット、パツキン、ロール又は電線被覆
等に用いられる。
(実施例) 以下に、実施例及び比較例によって本発明を具体的に説
明するが、もちろんこれらのみに限定されるものではな
い。
実施例1〜4.比較例1〜5に用いたクロロスルホン化
ポリエチレンは以下のように製造した。
グラスライニング製反応缶に四塩化炭素100重量部、
線状低密度ポリエチレン(密度0.925g/cc、メ
ルトインデックス2.5)7.0重量部を仕込み、窒素
にて2.0 kg/cit (ゲージ)まで加圧後、内
温を100℃とし、攪拌することによりポリエチレンを
溶解させた。この溶液にα、α′アゾビスイソブチロニ
トリル0.3重量部を四塩化炭素100重量部に溶解し
た溶液3.0重量部とピリジン0.0001重量部を添
加後、塩化スルフリル14.5重量部とα、α′−アゾ
ビスイソブチロニl−IJル0.3重量部を四塩化炭素
100重量部に溶解した溶液6重量部を4時間で連続的
に添加することにより反応を進行させた。この反応の際
、温度は100℃、圧力は3.0 kg/cfi(ゲー
ジ)となるように操作した。反応の進行とともに発生す
る塩化水素、亜硫酸ガスは8重量%苛性ソーダ水溶液に
より中和、除害を行なった。分析の結果、この反応溶液
中のポリマーは34.0重量%の塩素と1.09重量%
の硫黄を含有するクロロスルホン化ポリエチレンであっ
た。
反応終了後、2時間で反応缶内圧を3.0kg/cIa
(ゲージ)から400 mHgabsまで直線的に降圧
し、溶存している酸性ガスを除去した。
この際、反応缶のジャケット側の温度はポリマー溶液(
反応缶内温)と温度差のないように制御した。その後安
定剤としてクロロスル゛ホン化ポリエチレン100重量
部あたり1.4重量部の2.2′−ビス(4−グリシジ
ルオキシフヱニル)プロパンを添加した。この反応終了
液のポリマー含量は約10重量%であった。
実施例1〜4・、比較例1〜5 上記のクロロスルホン化反応終了液をそのままダブルド
ラムドライヤーに導入し、溶剤と分離乾燥することによ
り、クロロスルホン化ポリエチレンエラストマーを得た
このクロロスルホン化ポリエチレンエラストマーに、表
1に示す本発明によるポリエチレン誘導体、及び加硫剤
、その他配合剤をロール表面温度60℃のミキシングロ
ールで混練し、配合物を作製して、以下に示す方法で加
硫成型時の金型離型性及び耐金型汚染性、加硫物性を測
定した。結果は表1に示す。
(1)加硫成型時の金型離型性 シート2枚取り金型を用い、温度180℃、射出圧力1
20kgf/cffl、加硫時間120秒の条件で射出
成型を行い、加圧板が開放された時のシートの離脱状態
を次の判定基準により定性的に評価した。
記号:○ 加圧板を開放した時に落下、又は半落下状態
にある。
△ 加圧板を開放した時は金型に密着 しているが、ヘラなどによって容 易にはがれる。
× 加圧板に密着しており、ヘラなど を用いてなんとかはぎ取れる。
(2)耐金型汚染性 上記の(1)と同じ条件で50回繰り返し射出成形を行
い、金型の汚染状態を次に示す判定基準により肉眼で定
性的に評価した。
記号二〇 表面状態変化なし。
△ 表面の一部又は全部に曇りあり。
× 表面の一部又は全部が黒色化。
(3)加硫物物性 160℃、40分の条件でプレス加硫を行って作製した
加硫シートの物性を、JIS K−6301に準拠して
測定した。
実施例1〜3は本発明によるポリエチレン誘導体を特許
請求の範囲内で変量した場合、実施例4はワックスを併
用した場合である。
比較例1は本発明によるポリエチレン誘導体が無添加の
場合、比較例2は汎用ワックスを配合した場合、比較例
3は一般に知られた低分子量ポリエチレン(数平均分子
fil 500、水酸基、カルボキシル基ともに含有し
ない)を配合した場合である。
実施例1〜3と比較例1〜3を対比することにより、本
発明によるエラストマー組成物が加硫成型時の金型離型
性及び耐金型汚染性に優れることは明らかである。特に
、実施例2と比較例3を比較することにより、本発明に
よるポリエチレン誘導体の優位性が明白である。
比較例4.5は特許請求の範囲を逸脱してポリエチレン
誘導体の含有量が過少及び過多な場合である。比較例4
では特性が改良されず、比較例5では機械的強度が著し
く低下している。
(発明の効果) 本発明によれば、加硫成型時の金型離型性及び耐金型汚
染性に優れたクロロスルホン化ポリエチレンエラストマ
ー組成物を従供することができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. クロロスルホン化ポリエチレンエラストマー100重量
    部に対して、数平均分子量が500〜5000であり、
    かつ分子内に水酸基及び/又はカルボキシル基を有する
    ポリエチレン誘導体0.5〜30重量部を含有すること
    を特徴とするクロロスルホン化ポリエチレンエラストマ
    ー組成物。
JP31484188A 1988-12-15 1988-12-15 クロロスルホン化ポリエチレンエラストマー組成物 Pending JPH02160854A (ja)

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