JPS63191581A - 移動シートにマーク付けするための方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光の作用により移動中のシート材にマーク付
けするための方法および装置、特に、長手方向に移動中
の紙などの材料のウェブにマーク付けするための方法お
よび装置に関する。本発明の特徴は、レーザーエネルギ
ーを使って前述の材料にマーク付けするこである。本明
細書における“光”は、レーザーまたはその他の光源に
せよ、可視スペクトル内、外における放射線を含む。ま
た、本明細書における“マーク付け”は、シート上に光
を投射して該シートに変化をつけることを意味する。こ
のような変化は、例えば、熱誘導または光化学誘導式で
あって、可視または不可視のものであってもよい。本発
明は、シートに付されるマークが所定のパターンまたは
デザインによるものである場合に特に有用である。特に
、可視像によって紙にマーク付けする場合について、本
発明を説明する。

従来の技術および 発明が解決しようとする問題点 製紙業界においては、従来より長年にわたって、長網上
のウェブにすき入れを行なっている。該ウェブは、最終
的にスライスされ且つ個々のシートに切断されたとき、
各シートが製紙業者に係るすかしを有するような間隔で
、該ウェブにおける縦、横方向にすかし入れされる。実
際上、従来方法によるすかし入れは、比較的低速で生産
される比較的高価な紙についてのみ経済的なものとなる
ものである。従来のすかし入れは、すかしがその後のコ
ーティングによってぼかされるような紙には、通常、適
用されない。従来のすかし入れは、主に前述したような
経済上の理由により、レターヘッドその他の比較的軽量
の上質紙を除き、ノンカーボン災写紙の生産には適用さ
れていない。しかしなから、包装されて販売される切断
済シートには、通常、他の会社のラベルが付されるため
、前記紙の製造業者は自己製品である旨の表示を希望す
るものである。このようにして、出所表示可能であり、
当該紙の使用に際して目立ち過ぎることのないようなす
かし手段が必要となる。

金属、プラスチック、紙などの材料は、コーティング層
を除去し基礎材料の表面層に作用するレーザー光を使用
してマーク付けまたはすかし入れすることができる。こ
のような作用は、当該材料に応じて、材料の除去もしく
は“焼き”、または、色変化などのその他の熱誘導変化
であってもよい。

この目的のためレーザーを使用した例は、“高速レーザ
ーパルスは生産ラインにおいて移動材料にパターンを刻
むことが可能”という見出しで、“レーザーフォーカス
０誌１９７５年７月号の２８ページから３２ページに記
載されている。この目的に使用される装置は、様々な業
者によって製造されている。市販されているこの種の装
置において、製品にマーク付けされる模様を有するマス
クか該製品上に映写される。該マスクは、透光性のある
ステンシルからなる。マスク全体は、レーザーパルスに
よって照明されて製品上にパルス化された像をつくる。

十分なエネルギーの短パルスを使用することにより、こ
の装置は、高速移動面にはっきりとマーク付けすること
ができる。

このような装置は、紙のすかし入れに使用することがで
きる。原理的に、該装置は、製紙機械、または、ノンカ
ーボン複写紙用のマイクロカプセルをコーティングする
コーティング機械等のその他のウェブ処理機械に使用す
ることができる。このようなウェブは、典型的には幅が
数メートル以下であり、通常、長手方向に切られてリー
ルに巻回された後、予め切断されたシートまたは連続し
た用紙として使用される。このようにして、ウェブを切
ることによって形成される各長尺部分は、長手方向所定
間隔にすかし入れする必要がある。

これは原理的にはビーム分割器を用いたパルス映写シス
テムによって可能であるが、該ビーム分割器はウェブに
おいて必要とされる像密度を得るためレーザー源出力の
増加を要するパルスエネルギーを分割する。ウェブに映
写される全マスクは一回に照明され、移動ウェブ上にお
ける有孔ドエル時間は、像のぶれを防止するため短くす
る必要がある。典型的には、ウェブの移動速度を２０ｍ
／秒までとすることができる。

タバコの紙に孔をあけるためにレーザーエネルギーを使
用する提案がなされている。この場合の目的は、紙に像
付けしないように小孔を形成することである。これらの
提案によると、ウェブの縦、横方向の連続した位置にレ
ーザービームを案内するため、集中装置と組合わせるの
が好ましい光学スイッチング手段が使用されている。こ
れらの提案は、しばしば環状に配設される光学素子列を
使用するものである。これらの例としては、英国特許１
６０３７５２．２０２２４９２．２０２７６２８および
２０３２３２３号明細書に記載されたものがある。光学
スイッチング手段は英、国特許２０７４３４１および欧
州特許００４２１７３号明細書に開示されている。光学
スイッチング手段の代替物は英国特許２１１８８８２号
明細書に開示されており、該明細書によると、タバコ紙
のウェブは円周方向に離隔した孔列を有するドラム上を
通過するようになっ、ており、ドラム内に設けた個々の
レーザーは該孔列に向けられている。

英国特許公開２１６１７５２号明細書は、選択された地
点においてレーザーエネルギーをウェブに加える技術を
開示している。英国特許２１３３３５２号明細書は、ド
ツトマトリックスによって像付けするための電子制御ビ
ーム偏向を用いて移動製品にマーク付けする際レーザー
ビームを使用する方法について記載している。

さらに、紙等の材料にレーザーによる彫刻をすることも
公知である。このようなシステムは英国特許２１２６９
５５号明細書に開示さ°れており、該明細書によると、
彫刻される像および対象物は、集中レーザービームによ
ってラスター走査される。

このシステムは、移動ウェブの複合的マーク付けには適
さない。

連続波（ＣＷ）レーザーを用いて、長手方向に移動する
ウェブの横方向数個所をウェブ長手方向に沿って繰り返
してマーク付けする装置を以下に詳述する。人力ビーム
は、光学素子によって連続的に数個の出力位置にスイッ
チングされ、且つ、レーザービームエネルギーの略連続
的な使用ができるようになっている。より効果をあげる
ため、光学スイッチング素子は各々の出力位置で終端す
るものの共通のレーザービーム入力部を有する複数の光
路を連続的に設定するように作用する。映写像を有する
複数のマスクによってウェブに像付けする点に特に興味
がある。この装置は、マスク全体を映写する場合より少
ない出力のビームで済むマスクを走査するものである。

人力ビームは、マスクを横切って走査されて密度変調さ
れる所定形状に集中される。後述装置にあって、各マス
クの走査は、空間的に固定される長尺形状にビームを集
中し且つマスクを該集中ビーム中に通すことによって行
なわれる。このような集中ビームは、ウェブを横切る各
出力位置で必要とされる。各々のマスクによって遮断さ
れる集中ビームの焦点は、実質的にウェブ表面である面
に位置する。これは、ウェブが回転ドラムの表面上を案
内されることが好ましい接触型システムである。マスク
は前記表面に位置し、その他の光学素子はドラム内に設
けられる。しかしなから、マスク走査用焦点が各々の光
路の中間地点に形成されるとともに各光路において出力
用光学素子によって映写される非接触型システムを使用
するのが好ましい。

ウェブにおいて映写される像は、マスク走査の際マスク
像に従って変調される。該ウェブにおける変調線は空間
的に固定されるため、ウェブ自身が必要となる走査用動
作を行なって像を再生する。

ビームスイツチングおよびビーム集中するための２つの
技術について説明する。第１の技術は、ビームスイツチ
ングおよびビーム集中するために円錐状鏡セグメントを
使用している。これは、実際上、前記セグメントを連続
回転する構造体に取り付けることによって行なわれる。

第２の技術は、ビーム集中のために円錐状鏡セグメント
を使用し、ビームスイツチングのために平坦鏡アセンブ
リーを使用する。この場合、円錐状鏡セグメントは固定
され、平坦鏡アセンブリーは回転体に取り付けられる。

円錐状鏡は、上述したように線状焦点をつくり出す特性
を有する。

第１技術を実施する際、ビームスイツチングおよび集中
は、その回転軸がウェブの横方向に伸びる回転体内に配
設されだ円錐状鏡セグメント組によって行なうのが好ま
しい。各組の円錐状鏡セグメントは環状に設けられ、各
々の組同士はウエブを横切る方向に離隔している。各組
のセグメントは円周方向に離隔し、各々の組同士は、ビ
ームが一度に１つの円錐状鏡セグメント上に衝突し各々
の組の回転に応じて異な９た組の鏡セグメント上に衝突
するように交互に現われるように円周方向に位置ずれし
ている。その他の光学素子を使用することにより゛、ビ
ームは紙上に像付けするために必要とされる位置におい
て線状焦点に合わされる。

円錐軸が回転軸と一致するように円錐状鏡セグメントを
配向することにより、移動中の鏡に衝突する入力ビーム
によって形成される各線状焦点は空間的に固定され、円
錐状鏡各組によって形成される連続した線状焦点は同一
の固定点に存在する。

この場合、線状焦点は、ウェブ移動方向に対する横方向
に固定されるだけではなく、縦方向にも固定される。こ
のような固定により、対応するマスクの走査は、該マス
クを線状ビームに対して動かすことによって行なわれる
。該マスクは、鏡セグメントを支持する構造体によって
支持されるか、あるいは、該構造体と同期して回転する
ようにするのか好ましい。鏡がレーザービームを横切る
際、集中線を横切るように設けられた各鏡セグメント用
マスクを用いてもよい。

第２の技術は、ウェブを横切る各出力位置への光路に１
つの固定円踵状鏡を用いている。これらの固定鏡は、マ
ーク付けされるウェブの各々の長尺部分に対応する位置
に設けられる。各円錐状鏡に隣接する箇所には、円周方
向に位置ずれして設けられ、ビームを円錐状鏡に繰り返
してスイッチする平坦鏡アセンブリー組が設けられてい
る。各々の組の平坦鏡スイッチングアセンブリー同士は
円周方向に変位すなわち、ウェブを横切ってマーク付け
する工程を繰り返すため鏡が交互に現われるように、ウ
ェブを横切るように円周方向に位置ずれしている。

平坦鏡アセンブリーは、直角をなすように設けられた鏡
を対にしたものを使用するのが好ましい。

多対の第１の鏡は、回転が進むにしたがって、対応する
円錐状鏡に対面する位置にくるようになっている。第２
の鏡は、第１の鏡から半径方向に変位しておりビームを
遮断して第１の鏡に反射させる。この装置において、多
対の第２の鏡は、内方円と外方用とに交互に設けてもよ
い。このようにすることにより、入力ビームは、スイッ
チング鏡の回転と同期して回転する入力ビームチョッパ
ーによって、内方円と外方用との間を横方向に変位され
る。

固定円錐状鏡は前述のように線状焦点を形成し、像を有
するマスクは、回転している平坦鏡によって移動されて
前述のように線状焦点によって走査される。変調された
線状焦点はウェブ上に再生される。

問題点を解決するための手段 本発明よると、光路スイッチング手段を介して、光路の
入力部と、シート移動方向に対する横方向に固定された
位置において移動シート上に終端する出力部との間に光
学的接続を繰り返し設定する工程と、 少なくとも前記光学的接続が設定された時に前記光路の
入力部に沿って光ビームを案内して該光ビームが前記固
定位置において移動シートに衝突するようにする工程と
から成り、 前記光ビームが、前記シートに変化を生じさせてシート
移動方向に間隔をおいて該シートにマーク付けする方法
において、 前記光ビームは前記固定位置において所定形状に集中さ
れ、映写像を有するマスクを介して前記光ビームの所定
形状を変調して前記映写像に従って前記移動シートにマ
ーク付けすることを特徴とする移動シートにマーク付け
する方法が提供される。

前記所定形状は、シート移動方向に対する横方向に延び
る直線等の長尺形状である。

本発明の実施例において、マスクと所定ビーム形状との
間の走査が行なわれる。ビームは、前述の位置に先行す
る地点で所定形状に集中され該所定形状は前述の位置で
再生される。マスクとビームとの間の走査動作は、前記
先行地点で行なわれる。

この明細書において、ビーム集中が光路スイッチング手
段および該スイッチング手段と分離した手段によって行
なわれる各々の光学装置について説明する。

特に、本発明による方法は、シート移動方向における少
なくとも１つの第２軸に沿ってシートにマーク付けする
のに使用することができ、この目的のため、好ましくは
、前記光路スイッチング手段を介して、前記入力部と、
シート移動方向に対する横方向に固定され且つ前記第１
固定位置から横方向に位置ずれした第２の固定位置に終
端する光路の第２出力部との間に光学的接続を繰り返し
設定する工程から成り、 前記第１光路に設定される光学的接続は前記第２光路の
ものと時間的に交互に現われ、少なくとも前記第１およ
び第２出力部への光学的接続が設定された時に前記入力
部におけ光ビームの案内が行なわれ、光ビームは第２固
定位置において移動シートに衝突し、 前記第２固定位置において光ビームを所定形状に集中し
、映写像を有するマスクを介して前記所定形状を変調し
て前記第１マークから横方向に位置ずれした軸に沿って
シート移動方向に間隔をおいて該シートにマーク付けす
る。

さらに、本発明により、所定整列状態でレーザービーム
を受けるためのビーム導入点と、映写像を有するマスク
を収容する少なくとも１つのマスク収容手段と、 所定光路を繰り返して移動して該移動毎における異なっ
た時にビームを遮断して該ビームを異なった前記収容手
段にスイッチする構造体に支持された第１、第２光学素
子を有する光学手段とから成り、 前記光学手段は、ビームがスイッチされたマスク収容手
段において受けたレーザービームを集中するようになっ
ており、 前記マスク収容手段および光学手段は、ビーム線とマス
ク収容手段との間の相対的動作を行なってマスクを走査
を行なうことを特徴とする移動シートに像を形成する光
学装置が提供される。

前述の構造体は、回転可能に取り付けられることにより
、各前記素子がアーチ形軌道を描くものであり、駆動手
段に連結されて連続的に回転するようになっていてもよ
い。

前記光学装置の一実施例によると、前記第１、第２素子
は、遮断素子が移動する際遮断されたビームを空間固定
された１本線に集中し、前記マスク収容手段は、前記構
造体に取り付けられて該構造体と同期して回転して各々
の固定線に対して走査を行なう。また、前記第１、第２
素子は、その円錐軸が前記構造体の回転軸と一致する円
錐状鏡セグメントから成る。さらに、前記第１、第２素
子は、ビームに沿って異なった地点において受けたレー
ザービームを遮断して離隔した各々の線状ビーム集中を
行なうようにしてもよい。

また、好ましい装置にあっては、前記第１素子は、その
光路に沿った同一の第１地点で前記構造体の移動時にお
ける異なった時に受けたビームを遮断する第１組の同様
な素子の１つであり、前記第２素子は、その光路に沿っ
た第２地点で、前記第１組の素子のビーム遮断と交互に
現われるように前記構造体の移動時における異なった時
に受けとったビームを遮断する第２組の同様な素子の１
つである。

前述したように、マスク収容手段は前記構造体に取り付
けてもよく、この場合、前記第１ａの素子は各々のビー
ム遮断時に同一の第１地点において各々の線セグメント
を形成し、前記第２組の素子は各々のビーム遮断時に同
一の第２地点において各々の集中線を形成する。特に、
円錐状鏡を用いた場合、第１組の素子は第１円錐のセグ
メントである円錐形面を譬し、第２組の素子は第２円錐
のセグメントである円錐形面を存する。

また、前記第１、第２地点において集中線を第３、第４
空間固定地点の各々に再生する第１、第２固定装置を有
するようにしてもよい。

さらに、前記光学手段は、ビームを１本線に集中するた
めの固定光学素子を少なくとも１つ有するようにしても
よい。この場合、第１、第２光学素子は平坦鏡からなる
。また、前記第１、第２素子はビームに沿った異なった
地点においてビームを遮断し、各々の固定光学素子は、
前記第１、第２素子に対応して第１、第２素子によって
遮断されたビームを受けて１本線に集中する。各固定光
学素子は円錐状鏡セグメントから成る。

特にこの実施例において、前記第１素子は第１地点にお
いて前記構造体の移動時における異なった時にビームを
遮断する第１組の同様な素子の１つであり、第２素子は
、ビーム衝突方向に前記第１地点から変位した第２地点
において、前記第１組の素子のビーム遮断と交互に現わ
れるように前記構造体の移動時における異なった時に受
けとったビームの遮断を行なう。各々の固定光学素子が
第１、第２組の素子と対応する。第１、第２組の各光学
素子は１対の平坦鏡から成る。各１対の平坦鏡は、それ
に衝突するビームの方向を逆転するため、互いに直角に
設けられている。

前述の実施例において、第１組の光学素子は、ビーム衝
突方向と直角方向に第２組の光学素子から変位しており
、前記導入点に案内される入力ビームを受けるため、お
よび、第１、第２組の光学素子の各々によって遮断され
た第１、第２光路に前記ビームをスイッチングするため
、さらにもう１つの光路スイッチング手段を有し、前記
もう１つの光路スイッチング手段は、前記構造体の移動
に同期して動作するようになっている。

さらに、本発明により、所定整列状態レーザービームを
受けるためのビーム導入点と、映写像を有するマスクを
収容する少なくとも１つのマスク収容手段と、所定光路
を繰り返して移動して該移動毎における異なった時にビ
ームを遮断して該ビームを異なった前記収容手段にスイ
ッチする構造体に支持された第１、第２素子を有する光
学手段で構成された光学装置と、 該光学装置のビーム導入点においてレーザービームを発
生するための手段と、 線セグメントによって走査される各マスクの像を付けす
るための所定路に沿ってシートを移動する手段とから成
ることを特徴とする移動シートにマーク付けする装置が
提供される。前記レーザービーム発生手段は、連続波レ
ーザーと、導入点においてレーザービームの整列度をモ
ニターして整列エラーを意味する信号を出力する手段と
、前記導入点へのレーザービーム通路に設けられて前記
エラー信号に従ってレーザービームの整列度を調節する
手段とを有する。さらに、帰還通路において前記レーザ
ーと接続されてレーザー出力をモニターし且つ調節する
手段を有するようにしてもよい。

実施例 以下、図面に示す実施例に基づいて本発明を説明する。

第１図において、紙（１０）のウェブは、ローラー（図
示せず）によって形成される移動路に沿って右から左、
すなわち矢印（Ｂ）で示す方向に、長手方向に移動して
いる。この説明において、ウェブはその後（ｌｏａ）か
ら（１０ｂ　）で示す多数の長尺部分に切られ、各長尺
部分は個々のシートに切断されるものと仮定する。本発
明装置の目的は、各シートに製造業者を示す言葉やロゴ
のすかしまたはマークを入れることである。

ウェブの移動路に沿って設けられているのは、第２図お
よび第３図において詳細を示されており、各切断シート
にすかしが現われるような間隔で前記ウェブの各長尺部
分に沿って一連のすかしを施す光学システム（２０）で
ある。この光学システム（２０）は、入力部すなわちビ
ーム導入点（２２）において、レーザービームを受は入
れる。該レーザービームは、ｌｋｗまたはそれ以上の二
酸化炭素ガスレーザー等の連続波レーザー（３０）によ
って発生される。ビーム（３２）は、一点鎖線で示され
ており、包囲された光路（３４）を通ってビーム導入点
（２２）に案内される。正確な光路は、局部的な条件に
よって左右されるが、ビーム導入点（２２）においてビ
ームを制御するためビーム調整ユニット（ＢＭＵ）（４
０）を存する。ビームは、光路（３４）において、（３
８ａ、３８ｂ、３８ｃ　）で示す平坦ミラーによって案
内される。

ＢＭＵ（４０）は、レーザー（３０）から発生されるビ
ームから、ビーム導入点（２２）において所定サイズお
よび所定発散性を有するビームを形成する機能を有する
望遠鏡であるのが好ましい。前記発生ビームは、レーザ
ーに固有のビームサイズおよび発散性を有するため、Ｂ
ＭＵ（４０）の光学的デザインは、使用されるレーザー
固有のビームについての知識に依存することとなる。Ｂ
ＭＵ（４０）の光学的デザインは、レーザーシステムに
熟練した者によって容易に決められる事項であるため、
これ以上の説明を省略する。

導入点（２２）におけるビームの特徴は、該導入点（２
２）でモニターしたり、または、図示の如く、ＢＭＵ（
４０）から発されるビームの一部分を検出器（４４）に
傍受させる部分ミラー（４２）を介してモニターしたり
してもよい。このような検出器は、レーザー技術におい
て公知であり、これ以上の説明を省略する。

とにかく、ビーム導入点（２２）においてビームの密度
と同時に整列度をモニターするのが好ましいということ
がわかる。ビームの密度をモニターすることは、ウェブ
材料に過度の損傷を与えることなく視覚的に許容可能な
すかしを入れるのに十分なウェブ表面における密度を得
るために重要である。この目的のため、ビームの一部分
を傍受して該ビームの整列度および密度を検知するため
のモニター装置（４６）が、導入点（２２）に、または
は導入点（２２）に隣接して設けられてもよい。整列度
測定値は、（３１１ｂ　）で示すものような１つの早期
ビーム反射鏡のための制御信号を発生するのに使用する
ことができる。前記反射鏡は、符号（４８）で示し線（
５０）上に供給されれる整列度制御信号に応答する手段
によって、直交軸に沿ってモーター駆動されるようにな
っている。密度測定信号は、レーザー（３０）に対する
帰還信号として線（５２）上に供給される。従来のレー
ザーは、電子制御されてその出力が設定されるようにな
っており、出力制御帰還ループに容易に接続される。

ビームの最終使用地点にできるだけ近くにおいて密度を
Ｃ１定して、レーザー（３０）の動作上の変動および光
路における動作上の変動を補償することには長所がある
。

ウェブにすかし入れするためのレーザー処理用光学シス
テム（２０）について、第２図および第３図を参照して
説明する。該光学システム（２０）は、主にウェブの一
長尺部分（１０ａ）にすかし入れするために用いられる
光学素子を参照して説明される。その他の長尺部分にす
かし入れするための同様なシステムは、ウェブを横切る
方向に相互離隔して配設され、後述するように円周方向
に交互に現われる。

入力部すなわちビーム導入点（２２）という用語を使用
しているが、ビーム導入点（２２）は正確に形成された
地点ではない。これまで説明した装置は、第２図および
第３図で示す光学システム（２０）に導入されるため所
定のサイズおよび整列度を有するレーザービーム（３２
）を発する。前述のように、ビームの整列度および密度
は、第３図で示すような光学システム（２０）に進入す
るビームと交差する想像上の面であるビーム導入点（２
２）に隣接した地点でモニターすることができる。この
地点において、ビームは、例えば直径が８　ｍｍの円形
断面を有する。

光学システム（２０）は、軸（Ｂ２）のまわりを回転す
るように取り付けられた筒状ドラム（６０）内に支持さ
れるのが都合のよい回転体を存する。モーター（図示せ
ず）は、均一速度またはウェブの速度と同期した速度で
前記筒状ドラム（６０）を回転させる。ドラム（６０）
は、軸（６２）がウェブの長手移動方向と直角をなす状
態で、ウェブ（１０）移動路から上方にＭＶ；ＦＡシて
いる。ウェブ（■０）にすかし入れする際、光学システ
ム（２０）は、該ウェブ表面上に１本のレーザー光を集
中させる。該レーザー光に対する正確な位置合わせをす
るため、ウェブは第４図のように案内されるのが好まし
い。

すなわち、ウェブ（１０）は、レーザー光と衝突する箇
所において光軸と直角をなす表面を有する遊動ローラー
（６４）上を移動する。第２図および第３図を容易に理
解できるように、ウェブ（１０）は、ドラム（６０）の
下方に位置する面を移動するものと仮定する。

ドラム（６０）は、その中空内部にドラム（６０）を横
切って軸方向に離隔した複数組の反射鏡セグメントを支
持している。説明を簡単にするため、環状等間隔で配設
された例えば７つの反射鏡セグメント（７１ａから７７
ａ）から成る１組（７０）だけを完全図示する。各反射
鏡セグメントは、銅のブロックから成り、ドラム（６０
）の軸（６２）と一致する軸を備えた円錐の一セグメン
トを形成するように形成され且つ磨かれている。反射鏡
セグメントは、ドラム（６０）の内面に取り付けられ、
内方環状壁（６１）によって位置づけされていてもよい
。

このようにしてドラム（６０）内に取り付けられた状態
において円錐状鏡面（７８）は、円錐頂点が進入してく
るビーム（３２）から遠ざかる方向に向いた状態で、ド
ラム（６０）の軸（６２）と同軸となった円錐台のセグ
メントを形成する。レーザービームの光軸は、前記軸（
６２）と平行であり、該光軸からの放射状分枝は、ドラ
ム（６０）の回転時に各円錐鏡セグメントがビームと交
差して横切るように前記セグメントの放射状分枝と同じ
になっている。第２図および第３図は、鏡セグメントの
１つ（７１ａ）との衝突中心点におけるビームを示して
いる。

レーザービームが円錐鏡に衝突するかぎりにおいて、円
錐鏡が該ビームを空間的に固定した線セグメントに集中
するというのは、この方向に回転する円錐鏡の特徴であ
る。この線セグメントは、その他の光学素子が存在しな
い場合円錐軸上に位置する。ドラム（６０）が回転する
ことにより、前記セグメント（７１ａから７７ａ）は、
ビームスイツチングおよびビームを１本の線に集中させ
る機能を果す。前記１本線状に集中したビームは、以下
線状ビームと称する。

さらに、光学システム（２０）は、ドラム（６０）内に
固定支持され且つドラム（６０）の壁部に線状焦点を形
成するように位置づけ、方向づけされた平坦鏡（８０）
を有する。セグメント（７１ａから７７ａ）によって形
成される線状ビームは、前記鏡セグメント（７１ａから
７７ａ）と整列するようにドラム（６１）の壁部に形成
した各々の孔（８１ａから８７ａ）を介して、ドラム（
６０）から出る。第２図から最もよく分かるように、各
前記セグメント（７１ａから７７ａ）が進入してくるレ
ーザービーム（３２）を遮断するとき、該セグメント（
７１ａから７７ａ）は、その遮断時間に、軸方向に位置
した地点（８２）において空間的に固定した線状ビーム
を形成して、対応する孔（８１ａから８７ａ）の少なく
とも一部を走査する。線状ビームがドラム壁部に在って
、光軸延長部がウェブの面およびその移動方向と直交す
るように、前記地点（８２）の光軸はドラム軸（６２）
に対して半径方向となっている。ドラム（６０）の外部
において、光学システム（２０）は、線状ビームをウェ
ブ面に映写するため光軸延長部上に設けられた映像レン
ズ（９０）を有する。このようにして、線状ビームが孔
（８１ａから８７ａ）の１つを走査する際、スペースが
固定された像は、移動ウェブの表面の一部を走査する。

線状ビームが前記孔で変調された場合、この変調は、ウ
ェブ表面に作用してすかし入れする線状ビームに再生さ
れる。線状ビームを変調するため、すなわち、該ビーム
を選択的にマスキングするための手段を前記孔に設ける
ことにより、変調手段が有する像が紙の表面に再生され
る。

第３図および第１０図に示すように、変調手段（８４）
は商用名、ロゴなど紙に再生される像を刻んだステンシ
ルであって、該像は線状ビームによって走査される。こ
のステンシルマスクは、ドラムの外表面に形成された孔
に設けられる薄い反射性の銅シートである。このように
して、線状ビーム焦点地点（８２）はドラム表面に位置
する。線状ビームがステンシルに開口した像を走査する
際、変調された線状ビームは、第３図で示すように、ウ
ェブ上に像を再生する。ドラム（６０）の速度がウェブ
の速度と同じである場合、マスクの像は紙上に正確に再
生される。もし同じ速度でない場合、像の再生比率は１
：１とはならない。ステンシル開口部の線状ビーム方向
における最大幅は線セグメントの長さより小さい。ステ
ンシルの像を再生する際、映像レンズ（９０）が反転像
を形成することに注意しなければならない。

図示例による鏡セグメント１組は７つの孔を有し、それ
故、同一のすかしを全体にわたって使用する場合には、
７つの同一マスクを各々の孔に設けなければならない。

前述の装置は、ドラム（６ｏ）一回転について、ウェブ
の長手軸に沿って離隔した７個のすかしを連続して入れ
るものである。このようにして、前記連続したすかしは
、その後句られる長手部分の１つ（例えば１０ａ）に沿
って整列することができる。ビームスイッチ技術は横方
向に離隔したその他の光学システム（２ｏ）に用いられ
、このようにして、複数の長手方向すがし列がウェブを
横切る方向に離隔して形成され、第１図で示した４つの
長尺部分（１０ａから１０ｂ　）かすがし入れされるこ
ととなる。

この目的のため、ドラム（６ｏ）には、各組が７個のセ
グメント（７１ｂから７７ｂ　、　７１ｃから７７ｃ。

７１ｄから７７ｄ）で構成されるさらに３組の鏡セグメ
ントが設けられている。各組のセグメントは軸（６２）
のまわりに等角度に離隔し、セグメント組同士は円周方
向に交互に位置ずれしている。また、セグメント組同士
はドラム軸（６２）に沿って軸方向に位置ずれしていて
、前記ドラム（６０）が、第３図で説明したような、ビ
ームスイツチング、焦点合わせ、映像用の４つの光学シ
ステム（２０）を含むようになっている。すなわち、各
組の鏡セグメントに対応して、該セグメントに整列し各
々がステンシルマスクを有する孔と、平坦鏡（８０）と
、線状ビームをウェブ面に投射する映像レンズ（９０）
とが設けられている。前記４つの横方向に離隔した平坦
鏡（８０）および映写レンズ（９０）は、ウェブを横切
る方向に延びる台（図示せず）上に支持されて、ウェブ
にすかし入れをするため４つの横方向に固定された出力
を出す。

次に、第２図を参照してレーザー処理光学素子の構造お
よび動作を説明する。第２図における想像線は、軸に沿
って離隔し前記セグメント（７１ａから７７ａ）から円
周方向に位置ずれした次組のセグメント（７１ｂから７
７ｂ）を示す。セグメント（７４ａ）とセグメント（７
５ａ）との間で円周方向に位置ずれして配設されたセグ
メント（７４ｂ、７４ｃ。

７４ｄ）によって例示するように、次の２組も同様に位
置ずれしている。このように、前記４　Ｍｉのセグメン
トは、軸（６２）に沿って見た状態において、各組のも
のが交互に現われ、ビームは、１組のセグメントから次
の組のセグメントに順次スイッチされる。

図示例において、本装置は、ドラム（Ｇｏ）が１回転す
るごとに７回繰り返される順序で、前記４つのウェブ部
（１０ａから１０ｂ　）の各々に順次すかし入れをする
。

１組における鏡セグメントの数、およびセグメント組の
数は変更可能である。連続波レーザー出力を最大限に利
用するために鏡セグメントで充填したドラムに対するレ
ーザービーム（３２）の軌跡を環状とすることには長所
がある。ドラム（８ｏ）におけるビーム導入口から遠い
方の側には、光学システム（２０）を通過するすべての
レーザー光を吸収するための吸収剤を設けてもよい。最
も多数の鏡セグメントを用いようとする場合注意しなけ
ればならないのは、ビームはステンシルマスクの像を十
分に走査できるような長さで各鏡セグメントに衝突する
必要があるということである。このため、鏡セグメント
の円周方向長さはあまり小さくすることができない。さ
らに、鏡セグメントに対するビームの実際上の幅を考慮
しなければならない。モデル装置において、ビームの直
径８　ｍｍであった。約１９關の距離にわたってビーム
が鏡によって十分遮断されるように、セグメントの回転
方向における幅は３５ＩＩ＋１１であった。線状焦点ビ
ームの完全密度はこれより短い距離にわたってのみ達成
される。

上述装置の実際的な使用においては、次のような準備を
するのが好ましい。

このシステムにおけるすべての固定的光学素子は、オー
バーヒートによる歪みを阻止するために冷却される。温
度を制御した冷却剤は、鏡表面上における凝縮を阻止す
るため、露点以上に維持された状態で使用される。映像
レンズアセンブリーは、“乾燥”し且つ“油っ気のない
′圧縮空気の供給を受けて、レンズ面における残がいの
集積を阻止するとともに、ウェブ移送装置、その他のし
−ザービームの重要部分を吸収する工程から生じる水蒸
気や残がいによる“ビーム妨害０を阻止する。レーザー
エネルギーを効率的に使用するためには、前述の工程か
ら生じる水蒸気および残がいは、光学システム、特に圧
縮噴射空気、抽出器および保護ノズルを組み合わせて使
用するビームスイツチング鏡を設けた部分から効果的に
除去する必要がある。

前述の装置において、円錐状の鏡セグメントは、光路ス
イッチングおよびビームの線状集中の２つの機能を果す
。ここで、前述の装置とは３つの点で機能を異にするも
のの、同一の結果をもたらす装置を示す第５図から第９
図について説明する。

これらの機能上の相違点とは：ビームスイッチングとビ
ーム集中とを分離することと；これらの機能のために固
定鏡および回転鏡を組み合わせて使用すること、特に、
スイッチングのために固定円錐鏡と平坦鏡アセンブリー
を使用することと１２組の光路を形成してビームをでき
るかぎり効率的に使用するため、人力部にもう１つの光
スイツチング装置を使用することである。

第５図から第９図は、光学システム（２０）の変更例を
示すものであり、該光学システム（２０）は、導入部（
２２）でレーザービームを受け、映写用の像ををするマ
スクを走査するための線状ビームを使う前述の方法で、
複数の長尺部分の各々に沿って所定間隔でウェブにすか
し入れするためにビームを操作するものである。

第５図は、ウェブを横切って延びる構造体（１００）の
一部分の軸方向断面図である。該構造体（１００）は、
ウェブを横切って延びるように固定支持されており、そ
の中に、スイッチング鏡を備えた回転体（１２０）を支
持しているフレーム（１１０）ヲ有する。回転体（１２
０）の軸は（６２）で示す。フレーム（１１０）は、ウ
ェブを横切る方向に離隔した各々の起立支持体−（１２
４ａから１２４ｂ）に取り付けられた１組の円錐状鏡セ
グメント（Ｌ２２ａから１２２ｄ）を支持している。円
錐状鏡セグメントは、外向きであって、軸（６２）から
等距離線上に設けられている。入力ビームは図面におけ
る左側から進入し右側から各円錐状鏡に衝突するように
、後述する方法で光路スイフチされる。円錐状鏡は、そ
の共軸であり且つ後述のように映写像を有するマスクと
交差する軸Ｍ−Ｍに沿った１本線にビームを集中する。

マスクの映写像によって変調される線状ビームは、レン
ズ（９０）によってウェブ（１０）の各々の長尺部分（
１０ａから１０ｄ）上に再生される。それ故に、最終結
果は前述実施例で記載したもののようになる。

回転体（１２０）は、フレーム（１１０）内に支持され
ており、フレーム（１１０）の端部壁（１１２）に設け
られたベアリング（１２７）に支持された軸（１２Ｂ）
を有する。軸（１２Ｂ）は、モーター（図示せず）によ
って回転されるものであり、該軸（１２８）に沿って離
隔して各々の円錐状鏡（１２２ａから１２２ｄ）と共働
するビームスイツチング鏡を支持している。各組のビー
ムスイツチング鏡は、軸（１２Ｂ）に固着されて該軸（
１２Ｂ）とともに回転するハブを備えたホイール（１２
８ａから１２８ｄ）のスポークと称することができるも
のに支持されている。該ホイール（Ｌ２８ａから１２８
ｄ）は、同一の構造を有し、進入してくるビームを順次
、繰り返して遮断して、順次長尺部分（１０ａから１０
ｄ）に映像するため前記ビームを対応する円錐状鏡（１
２２ａから１２２ｄ）に向けるように、各々の円錐状鏡
（１２２ａから１２２ｄ）に隣接して回転するようにな
っている。

この目的のため、ホイール（１２８ａから１２８ｄ）は
、後で明らかになるように、ウェブを横切るように順次
円周方向位置がずれている。

ホイールの構造は第５図および第６図に示す。

第６図は、第５図の左側から見たホイール（１２８）で
あって、ホイール（１２８ａ）がビーム遮断位置にある
状態を示す。

図示したホイール（１２ｇ）は、軸（１２Ｂ）に固着さ
れたハブ（１３２）からフレーム（１１０）内において
回転する円形周辺体（１３４）に延び且つ等角度で離隔
した８個のスポーク（１３０）を有する。

各スポーク（１３０）は、進入してくるビームの方向を
反転するため、互いに９０’の角度をなすように配設さ
れ１対の平坦鏡を支持している。各１対の平坦鏡は共通
円上に配設された半径方向内方鏡（１３Ｂ）を有し、該
内方鏡（１３Ｂ）は、第５図で示すように、ホイール回
転時に、各々が対応する円錐状鏡と対面して該円錐状鏡
の線を遮断する。

各１対の平坦鏡を構成する外方鏡（１３８）は、第１外
方円上の第１外方鏡（１３８ａ）と、第２小径外方円上
の第２外方鏡（１３８ｂ）とを交互に設けたものである
。なお、前記外方鏡は、３つ以上の円上に設けることも
可能である。外方鏡を２つの円上に分割して設けること
の効果は、同一円上に連続した鏡開の角度を２倍にする
ことにより、各鏡によって形成される角度についてより
多くのホイールを使用可能とすることにある。

ホイールの各スポークの外方端に支持されているのはマ
スクホルダー（１４０）であり、各１対の鏡がビーム遮
断位置に移動する際、各１対の鏡は、それまでと同じよ
うに空間固定された線状ビームを形成してホイールと伴
に移動するマスクを走査するため、ビームを対応する円
錐状鏡上に向ける。

第５図は、回転軸（６２）と平行に端部壁（１１２）の
孔（１１３ａ）を通過して外方鏡（１３８ａ）に衝突し
た後、内方鏡（１３６）を介して軸方向に反射して対応
する円錐状鏡セグメント（１２２ａ）に達するビーム（
３２ａ）を示す。このビーム（３２ａ）は、空間固定さ
れた線状ビームに集中されて、マスクホルダー（１４０
）の円周方向への動きによって、マスクホルダー（１４
０）を走査する。回転体（１２０）の回転により、次の
ホイール（１２８ｂ）が鏡＜　１３８ｂ）を整列位置に
もってくる。この鏡（Ｌ３８ｂ）に衝突するため、ビー
ム（３２ａ）は、後述する手段によって、軸（６２）に
より近接して平行する光路（３２ｂ）にスイッチされる
。この動゛作は第５図において破線で示した光路によっ
て示すが、前記回転時には、この光路は設定されていな
い。ホイールがさらに回転することにより、ホイール（
１２８ｃ）の鏡（１３８ａ）　、次に、ホイール（１２
８ｄ）の鏡（１３８ｂ）等が順次ビーム遮断位置にもた
らされる。このような工程のためには、例えば５，７個
等の奇数個のホイールとするべきである。例えば５個の
ホイールの場合、次のビーム遮断は第５番目のホイール
の外方鏡（１３８ａ）によって行なわれる。回転体（１
２０）が第６図の位置から４５°回転した場合、次の遮
断鏡は、ホイール（１２８ａ）の次のスポーク上の鏡（
１３８ｂ）である。このような工程は、９０°回転の後
再び第５図および第６図で示す状態となるまで続く。こ
のようにして、前記工程は７２０　／　ｎ度ごとに繰り
返され（この場合のｎは１つのホイールにおけるスポー
クの数を示し）、軸に沿って連続したホイールは３６０
／ｎ−ｍ度ずつ角度ずれする（この場合のｍはホイール
の数を示す）。

すべての外方鏡が同一円上に設けられた場合、第２図で
示したもののような数の鏡を詰め込むのが困難となる。

外方鏡を第１、第２円に交互に設けることにより、円周
方向における配役密度を半分にでき、また別の効果があ
る。第３図で説明したように、ビーム（３２）が１組の
鏡セグメント（７１ａ）から次組の鏡セグメント（７１
ｂ）に移動する際、ビームの一部が両方のセグメント（
７１ａ。

７１ｂ）上にある時におけるマスク上の線状ビームの密
度は減少する。マスクの実際上の走査は、ビームが鏡セ
グメントによって十分遮断されている時完了する。

第６図において、ホイール（１２４ａ）の遮断用平坦鏡
（１３８ａ）は破線で示す次のホイール（１２４ｂ）の
鏡（１３８ｂ）と円周方向に重なっていることがわかる
。光路（３２ａ）と光路（３２ｂ）との間のビームスイ
ツチングは、該ビームが鏡（１３８ａ）から鏡（１３８
ｂ）上にくる地点（１４２）において行なわれるように
なっている。この重なりは、ビームエネルギーの最も効
率的な利用を確実にするため、すべての連続する鏡（１
３８ａ、　１３８ｂ）間に存在する。

さらに、この重なりは、例えば（１４２Ａ）および（１
４２Ｂ）で示すスポーク部がビームとインターフェース
しないという効果をも有する。

第１図において（２２）で示す入力ビームは、２つの軸
（３２ａ　、　３２ｂ　）間を高速で交互する。２つの
ビーム軸を収容するため端部孔（１１３ａ）はビーム（
３２ｂ　）用の第２孔（１１３ｂ）によって補足される
か、単一の長尺スロットが形成される。各円錐状鏡支持
体（１２４ａから１２４ｄ）は、ビーム移送スロット（
１２５）を有する。これは第７図の斜視図によく明らか
に示されており、該第７図は、ビーム（３２ａ）を遮断
して鏡（１３Ｂ）を介して対応する固定円錐状鏡（１２
２）上にスイッチする外方円鏡（１３８ａ）を備えた１
つのホイール（１２８）を示す。

尚、前記固定円錐状鏡（１２２）は、ホイール（１２８
）の対応するスポークから軸方向に突出する各々のマス
クホルダー（１４０）を走査する線状ビームを形成する
。この線は、レンズ（９０）によってウェブ（１０）上
を横切る方向に延びるように再び焦点合わせされる。ホ
イール（３３）の回転およびウェブ（１０）の移動は、
矢印（Ｄ）、（Ｅ）でそれぞれ示す。前述のような他の
ホイールによるビーム遮断工程の後、鏡（１３８ｂ）は
、円錐状鏡（１２２）への光路を完了するため破線で示
す位置（３２ｂ）にスイッチされるビームを遮断する。

２つの位置（３２ａ　、　３２ｂ　）間を交互するよう
にビームをスイッチする動作を第８図および第９図を参
照して説明する。これらの図は、２つの軸（３２ａ　、
　３２ｂ　）間において入力ビーム（３２）を変位する
ビームチョッパー（１θ０）を示す、第１図の装置に関
しては、前記入力ビームは、軸（６２）と平行し、２つ
の光路（３２ａ　、　３２ｂ　）間をスイッチされる。

第８図は、等角度で設けられた孔付セクター（１６４）
を備えた反射前面を有する孔付ディスク（１６２）から
成るビームチョッパーを示す孔付セクター（１Ｂ４）お
よび孔無セクター（１６θ）は同等の円周方向長さを有
する。ディスクは、該ディスクに衝突するビームに対し
て任意角度（好ましくは４５”）に取り付けられる。前
面セクター　（１８Ｂ）によって反射する場合、ビーム
はビーム軸（３２ａ）に沿って案内される。ディスクの
孔は、後部が固定された反射ディスク（１６８）によっ
て後方反斜面を取り付けてもよく、また、ディスク（１
６２）と同一の角度で固定された平坦鏡（１７０）にビ
ームが打ち当たるような開孔にしてもよい。このように
して、第２スイツチビーム（３２ｂまたは３２ｂ’）が
形成される。どの方法を選ぶかは、ビーム（３２ａ　、
　３２ｂ　）間における必要変位量によって左右される
。後方反斜面（１８８）を有するディスク（１８２）が
使用された場合、ディスクの厚さは必要変位量によって
決まる。

チョッパーディスク（１Ｂ２）は、回転体（１２０）と
同期回転する駆動手段（図示せず）によって軸（１６３
）を中心として回転する。第６図において、１つのホイ
ールの鏡（ｔ３８ａ）に衝突するビームから次のホイー
ルの鏡（Ｈ８ｂ）に移動する際回転体（＋２０）による
移動角度は、３６０　／　ｍ　ｎ度である。ディスク（
ＬＨ）にＰ孔付セクター（１８４）が形成されている場
合、該ディスク（１Ｂ２）は反射前面セクターから孔に
、すなわち、１８０／Ｐ度、移動する必要がある。この
ようにして、回転体（１２０）の回転に対するディスク
（１６２）の回転比はｎ　ｍ　／　２　Ｐとなる。Ｐ−
ｎ−８の場合、前記比率は単にｍ／２である。５または
７つのホイールがある場合、前記比率は２．５または３
．５である。

再び第６図において、ディスク（１８２）の相対的位置
または移送は、入力ビームが地点（１４０）においてセ
クター間の縁部を横切るように設定すべきである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、長手方向に移動する紙ウェブの長尺部分に繰
り返してマーク付けするためのレーザー装置を示す図、 第２図は、第１図の装置に使用されるビームスイツチン
グおよびビーム集中用の回転鏡を有する光学システムを
示す図、 第３図は、第２図の鏡の長手軸方向断面図、第４図は、
レーザー処理光学素子に対してウェブを正確に位置づけ
するための好ましい装置を示す図、 第５図は、第１図の装置に使用される他の光学システム
を示す長手軸方向断面図、 第６図は、回転式スイッチング鏡を支持しており第５図
の光学システムに使用された状態のホイールを示す正面
図、 第７図は、移動ウェブに像を再生するための映像レンズ
を備えたホイールの斜視図、 第８図は、横方向に離隔した入力路間においてビームス
イツチングする入力ビームチョッパーの断面図、 第９図は、第８図のビームスイツチングの正面図、 第１０図は、各光学システムの処理光学素子に使用され
るステンシルマスクを示す図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 〔１〕光路スイッチング手段を介して、光路の入力部と
   、シート移動方向に対する横方向に固定された位置にお
   いて移動シート上に終端する出力部との間に光学的接続
   を繰り返し設定する工程と、少なくとも前記光学的接続
   が設定された時に前記光路の入力部に沿って光ビームを
   案内して該光ビームが前記固定位置において移動シート
   に衝突するようにする工程とから成り、 前記光ビームが、前記シートに変化を生じさせてシート
   移動方向に間隔をおいて該シートにマーク付けする方法
   において、 前記光ビームは前記固定位置において所定形状に集中さ
   れ、映写像を有するマスクを介して前記光ビームの所定
   形状を変調して前記映写像に従って前記移動シートにマ
   ーク付けすることを特徴とする方法。 〔２〕前記所定形状は、シート移動方向に対して横方向
   に延びる長尺形状であることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の方法。 〔３〕前記固定位置において前記マスクと所定形状との
   間で走査動作が行なわれて、前記所定形状の変調が行な
   われることを特徴とする特許請求の範囲第１項または第
   ２項記載の方法。 〔４〕前記ビームは、前記固定位置に先行する光路上の
   地点において前記所定形状に集中され前記固定位置にお
   いて再生され、前記地点において前記マスクと所定形状
   との間で走査動作が行なわれることによって前記固定位
   置において所定形状の変調が行なわれることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項から第３項までのいずれか１項
   記載の方法。 〔５〕光ビームの集中が光路スイッチング手段によって
   行なわれることを特徴とする特許請求の範囲第１項から
   第４項までのいずれか１項記載の方法。 〔６〕光ビームの集中が前記光路スイッチング手段と分
   離した光学手段によって行なわれることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項から第４項までのいずれか１項記載
   の方法。 〔７〕前記光路スイッチング手段を介して、前記入力部
   と、シート移動方向に対する横方向に固定され且つ前記
   第１固定位置から横方向に位置ずれした第２の固定位置
   に終端する光路の第２出力部との間に光学的接続を繰り
   返し設定する工程から成り、 前記第１光路に設定される光学的接続は前記第２光路の
   ものと時間的に交互に現われ、 少なくとも前記第１および第２出力部への光学的接続が
   設定された時に前記入力部におけ光ビームの案内が行な
   われ、光ビームは第２固定位置において移動シートに衝
   突し、 前記第２固定位置において光ビームを所定形状に集中し
   、映写像を有するマスクを介して前記所定形状を変調し
   て前記第１マークから横方向に位置ずれした軸に沿って
   シート移動方向に間隔をおいて該シートにマーク付けす
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項から第６項ま
   でのいずれか１項記載の方法。 〔８〕所定整列状態でレーザービームを受けるためのビ
   ーム導入点と、 映写像を有するマスクを収容する少なくとも１つのマス
   ク収容手段と、 所定光路を繰り返して移動して該移動毎における異なっ
   た時にビームを遮断して該ビームを異なった前記収容手
   段にスイッチするため構造体に支持された第１、第２光
   学素子を有する光学手段とから成り、 前記光学手段は、ビームがスイッチされたマスク収容手
   段において受けたレーザービームを線状集中するように
   なっており、 前記マスク収容手段および光学手段は、ビーム線とマス
   ク収容手段との間の相対的動作を行なってマスクを走査
   を行なうことを特徴とする移動シートに像を形成するた
   めの光学装置。 〔９〕前記構造体は回転可能に取り付けられることによ
   り各前記素子がアーチ形軌道を描くことを特徴とする特
   許請求の範囲第８項記載の光学装置。 〔１０〕前記構造体に連結されて該構造体を連続して回
   転するようになっている駆動手段を有することを特徴と
   する特許請求の範囲第８項または第９項記載の光学装置
   。 〔１１〕前記第１、第２素子は、遮断素子が移動する際
   遮断されたビームを空間固定された１本線に集中し、前
   記マスク収容手段は、前記構造体に取り付けられて該構
   造体と同期して回転して各々の固定線に対して走査を行
   なうことを特徴とする特許請求の範囲第１０項記載の光
   学装置。 〔１２〕前記第１、第２素子は、その円錐軸が前記構造
   体の回転軸と一致する円錐状鏡セグメントから成ること
   を特徴とする特許請求の範囲第１１項記載の光学装置。 〔１３〕前記第１、第２素子は、ビームに沿って異なっ
   た地点において受けたレーザービームを遮断して離隔し
   た各々の線状ビーム集中を行なうことを特徴とする特許
   請求の範囲第８項から第１２項までのいずれか１項記載
   の光学装置。 〔１４〕前記第１素子は、その光路に沿った同一の第１
   地点で前記構造体の移動時における異なった時に受けた
   ビームを遮断する第１組の同様な素子の１つであり、前
   記第２素子は、その光路に沿った第２地点で、前記第１
   組の素子のビーム遮断と交互に現われるように前記構造
   体の移動時における異なった時に受けとったビームを遮
   断する第２組の同様な素子の１つであることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１３項記載の装置。 〔１５〕前記第１組の素子は各々のビーム遮断時に同一
   の第１地点において各々の線セグメントを形成し、前記
   第２組の素子は各々のビーム遮断時に同一の第２地点に
   おいて各々の集中線を形成することを特徴とする特許請
   求の範囲第１１項または第１４項記載の光学装置。 〔１６〕第１組の素子は第１円錐のセグメントである円
   錐形面を有し、第２組の素子は第２円錐のセグメントで
   ある円錐形面を有することを特徴とする特許請求の範囲
   第１２項または第１５項記載の光学装置。 〔１７〕前記第１、第２地点において集中線を第３、第
   ４空間固定地点の各々に再生する第１、第２固定装置を
   有することを特徴とする特許請求の範囲第１５項または
   第１６項記載の光学装置。 〔１８〕前記光学手段は、ビームを１本線に集中するた
   めの固定光学素子を少なくとも１つ有することを特徴と
   する特許請求の範囲第８項から第１０項までのいずれか
   １項記載の光学装置。 〔１９〕前記第１、第２光学素子が平坦鏡からなること
   を特徴とする特許請求の範囲第１８項記載の光学装置。 〔２０〕前記第１、第２素子はビームに沿った異なった
   地点においてビームを遮断し、各々の固定光学素子は、
   前記第１、第２素子に対応して第１、第２素子によって
   遮断されたビームを受けて１本線に集中することを特徴
   とする特許請求の範囲第１６項または第１８項記載の光
   学装置。 〔２１〕各固定光学素子は円錐状鏡セグメントから成る
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１８項から第２０項
   までのいずれか１項記載の光学装置。 〔２２〕前記第１素子は第１地点において前記構造体の
   移動時における異なった時にビームを遮断する第１組の
   同様な素子の１つであり、第２素子は、ビーム衝突方向
   に前記第１地点から変位した第２地点において、前記第
   １組の素子のビーム遮断と交互に現われるように前記構
   造体の移動時における異なった時に受けとったビームの
   遮断を行なうことを特徴とする特許請求の範囲第２１項
   記載の光学装置。 〔２３〕各々の固定光学素子が第１、第２組の素子と対
   応することを特徴とする特許請求の範囲第２２項記載の
   光学装置。 〔２４〕第１、第２組の各光学素子は１対の平坦鏡から
   成ることを特徴とする特許請求の範囲第２２項記載の光
   学装置。 〔２５〕各１対の平坦鏡は、それに衝突するビームの方
   向を逆転するため、互いに直角に設けられていることを
   特徴とする特許請求の範囲第２４項記載の光学装置。 〔２６〕第１組の光学素子は、ビーム衝突方向と直角方
   向に第２組の光学素子から変位しており、前記導入点に
   案内される入力ビームを受けるため、および、第１、第
   ２組の光学素子の各々によって遮断された第１、第２光
   路に前記ビームをスイッチングするため、さらにもう１
   つの光路スイッチング手段を有し、前記もう１つの光路
   スイッチング手段は、前記構造体の移動に同期して動作
   するようになっていることを特徴とする特許請求の範囲
   第２２項から第２５項記載の光学装置。 〔２７〕所定整列状態レーザービームを受けるためのビ
   ーム導入点と、映写像を有するマスクを収容する少なく
   とも１つのマスク収容手段と、所定光路を繰り返して移
   動して該移動毎における異なった時にビームを遮断して
   該ビームを異なった前記収容手段にスイッチする構造体
   に支持された第１、第２素子を有する光学手段で構成さ
   れた光学装置と、 該光学装置のビーム導入点においてレーザービームを発
   生するための手段と、 線セグメントによって走査される各マスクの像付けする
   ための所定路に沿ってシートを移動する手段とから成る
   ことを特徴とする移動シートにマーク付けする装置。 〔２８〕前記レーザービーム発生手段は、連続波レーザ
   ーと、導入点においてレーザービームの整列度をモニタ
   ーして整列エラーを意味する信号を出力する手段と、前
   記導入点へのレーザービーム通路に設けられて前記エラ
   ー信号に従ってレーザービームの整列度を調節する手段
   とを有することを特徴とする特許請求の範囲第２７項記
   載の装置。 〔２９〕帰還通路において前記レーザーと接続されてレ
   ーザー出力をモニターし且つ調節する手段を有するここ
   とを特徴とする特許請求の範囲第２８項記載の装置。