JP2003506219A - レーザ照射による基板加工装置 - Google Patents

レーザ照射による基板加工装置

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JP2003506219A JP2001515092A JP2001515092A JP2003506219A JP 2003506219 A JP2003506219 A JP 2003506219A JP 2001515092 A JP2001515092 A JP 2001515092A JP 2001515092 A JP2001515092 A JP 2001515092A JP 2003506219 A JP2003506219 A JP 2003506219A
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Abstract

(57)【要約】 レーザ光源から放射されるレーザ光を、互いに並列配置され焦点面が被加工基板の表面にある集束レンズからなるレンズ系にいくつかの光路に分けて向けるために、N個の鏡面を持つ回転多面鏡を備えたレーザ光照射による基板加工装置において、回転多面鏡がこれに入射するレーザ光を集束レンズ系に、従って被加工基板に向けて向きを換えるいくつかの数の活性鏡面Sを備え、残りの鏡面S’(不活性鏡面)が前記集束集束レンズ系に関して活性鏡面Sとは異なる傾斜を持ち、従ってレーザ光はこの不活性鏡面から吸収体に向けられる。不活性鏡面の数を大きくすることにより基板における穿孔密度を減少させる。不活性面が走査されるとき、このレーザをオン・オフして、さらに穿孔密度を減少させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 基板を処理或いは加工するためにレーザを使用する場合、同時に或いはほぼ同
時に基板の複数の目標領域にレーザ光を当てることがしばしば必要である。従来
の技術として、このためのいくつかの構成が公知である。これらの構成において
は、それぞれ入射するレーザ光を回転多面鏡で一連の互いに並列している集束要
素に向け、これにより順次それに相当する数の目標点にレーザ光を当てることが
行われる(フランス特許出願公開第2130698号、ヨーロッパ特許第002
8615号、ドイツ特許出願公開第19511393号明細書)。これらの公知
の装置により、複数のトラックの穿孔を相並んで帯状材料に作ることが可能であ
る。この場合、1つの穿孔を作るために必要とするエネルギーは僅少であるので
、非常に大きな多面鏡回転数を使用することが可能である。穿孔トラック内の孔
密度は、従って、非常に高く、例えば紙巻きタバコの吸口紙の穿孔において必要
であるように、材料センチメートル当り孔30個にもなる。
【0002】 例えばプラスチック箔のような包装材料の穿孔に対しては、しかしながら、遥
かに小さい孔密度、即ち、数倍大きな孔間隔が必要とされる。この場合、孔当り
の軌道速度及びエネルギーはほとんど変えられてはならない。孔密度が小さけれ
ば、それだけ引き裂き強度が大きく、それだけ透過性が小さくなる。
【0003】 従来の技術から公知の基板加工装置においては、確かに、低い多面鏡回転数で
所望の大きな孔間隔を達成することができるが、しかしながらその場合なおきち
んとした孔を得るためにはパルスエネルギーがかなり大きくなる。これに対抗し
て制御するためにはレーザの出力を減少させねばならず、このことはしかしなが
ら全く或いは必要な範囲では可能でない。穿孔されるトラックの帯状材料の巻取
り速度を上げることにより孔間隔を大きくすることは目下のところ制御不能であ
る。というのは、恐らく、分当り数千メートルの巻取り速度が必要であるからで
ある。
【0004】 さらに、従来の技術において、特定の使用目的に対して、特定の方法でかつそ
れぞれの使用目的に関連して傾斜した表面を持つ多面鏡が公知である。例えばド
イツ特許出願公開第4009113号明細書からはレーザプリンタ用の回転多面
鏡が公知である。この装置においては、回転軸線の回りに配置されその回転軸線
に対して平行な表面を持つ平面鏡が、回転軸線に対して平行でない1つの面(特
に鏡面を持つ面積の小さい接続面)によって互いに隔てられている。これにより
、接続面により反射された光はレーザプリンタの感光膜には当らず、真の鏡面に
よって走査された光だけがこのレーザプリンタの感光膜に当る。この面積の小さ
な接続面により、隣接した鏡面の間の突合せ稜により生ずる空気抵抗及び回転の
際に生ずる騒音が低減される。接続面の傾斜によりこれらの面で走査された光は
感光体にゴーストを形成することがないので、レーザプリンタのプリントの質が
損なわれることはない。ドイツ特許出願公開第19713826号明細書には、
複数の鏡面を有する回転多面鏡を備え、この鏡面の各々が回転軸線に対して異な
る傾斜を持っているレーダ装置が記載されている。この多面鏡の回転により水平
走査が行われ、他方垂直走査は異なる傾斜を持つ鏡面により行われる。入射光が
異なる鏡面に照射される時はいつでも、水平走査は各鏡面の傾斜角度に比例する
異なる高さにおいて繰り返される。
【0005】 この発明の課題は、従来の技術から公知のレーザ光による基板加工装置を、孔
当りのトラック速度及びエネルギーを殆ど変える必要がなく、従来よりも大きい
孔間隔を持つ穿孔パターンを作ることができるようにさらに発展させることにあ
る。
【0006】 この課題は、請求項1の前文に記載された装置において特徴部に示された構成
要件によって解決される。この発明の実施態様及び有利な構成は従属請求項2〜
10に記載されている。
【0007】 この発明の主要な利点は、ある一定の、特に少数の活性鏡面Sが設けられ、そ
れによりレーザ光が基板の方向に反射され、即ち、基板加工に役立つ多面鏡の活
性面が比較的小さく設定されることにある。この発明のさらなる利点は、不活性
鏡面S’の走査中レーザをオフすることができることにある(請求項10)。市
販の炭酸ガスレーザの開閉特性は、隣接した鏡面の突合せ辺を移行する際に、穿
孔において不規則が生ずることなく、レーザ光をオン・オフすることができない
。不活性鏡面S’によって可能なこの休止時間により、時間的に10の累乗だけ
長い時間内で、遅延及び振動を穿孔トラックに見ることなしに、炭酸ガスレーザ
をオン・オフすることができる。用途に応じて、複数の動作面、即ち例えば互い
に相並んで配置された集束レンズの複数の列を設け、各列に対応してある一定の
、特に同一の数の活性鏡面を設け、各列の活性鏡面が異なる傾斜を持つようにす
ることができる(請求項3)。
【0008】 以下に、この発明を図面及びその実施例に基づいて詳しく説明する。
【0009】 図1においてレーザ源8から出たレーザ光7は第一の集束レンズ10を通過す
る。この第一の集束レンズ10は光路において集束レンズ10の後ろに配置され
ている回転多面鏡12の1つの鏡面に焦点面もしくは走査面を有する。図示され
た多面鏡は6つの鏡面を持ち、その内の前側の鏡面1とこれに向かい合っている
鏡面2とは回転多面鏡の回転軸線に対して平行に形成されているが、これらの間
にある鏡面3〜6はこれに対して回転多面鏡の回転軸線に対して傾斜している鏡
面S’を持っている。鏡面の数は任意とすることができるが、この数は所定のさ
い断周波数については回転多面鏡で得られる回転数に関係する。回転多面鏡12
が回転する際1つの鏡面S(ここでは1)によって反射されたレーザ光は、3つ
の個別の集束レンズ14’、14”、14”’からなる第一のレンズ系14が配
置されている一定の角度範囲を走査する。これらの集束レンズはすべて同一の焦
点距離と、その焦点もしくは焦点面が集束レンズ10の焦点もしくは焦点面と多
面鏡において符合するような位置関係とを持っている。従って、レンズ14’〜
14”’を通過したレーザ光は再び平行に向いている。第一のレンズ系14を離
れたレーザ光は、図1に示された実施例においては、転向鏡16によって90°
向きを換え、個別の球面状の集束レンズ18’、18”、18”’からなる集束
レンズ系18に導かれる。これらの集束レンズはこれに当る平行なレーザ光をレ
ンズ系18の下もしくは光路においてレンズ系18の後ろにある帯状材料20に
集束させる。レンズ系18から帯状材料20までの距離はそれ故個々の集束レン
ズ18’、18”、18”’の焦点距離に一致している。回転多面鏡12がさら
に回転すると、次の鏡面S’(ここでは6)が有効となり、回転軸線に対するそ
の傾斜によりこれに当るレーザ光7をレンズ系14上に配置された吸収体22に
向ける。本例の場合、鏡面Sの間にそれぞれ2つの傾斜した鏡面S’が設けられ
ているので、さしあたり、冒頭に挙げた従来の技術による標準基板加工装置に較
べて、連続的な孔の密度は1/3にしかならない。この連続的な孔の密度は、も
っと多数の鏡面を備えた回転多面鏡を使用し、対向している鏡面Sの2つだけを
穿孔に使用し、一方他の全ての鏡面を傾斜した鏡面S’とする場合に、さらに低
減させることができる。
【0010】 この発明による装置をさらに改良したものとして、図2によれば、光学系11
を備えたレーザダイオード9が付加的に設けられ、そのレーザ光13は、加工レ
ーザ光7が当っているのと同一の鏡面(ここでは鏡面1)に向けられている。測
定レーザ光13は回転多面鏡12によって向きを変えられ、後ろに光検出器17
が配置されているスリット絞り15に当る。このスリット絞り15は鏡面S(傾
斜してない)及びS’(傾斜している)を区別するフィルタとして機能する。ス
リット絞り15及び光検出器17は、鏡面とこれによって反射された測定光線と
の傾斜に応じて調整できるように、高さを変えることが可能である。光検出器1
7は測定信号を同期のために電子制御装置19に導き、これにより、傾斜した鏡
面S’が検出されると、即ちレーザ光が不活性鏡面S’を走査すると、レーザ光
7がオフされる。同期走査信号を生成するために、測定レーザ光13は用途に関
係した各任意の鏡面S或いはS’に向けられる。電子制御装置19は、ゲート入
力端を介して制御されたレーザ8を鏡面S及びS’の位置に対して同期して走査
することを可能にする。なお、この場合、ある特定の走査要因は操作者によって
調整可能である。例えば、14ファセットの回転多面鏡を持つ16ビームの穿孔
装置において、対向して配置された2つの鏡面を第一の扇面(作業面)に穿孔す
るために利用するとき、レーザ光を第二の扇面に向け、吸収体で無効にするそれ
ぞれ6つのファセットを備えた2つの範囲が得られる。これにより、さしあたり
、標準穿孔装置に対して連続的な孔の密度は1/7になる。レーザの走査のため
に鏡面S及びS’の位置をリアルタイムで認識できる電子装置を使用する場合に
は、各々6つのファセットの走査中にレーザをオンもしくはオフすることができ
る。従って、一連の穿孔間隔を多面鏡に関係した基本数(ここでは7)の整数倍
、即ち7,14,21,28等に拡大することができる。
【0011】 用途に応じて、回転多面鏡の鏡面の数Nによって予め与えられた走査比(基本
数)のみを使用することで充分である。多重及び可変に調整可能な孔間隔は、し
かしながら、レーザの電子走査によってのみ得ることができる。
【0012】 何れの鏡面が回転多面鏡の回転軸線に対して平行であり、何れがこの回転軸線
に対して傾斜を持つべきかは、個々の事例に関係し、適用技術的な理由の他に、
製造技術上の考慮にも関係する。いずれにしてもこの発明の対象は、ここに記載
された、活性鏡面が回転軸線に対して平行である実施例に限定されるものではな
い。これとは逆に、同様に、不活性鏡面を回転軸線に対して平行とすることもで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 多面鏡の鏡面(S,S’)によって規定される固定走査率を備えたこの発明に
よる基板加工装置の第一の実施例を示す概略図。
【図2】 多面鏡の鏡面(S,S’)による可変走査率及びレーザ遮断のための電子装置
を備えたこの発明による基板加工装置の第二の実施例を示す概略図。
【符号の説明】
1,2 活性鏡面 3〜6 不活性鏡面 7 レーザ光 8 レーザ源 9 レーザダイオード 10,11 集束レンズ 12 多面鏡 13 測定光線 14 第一のレンズ系 14’、14”、14”’ レンズ系14の集束レンズ 15 スリット絞り 16 転向鏡 17 光検出器 18 第二のレンズ系 18’、18”、18”’ レンズ系18の球面状集束レンズ 19 電子制御装置 20 帯状材料 21 焦点(孔)

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】レーザ光源から放射されるレーザ光を、互いに並列配置され焦
    点面が被加工基板の表面にある集束レンズからなるレンズ系にいくつかの光路に
    分けて向けるために、N個の鏡面を持つ回転多面鏡を備えたレーザ光照射による
    基板加工装置において、回転多面鏡がこれに入射するレーザ光を前記集束レンズ
    系に向けてその向きを換えるためのいくつかの活性鏡面Sを備え、残りの鏡面S
    ’(不活性鏡面)が活性鏡面Sとは異なる傾斜を持っていることを特徴とするレ
    ーザ照射による基板加工装置。
  2. 【請求項2】鏡面S’により反射されたレーザ光が向けられる吸収体が設け
    られていることを特徴とする請求項1記載の装置。
  3. 【請求項3】集束レンズ系が互いに並列配置された複数の列の集束レンズか
    らなり、各列に対してある一定の数の活性鏡面が対応して設けられ、この各列に
    対する活性鏡面がそれぞれ異なる傾斜を持っていることを特徴とする請求項1又
    は2記載の装置。
  4. 【請求項4】隣接する活性鏡面Sの間に1つ或いは複数の不活性鏡面S’が
    設けられていることを特徴とする請求項1乃至3の1つに記載の装置。
  5. 【請求項5】Nが偶数であり、互いに対向する2つの活性鏡面Sが設けられ
    ていることを特徴とする請求項1乃至4の1つに記載の装置。
  6. 【請求項6】Nが偶数であり、互いに対向する2つの不活性鏡面S’が設け
    られていることを特徴とする請求項1乃至4の1つに記載の装置
  7. 【請求項7】鏡面S及びS’の位置を検出するための光学的測定装置が設け
    られていることを特徴とする請求項1乃至6の1つに記載の装置。
  8. 【請求項8】光学的測定装置が回転多面鏡に測定光線を出射するための光源
    と、この回転多面鏡により反射された測定光線とを検出するための光検出器とを
    含むことを特徴とする請求項7記載の装置。
  9. 【請求項9】光検出器の前にスリット絞りが配置され、このスリットの位置
    及び/又は光検出器の位置が回転多面鏡の回転軸線に対して平行に変えられるこ
    とを特徴とする請求項8記載の装置。
  10. 【請求項10】レーザ光が不活性鏡面S’を走査するとき、レーザ光をオン
    ・オフする電子制御装置が設けられていることを特徴とする請求項7乃至9の1
    つに記載の装置。
JP2001515092A 1999-08-06 2000-08-01 レーザ照射による基板加工装置 Pending JP2003506219A (ja)

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