JPS63190714A - YbGaZnMgO↓5で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 - Google Patents

YbGaZnMgO↓5で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法

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JPS63190714A
JPS63190714A JP2155987A JP2155987A JPS63190714A JP S63190714 A JPS63190714 A JP S63190714A JP 2155987 A JP2155987 A JP 2155987A JP 2155987 A JP2155987 A JP 2155987A JP S63190714 A JPS63190714 A JP S63190714A
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JP
Japan
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compound
oxide
metallic
hexagonal
ybgaznmgo5
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JP2155987A
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JPH0348131B2 (ja
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Noboru Kimizuka
昇 君塚
Naohiko Mori
毛利 尚彦
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National Institute for Research in Inorganic Material
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National Institute for Research in Inorganic Material
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 して有用な新規化合物であるYbGaZnMgO5で示
される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製
造法に関する。
従来技術 従来、(Yb”Fe”0x)nFe”O(nは整数を示
す)で示される大方晶系の層状構造を有する化合物は本
出願人によって合成され知られている。
YbFezO41YbtFesOt、 Yb4FesO
+z及びYb4FesO+zの六方晶系としての格子定
数、YbO+、s層、 Fed、、S層、 Feast
、 s層の単位格子内における層数を示する層状構造を
持つ化合物である。
発明の目的 本発明は(YbFe03) 、lFe0の化学式におい
て、n=Aに相当しFe”の代わりにGaをFe++の
代わりに(Zn” +Mg”)を置きかえて得られる新
規な化合物を提供するにある。
発明の構成 本発明のYbGaZnMgO5で示される化合物は、イ
オン結晶モデルでは、yb:++(にa*+ Zn2”
)Mg!+Q、!−とじて記載され、その構造はYbO
,、S層 (に a 3 *Zn”) 0□、2層およ
びMgO層の積層によって形成されており、著しい構造
異方性を持っていることがその特徴の一つである。Zn
2+はGa3+と共に(Ga”。
Zn”) Oz、s層を作り、Mgg*はMgO@を作
ッテイル。
六方晶系としての格子定数は次の通りである。
a =3.378  ±0.001 (人)C=21.
83  ±0.01  (人)この化合物の面指数(h
kg)、面間隔(d(人))(d、は実測値、dcは計
算値を示す)およびX線に対する相対反射強度(1(%
))を示すと表−2の通りである。
この化合物は光機能材料、半導体材料および触媒材料と
して有用なものである。
この化合物は次の方法によって製造し得られる。
金属イッテルビウムあるいは酸化イッテルビウムもしく
は加熱により酸化インテルビウムに分解される化合物と
、金属ガリウムあるいは酸化ガリウムもしくは加熱によ
り酸化ガリウムに分解される化合物と、金属亜鉛あるい
は酸化亜鉛もしくは加熱により酸化亜鉛に分解される化
合物と、金属マグネシウムあるいは酸化マグネシウムも
しくは加熱により酸化マグネシウムに分解される化合物
とを、Yb、 Ga、 ZnおよびMgの割合が原子比
で1対1対l対lの割合で混合し、該混合物を600℃
以上の温度で大気中、酸化性雰囲気中あるいはybおよ
びGaが各々3価イオン状b+ ZnおよびMgが2価
イオン状態より還元されない還元雰囲気中で加熱するこ
とによって得られる。
本発明に用いる出発物質は市販のものをそのまま使用し
てもよいが、化学反応を速やかに進行させるためには粒
径が小さい方がよく、特に10μ−以下であることが好
ましい。
また、光機能材料、半導体材料として用いる場合には不
純物の混入をきらうので、純度の高いことが好ましい。
出発物質が加熱により金属酸化物を得る化合物としては
、それぞれの金属の水酸化物、炭酸塩、硝酸塩等が挙げ
られる。
原料はそのまま、あるいはアルコール類、アセトン等と
共に充分に混合する。
原料の混合割合は、Yb+ Ga、 Zn、 Mgの割
合が原子比で1対1対1対1の割合であることが必要で
ある。これをはずすと目的とする化合物の単−相を得る
ことができない。
この混合物を大気中、酸化性雰囲気中あるいはYbおよ
びFeが各々3価イオン状kl Z’およびl’1gが
各々2価イオン状態から還元されない還元雰囲気中で6
00℃以上で加熱する。加熱時間は数時間もしくはそれ
以上である。加熱の際の昇温速度には制約はない。加熱
終了後急冷するか、あるいは大気中に急激に引き出せば
よい。
得られたYbGaZnMg0S化合物の粉末は無色であ
り、粉末X線回折法によって結晶構造を有することが分
かった。その結晶構造は層状構造であり、YbO+、s
層、(Ga、 Zn)Oz、s層、およびMgOjig
jの積み重ねによって形成されていることが分かった。
実施例 純度99.99%以上の酸化イッテルビウム(YbzO
z)粉末、純度99.9%以上の酸化ガリウム(Gaz
es)粉末、試薬特級の酸化亜鉛(ZnO)および試薬
特級の酸化マグネシウム(MgO)粉末をモル比で1対
1対2対2の割合に秤量し、めのう乳鉢内でエタノール
を加えて、約30分間部合し、平均粒径数μmの微粉状
混合物を得た。該混合物を白金管内に封入し、1300
℃に設定された管状シリコニット炉内に入れ、3日間加
熱し、その後、試料を炉外にとりだし室温まで急速に冷
却した。
得られた試料は、YbGaZnMgO5単−相であり、
粉末X線回折法によって各反射の面間隔(do)および
相対反射強度を測定した結果は衷−2の通りであった。
六方晶系としての格子定数は次の通りであった。
a =3.378  ±0.001  (人)C=21
.83  ±0.01  (人)上記の格子定数および
表−2の各面指数(h k J)より算出した面間隔(
dc(人))は、実測の面間隔(do(人))と極めて
よく一致していた。
発明の効果 本発明は光機能材料、半導体材料及び触媒として有用な
新規化合物を提供した優れた効果を有する。
特許出願人 科学技術庁無機材質研究所長潮  高  
信  雄 手続補正書 昭和42年 7月lり日 1 事件の表示 昭和62年特許願第021559号 2 発明の名称 ThGaZnMgO5で示される六方晶系の層状構造を
有する化合物およびその製造法 3 補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所 茨城県新治郡桜村並木1丁目1番地自発補正 5 補正の対象 :1)明細書第11頁6行から7行「て有用な・・・・
効果を有する。」を「て有用な新規化合物を提供する。
」と訂正する。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)YbGaZnMgO_5で示される六方晶系の層
    状構造を有する化合物。
  2. (2)金属イッテルビウムあるいは酸化イッテルビウム
    もしくは加熱により酸化イッテルビウムに分解される化
    合物と、金属ガリウムあるいは酸化ガリウムもしくは加
    熱により酸化ガリウムに分解される化合物と、金属亜鉛
    あるいは酸化亜鉛もしくは加熱により酸化亜鉛に分解さ
    れる化合物と、金属マグネシウムあるいは酸化マグネシ
    ウムもしくは加熱により酸化マグネシウムに分解される
    化合物とを、Yb、Ga、ZnおよびMgの割合が原子
    比で1対1対1対1の割合で混合し、該混合物を600
    ℃以上の温度で大気中、酸化性雰囲気中あるいはYbお
    よびGaが各々3価イオン状態、ZnおよびMgが2価
    イオン状態より還元されない還元雰囲気中で加熱するこ
    とを特徴とするYbGaZnMgO_5で示される六方
    晶系の層状構造を有する化合物の製造法。
JP2155987A 1987-01-30 1987-01-30 YbGaZnMgO↓5で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 Granted JPS63190714A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS606895A (ja) * 1983-06-24 1985-01-14 株式会社東芝 原子炉格納容器
JPS6024053A (ja) * 1983-07-20 1985-02-06 Toshiba Corp 半導体装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS606895A (ja) * 1983-06-24 1985-01-14 株式会社東芝 原子炉格納容器
JPS6024053A (ja) * 1983-07-20 1985-02-06 Toshiba Corp 半導体装置

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