JPS63175322A - カソ−ドの前処理方法 - Google Patents
カソ−ドの前処理方法Info
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- JPS63175322A JPS63175322A JP646687A JP646687A JPS63175322A JP S63175322 A JPS63175322 A JP S63175322A JP 646687 A JP646687 A JP 646687A JP 646687 A JP646687 A JP 646687A JP S63175322 A JPS63175322 A JP S63175322A
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Links
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 17
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
バリウムの含浸されたタングステンからなり電子線源と
するカソードを真空室に設置してそのカソードから所要
の電子線を出射させる際の、カソードの前処理において
、 付帯真空室を設け、カソードをその中で加熱処理してか
ら大気に曝すことなく真空室に設置することにより、 上記加熱処理の際に飛散するバリウムによる真空室の汚
染を防止したものである。
するカソードを真空室に設置してそのカソードから所要
の電子線を出射させる際の、カソードの前処理において
、 付帯真空室を設け、カソードをその中で加熱処理してか
ら大気に曝すことなく真空室に設置することにより、 上記加熱処理の際に飛散するバリウムによる真空室の汚
染を防止したものである。
本発明は、バリウムの含浸されたタングステンからなり
電子線源とするカソードを真空室に設置してそのカソー
ドから所要の電子線を出射させる際の、カソードの前処
理方法に関す。
電子線源とするカソードを真空室に設置してそのカソー
ドから所要の電子線を出射させる際の、カソードの前処
理方法に関す。
上記の電子線は、電子線を利用する技術、例えば電子ビ
ーム衝撃によるX線の出射やホトリソグラフィにおける
電子ビーム露光などに用いられる。
ーム衝撃によるX線の出射やホトリソグラフィにおける
電子ビーム露光などに用いられる。
そしてこれらのための装置のオーバホールなどによりカ
ソードを交換などした際には、大気に曝されたカソード
を設置するため、使用に先立ちカソードの前処理が必要
である。
ソードを交換などした際には、大気に曝されたカソード
を設置するため、使用に先立ちカソードの前処理が必要
である。
第2図は上記カソードの前処理の従来方法例の説明図で
ある。
ある。
同図において、1はバリウムの含浸されたタングステン
からなり電子線源とするカソード、2はカソード1を設
置してカソード1から所要の電子線を出射させる真空室
、3は真空室2を真空引きする真空ポンプ、4はカソー
ド1加熱用の電源、である。
からなり電子線源とするカソード、2はカソード1を設
置してカソード1から所要の電子線を出射させる真空室
、3は真空室2を真空引きする真空ポンプ、4はカソー
ド1加熱用の電源、である。
カソード1は、内部に電気ヒータが組み込まれており、
電源4からの電流供給により加熱されて電子線Eを出射
する。
電源4からの電流供給により加熱されて電子線Eを出射
する。
一方、真空室2に設置された直後のカソード1は、その
以前に大気に曝されて表面が酸化バリウムとなっている
ため、電子線の出射が十分でない。
以前に大気に曝されて表面が酸化バリウムとなっている
ため、電子線の出射が十分でない。
このため、使用に先立つ前処理として、表面にバリウム
を析出させるべく 、1O−5Torrより真空度の高
い空間で1200℃程度に加熱する加熱処理を行う必要
がある。
を析出させるべく 、1O−5Torrより真空度の高
い空間で1200℃程度に加熱する加熱処理を行う必要
がある。
従来は、カソード1を真空室2に設置した状態で、真空
ポンプ3を作動させながら電源4からの電流供給により
加熱して、上記の前処理を行っていた。
ポンプ3を作動させながら電源4からの電流供給により
加熱して、上記の前処理を行っていた。
しかしながら、前処理となる上記の加熱処理は、カソー
ド1からバリウムなどを飛散させるので、上述した従来
の前処理方法では、飛散したものが真空室2内を例えば
真空室2の内壁や不図示の電極などを汚染して、電子線
を出射させる際に不要の放電が発生したり絶縁不良を起
こしたりする問題がある。
ド1からバリウムなどを飛散させるので、上述した従来
の前処理方法では、飛散したものが真空室2内を例えば
真空室2の内壁や不図示の電極などを汚染して、電子線
を出射させる際に不要の放電が発生したり絶縁不良を起
こしたりする問題がある。
上記問題点は、バリウムの含浸されたタングステンから
なり電子線源とするカソードを設置して該カソードから
所要の電子線を出射させる真空室に対し、閉塞可能に繋
げた付帯真空室を設け、上記カソードを閉塞状態の該付
帯真空室内において加熱処理してから、該カソードを大
気に曝すことなく該真空室に設置する本発明の前処理方
法によって解決される。
なり電子線源とするカソードを設置して該カソードから
所要の電子線を出射させる真空室に対し、閉塞可能に繋
げた付帯真空室を設け、上記カソードを閉塞状態の該付
帯真空室内において加熱処理してから、該カソードを大
気に曝すことなく該真空室に設置する本発明の前処理方
法によって解決される。
従来方法において、電子線を出射させる真空室の先に述
べた汚染は、前処理となるカソードの加熱処理を該真空
室において行うことに起因している。
べた汚染は、前処理となるカソードの加熱処理を該真空
室において行うことに起因している。
本発明の方法によれば、閉塞状態にした上記付帯真空室
内においてこの加熱処理を行うので、この際にカソード
から飛散するものは、電子線を出射させる真空室へ入り
込むことがない。このことから該真空室は、この加熱処
理による汚染が全くない。
内においてこの加熱処理を行うので、この際にカソード
から飛散するものは、電子線を出射させる真空室へ入り
込むことがない。このことから該真空室は、この加熱処
理による汚染が全くない。
また上記加熱処理の済んだカソードは、大気に曝される
ことなく該真空室に設置されるので、その設置がなされ
たところで電子線を出射させる状態となる。
ことなく該真空室に設置されるので、その設置がなされ
たところで電子線を出射させる状態となる。
以下本発明方法の実施例について第1図の説明図により
説明する。全図を通じ同一符号は同一対象物を示す。
説明する。全図を通じ同一符号は同一対象物を示す。
第1図に示す実施例の前処理方法は、真空室2に対し閉
塞可能に繋げた付帯真空室5を付加し、その中でカソー
ド1の加熱処理を行い、加熱処理の済んだカソード1を
大気に曝すことなく真空室2に設置するものである。
塞可能に繋げた付帯真空室5を付加し、その中でカソー
ド1の加熱処理を行い、加熱処理の済んだカソード1を
大気に曝すことなく真空室2に設置するものである。
同図における6は真空室2と付帯真空室5との間のゲー
トバルブ、7は付帯真空室5を真空引きする真空ポンプ
、8はカソード1加熱用の電源、9は付帯真空室5内の
カソード1を真空室2に搬送して設置する搬送機構、で
ある。
トバルブ、7は付帯真空室5を真空引きする真空ポンプ
、8はカソード1加熱用の電源、9は付帯真空室5内の
カソード1を真空室2に搬送して設置する搬送機構、で
ある。
即ち、先ず、ゲートバルブ6を閉じた状態でカソード1
を付帯真空室5に入れ、真空ポンプ7により10″″’
Torrより真空度を高く引きながら、電源8からの電
流供給によりカソード1の温度を徐々に高め、1200
℃程度になったところで約10分間保持する。さすれば
、カソード1から飛散するバリウムは、一部が付帯真空
室5の内壁に付着し残部が上記真空引きにより排出され
る。そしてカソード1は、電子線を十分に出射し得る状
態になる。
を付帯真空室5に入れ、真空ポンプ7により10″″’
Torrより真空度を高く引きながら、電源8からの電
流供給によりカソード1の温度を徐々に高め、1200
℃程度になったところで約10分間保持する。さすれば
、カソード1から飛散するバリウムは、一部が付帯真空
室5の内壁に付着し残部が上記真空引きにより排出され
る。そしてカソード1は、電子線を十分に出射し得る状
態になる。
次いで、ゲートバルブ6を開き、加熱処理の済ませたカ
ソード1を搬送機構9により真空室2に搬送して設置し
、ゲートバルブ6を閉じて所望の前処理を完了する。
ソード1を搬送機構9により真空室2に搬送して設置し
、ゲートバルブ6を閉じて所望の前処理を完了する。
かくすることにより、真空室2はカソード1の前処理に
より汚染されることが全くなく、真空室2に設置された
カソード1は、加熱処理の後に大気に曝されていないの
で、電子線Eを出射させる状態となっている。
より汚染されることが全くなく、真空室2に設置された
カソード1は、加熱処理の後に大気に曝されていないの
で、電子線Eを出射させる状態となっている。
なお上記の実施例において、真空ポンプ3および7と電
源4および8とは、それぞれにおいて共通にすることが
可能である。
源4および8とは、それぞれにおいて共通にすることが
可能である。
以上説明したように本発明の構成によれば、バリウムの
含浸されたタングステンからなり電子線源とするカソー
ドを真空室に設置してそのカソードから所要の電子線を
出射させる際の、カソードの前処理において、加熱処理
の際に飛散するバリウムによる真空室の汚染を防止する
ことが出来て、電子線を出射させる際に真空室の上記汚
染に起因して生ずる不要の放電や絶縁不良を防止させる
効果がある。
含浸されたタングステンからなり電子線源とするカソー
ドを真空室に設置してそのカソードから所要の電子線を
出射させる際の、カソードの前処理において、加熱処理
の際に飛散するバリウムによる真空室の汚染を防止する
ことが出来て、電子線を出射させる際に真空室の上記汚
染に起因して生ずる不要の放電や絶縁不良を防止させる
効果がある。
第1図は本発明方法実施例の説明図、
第2図は従来方法例の説明図、
である。
図において、
1はカソード、
2は真空室、
3.7は真空ポンプ、
4.8は電源、
5は付帯真空室、
6はゲートバルブ、
9は搬送機構、
Eは電子線、
である。
パ;ノ゛
Claims (1)
- バリウムの含浸されたタングステンからなり電子線源と
するカソードを設置して該カソードから所要の電子線を
出射させる真空室に対し、閉塞可能に繋げた付帯真空室
を設け、上記カソードを閉塞状態の該付帯真空室内にお
いて加熱処理してから、該カソードを大気に曝すことな
く該真空室に設置することを特徴とするカソードの前処
理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP646687A JPS63175322A (ja) | 1987-01-14 | 1987-01-14 | カソ−ドの前処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP646687A JPS63175322A (ja) | 1987-01-14 | 1987-01-14 | カソ−ドの前処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63175322A true JPS63175322A (ja) | 1988-07-19 |
Family
ID=11639227
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP646687A Pending JPS63175322A (ja) | 1987-01-14 | 1987-01-14 | カソ−ドの前処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63175322A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007118170A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-05-17 | Hitachi Koki Co Ltd | 電動式釘打機 |
-
1987
- 1987-01-14 JP JP646687A patent/JPS63175322A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007118170A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-05-17 | Hitachi Koki Co Ltd | 電動式釘打機 |
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