JPS63174993A - 新規な電子受容性化合物及びその製造法 - Google Patents
新規な電子受容性化合物及びその製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
- C07F5/02—Boron compounds
- C07F5/027—Organoboranes and organoborohydrides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、新規な電子受容性化合物及びその製造法に関
する。
する。
従来の技術
従来、電子写真感光体における光導電層に用いられる電
荷輸送剤としては、種々のものが知られており、代表的
なものとしては、2,4.7−ドリニトロフルオレノン
があり、又、例えば、特公昭48−9988号公報及び
カナダ特許第912019号明細書には、ボロンを含む
化合物が記載されている。
荷輸送剤としては、種々のものが知られており、代表的
なものとしては、2,4.7−ドリニトロフルオレノン
があり、又、例えば、特公昭48−9988号公報及び
カナダ特許第912019号明細書には、ボロンを含む
化合物が記載されている。
発明が解決しようとする問題点
電子写真感光体は、コロトロンにあけるオゾンの発生防
止、J1像におけるトナーの帯電制御などの点から、正
帯電型のほうが望ましい。そのためには充分に有効な電
子輸送剤を用いることが必要であるが、従来提案されて
いるもので充分有効なものは知られていない。
止、J1像におけるトナーの帯電制御などの点から、正
帯電型のほうが望ましい。そのためには充分に有効な電
子輸送剤を用いることが必要であるが、従来提案されて
いるもので充分有効なものは知られていない。
本発明は、従来のこの様な問題点に鑑みてなされたもの
でおる。
でおる。
問題点を解決するための手段
本発明者等は、研究の結果、新規なポロン含有化合物を
合成し、そしてそれが電子輸送剤としても有効な電子受
容体であることを見出し、本発明を完成した。
合成し、そしてそれが電子輸送剤としても有効な電子受
容体であることを見出し、本発明を完成した。
本発明の新規な電子受容性化合物は、次の一般式(I>
で表わされる。
で表わされる。
[式中、Rは水素原子又は−B(Mes>2(但し、M
esはメシチル基)を表わす] 本発明の上記化合物は、下記一般式(II)で示される
ベンゾフェノン誘導体 (式中、Rは前記したと同意義を有する〉をマロンニト
リルと縮合させることにより製造することができる。
esはメシチル基)を表わす] 本発明の上記化合物は、下記一般式(II)で示される
ベンゾフェノン誘導体 (式中、Rは前記したと同意義を有する〉をマロンニト
リルと縮合させることにより製造することができる。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明において、4−ジメシチルポロペンゾフエノン又
は4.4′−ビスジメシチルボロペンゾフエノンとマロ
ンニトリルとの縮合反応は、溶媒中で、所望により触媒
の存在下、50℃乃至溶媒の沸点迄の温度で実施する。
は4.4′−ビスジメシチルボロペンゾフエノンとマロ
ンニトリルとの縮合反応は、溶媒中で、所望により触媒
の存在下、50℃乃至溶媒の沸点迄の温度で実施する。
溶媒としては、ピリジン;ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素:N、N−ジメチルホルムアミド
、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ゴ
ロリドン、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒;テトラ
ヒドロフラン等のエーテル類が用いられる。 これ等の
溶媒は二種以上の混合物として用いてもよい。 (こ
れ等の溶媒中、ピリジンは触媒を用いる必要がないので
好ましい。)又芳香族炭化水素を用いる場合には、反応
により生じる水を、溶媒と共沸混合物として除去しなが
ら反応を行うと、反応は円滑に進行するので好ましい。
ン等の芳香族炭化水素:N、N−ジメチルホルムアミド
、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ゴ
ロリドン、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒;テトラ
ヒドロフラン等のエーテル類が用いられる。 これ等の
溶媒は二種以上の混合物として用いてもよい。 (こ
れ等の溶媒中、ピリジンは触媒を用いる必要がないので
好ましい。)又芳香族炭化水素を用いる場合には、反応
により生じる水を、溶媒と共沸混合物として除去しなが
ら反応を行うと、反応は円滑に進行するので好ましい。
触媒としては、アンモニア又はジエチルアミン、ベンジ
ルアミン、ピペリジン、モルホリン等の有機アミン、又
はこれら有機アミンの酢酸塩等が使用される。
ルアミン、ピペリジン、モルホリン等の有機アミン、又
はこれら有機アミンの酢酸塩等が使用される。
本発明における出発原料として用いられる4−ジメシチ
ルボロペンゾフエノン又は4,4′−ビスジメシチルポ
ロペンゾフエノンは、次の反応工程によって合成される
。
ルボロペンゾフエノン又は4,4′−ビスジメシチルポ
ロペンゾフエノンは、次の反応工程によって合成される
。
<fit) (IV)(V)
(I[)(式中
、Xはハロゲン原子を表わし、Yは水素原子又はハロゲ
ン原子を表わし、Rは前記した定義と同じものを意味す
る) 即ち、一般式(I[I)で示される4−ハロゲノベンゾ
フェノン又は4,4′−ジハロゲノベンゾフェノンとエ
チレングリコールとを少量の有機スルホン酸の存在下、
ベンゼン、トルエン等の有機溶剤中で加熱還流させるこ
とによって、一般式(IV)で示されるエチレンケター
ルを形成する。
(I[)(式中
、Xはハロゲン原子を表わし、Yは水素原子又はハロゲ
ン原子を表わし、Rは前記した定義と同じものを意味す
る) 即ち、一般式(I[I)で示される4−ハロゲノベンゾ
フェノン又は4,4′−ジハロゲノベンゾフェノンとエ
チレングリコールとを少量の有機スルホン酸の存在下、
ベンゼン、トルエン等の有機溶剤中で加熱還流させるこ
とによって、一般式(IV)で示されるエチレンケター
ルを形成する。
次いで、得られたエチレンケタールをジメシチル弗化は
う素と反応させて一般式(V)で示される化合物を合成
するが、この場合、(1)グリニ・ヤール反応を利用す
る方法、又は(2)ハロゲン金属交換反応を利用する方
法が採用される。
う素と反応させて一般式(V)で示される化合物を合成
するが、この場合、(1)グリニ・ヤール反応を利用す
る方法、又は(2)ハロゲン金属交換反応を利用する方
法が採用される。
(1)の反応を利用する方法は、例えば、下記の反応式
よりなるもので、 4−ハロゲノベンゾフェノンエチレンケタールをエーテ
ル又はテトラヒドロフラン中で金属マグネシウムと反応
させて、グリニヤール試薬を形成させ、それをジメシチ
ル弗化はう素と常法によって反応させることよりなる。
よりなるもので、 4−ハロゲノベンゾフェノンエチレンケタールをエーテ
ル又はテトラヒドロフラン中で金属マグネシウムと反応
させて、グリニヤール試薬を形成させ、それをジメシチ
ル弗化はう素と常法によって反応させることよりなる。
又、(2)の反応を利用する方法は、例えば、下記の反
応式よりなるもので、 4−ハロゲノベンゾフェノンエチレンケタールを、エー
テル又は石油エーテル等の溶媒中−70°C7’J至室
温においてn−ブチルリチウムの如きアルキルリチウム
化合物と作用させて4−リチウムベンゾフェノンエチレ
ンケタールとし、続いてジメシチル弗化はう素を添加し
て反応させることよりなる。これ等の中でも(2)の反
応を利用する方法が反応性が高いので有利である。
応式よりなるもので、 4−ハロゲノベンゾフェノンエチレンケタールを、エー
テル又は石油エーテル等の溶媒中−70°C7’J至室
温においてn−ブチルリチウムの如きアルキルリチウム
化合物と作用させて4−リチウムベンゾフェノンエチレ
ンケタールとし、続いてジメシチル弗化はう素を添加し
て反応させることよりなる。これ等の中でも(2)の反
応を利用する方法が反応性が高いので有利である。
次いで、一般式(V)で示されるエチレンケタールを、
塩酸等の鉱酸の存在下、メタノール、エタノール或いは
ジメチルケトン等の溶媒中で加熱還流させ、一般式(I
I)で示される本発明の出発物質を合成する。
塩酸等の鉱酸の存在下、メタノール、エタノール或いは
ジメチルケトン等の溶媒中で加熱還流させ、一般式(I
I)で示される本発明の出発物質を合成する。
本発明の前記一般式(I>で示される電子受容性化合物
は、電子写真感光体の増感剤又は電子輸送剤として有用
である。即ち、導電性支持体上に設け′られた感光層が
単層構造の場合には、増感剤として用いられ、又、電荷
発生層と電荷輸送層とに機能分離された積層構造の場合
には、電荷輸送層における電子輸送剤として用いられる
。
は、電子写真感光体の増感剤又は電子輸送剤として有用
である。即ち、導電性支持体上に設け′られた感光層が
単層構造の場合には、増感剤として用いられ、又、電荷
発生層と電荷輸送層とに機能分離された積層構造の場合
には、電荷輸送層における電子輸送剤として用いられる
。
実施例
以下、本発明を実施例、応用例及び比較例によって説明
する。
する。
実施例1
4−ブロモベンゾフェノン 259エチレング
リコール 50 (jp−トルエンス
ルホン酸 1.8g上上記弁をトルエン8
00d中で200時間還流た後、希N a 2 CO3
溶液、続いて水で充分洗浄した。N a 2 S O4
で乾燥後、溶媒を留去し、残渣をMeOH(メタノール
)から再結晶して、4−ブロモベンゾフェノンエチレン
ケタール159を得た。mp、54〜56°C 4−ブロモベンゾフェノンエチレンケタール8.09を
100戒のエーテル中、窒素気流下攪拌し、その溶液に
n C4HgL!のヘキサン溶液(1,72モル濃度
)を16d加え、室温下で5分間攪拌し、次にジメシチ
ルボロンフルオライド((Mes)28F>8.8gを
100dのエーテルに溶かした溶液をできるだけ素早く
加えた。
リコール 50 (jp−トルエンス
ルホン酸 1.8g上上記弁をトルエン8
00d中で200時間還流た後、希N a 2 CO3
溶液、続いて水で充分洗浄した。N a 2 S O4
で乾燥後、溶媒を留去し、残渣をMeOH(メタノール
)から再結晶して、4−ブロモベンゾフェノンエチレン
ケタール159を得た。mp、54〜56°C 4−ブロモベンゾフェノンエチレンケタール8.09を
100戒のエーテル中、窒素気流下攪拌し、その溶液に
n C4HgL!のヘキサン溶液(1,72モル濃度
)を16d加え、室温下で5分間攪拌し、次にジメシチ
ルボロンフルオライド((Mes)28F>8.8gを
100dのエーテルに溶かした溶液をできるだけ素早く
加えた。
なお、ジメシチルポロンフルオライド
((Mes)28F>はカナダ特許第912,019
号明細書に記載の方法と同様の方法により合成した。
号明細書に記載の方法と同様の方法により合成した。
加え終った後、2.5時間還流し、冷却した後、200
r、eの水を加えエーテル層を分離し、ざらに、水層を
塩化メチレン30mで2回抽出した。有機層をすへてま
とめて乾燥した後、溶媒を減圧留去した。残渣をエタノ
ール400d、水20In1、濃塩酸2Od中で5時間
速流後、500m1の水を加え、析出した結晶を分離し
、メタノール/ヘキサンより再結晶して4−ジメシチル
ボロベンゾフエノン7gを得た。
r、eの水を加えエーテル層を分離し、ざらに、水層を
塩化メチレン30mで2回抽出した。有機層をすへてま
とめて乾燥した後、溶媒を減圧留去した。残渣をエタノ
ール400d、水20In1、濃塩酸2Od中で5時間
速流後、500m1の水を加え、析出した結晶を分離し
、メタノール/ヘキサンより再結晶して4−ジメシチル
ボロベンゾフエノン7gを得た。
次に、4−ジメシチルボロベンゾフエノンを1.59と
マロンニトリル0.75gとピリジン30rIIi中で
、窒素気流下8時間還流した。その竣、ピリジンを減圧
留去し、残渣を塩化メチレンに溶解した後、乾燥し、塩
化メチレンを減圧留去した。
マロンニトリル0.75gとピリジン30rIIi中で
、窒素気流下8時間還流した。その竣、ピリジンを減圧
留去し、残渣を塩化メチレンに溶解した後、乾燥し、塩
化メチレンを減圧留去した。
残渣をメタノール/CH2Cl2から再結晶して目的化
合物(No、1>(一般式におけるR=水素原子>1.
1yを得た。
合物(No、1>(一般式におけるR=水素原子>1.
1yを得た。
mp、159〜160’C
マススペクトル M 478
元素分析 CHN
計算値 85.36 6,53 5.86実測値
85.50 6.35 5.93I R2224cm
−1(にBr) NMR7,60−7,15ppm(Ar、9H)、6.
76pl)m(S、4H)。
85.50 6.35 5.93I R2224cm
−1(にBr) NMR7,60−7,15ppm(Ar、9H)、6.
76pl)m(S、4H)。
2、26ppm(S、 6旧、 1.95pl)m(S
、 12H)。
、 12H)。
(CDCI 3 )
実施例2
4.4−−ジブロモベンゾフェノン 20 9エチレン
グリコール 50 9p−トルエンスル
ホン酸 1.8g上記成分をトルエン80
0威中で20時間遠流した後、実施例1と同様の処理を
して、4,4′−ジブロモベンゾフェノンエチレンケタ
ールを13g得た。rrl、103〜104℃(エタノ
ール) 次に4.4′−ジブロモベンゾフェノンエチレンケター
ル6.0gを10011dlのエーテル中、窒素気流下
攪拌し、その溶液にn C4HgL!のヘキサン溶液
(1,72モル濃度)を19.2m加え、空温下で5分
間攪拌した後に、 (MeS)28F 8.7gの100mgエーテル溶
液をできるだけ素早く加え、2.5時間還流後、実施例
1と同様の処理、反応を行って、4,4′−ビスジメシ
チルボロペンゾフエノン7.3gを得た。mp、130
〜140℃(エタノール/CH2Cl2> 次に、4,4′−ビスジメシチルボロペンゾフエノン7
9とマロンニトリル1.49をピリジン100!ni中
で8時間還流した後、実施例1と同様の処理を行って目
的化合物(No、2>(一般式におけるR=−B (M
es)2>を5.2g得た。
グリコール 50 9p−トルエンスル
ホン酸 1.8g上記成分をトルエン80
0威中で20時間遠流した後、実施例1と同様の処理を
して、4,4′−ジブロモベンゾフェノンエチレンケタ
ールを13g得た。rrl、103〜104℃(エタノ
ール) 次に4.4′−ジブロモベンゾフェノンエチレンケター
ル6.0gを10011dlのエーテル中、窒素気流下
攪拌し、その溶液にn C4HgL!のヘキサン溶液
(1,72モル濃度)を19.2m加え、空温下で5分
間攪拌した後に、 (MeS)28F 8.7gの100mgエーテル溶
液をできるだけ素早く加え、2.5時間還流後、実施例
1と同様の処理、反応を行って、4,4′−ビスジメシ
チルボロペンゾフエノン7.3gを得た。mp、130
〜140℃(エタノール/CH2Cl2> 次に、4,4′−ビスジメシチルボロペンゾフエノン7
9とマロンニトリル1.49をピリジン100!ni中
で8時間還流した後、実施例1と同様の処理を行って目
的化合物(No、2>(一般式におけるR=−B (M
es)2>を5.2g得た。
mp、245〜247.5°C(CI−12CI 2/
メタノール) マススペクトル M+ 727 元素分析 CHN 計算値 85.96 7.21 3.88実測値
85.57 7.24 3.73I R2224CI
It−1(KBr)N M R7,55ppm(d、
4M)、 7.32pDIIl(d、 4H)、 6.
78ppm(S、 8H)、 2.29ppm(S、
12H)、 1.96ppm(S、24H)、 (CD
CI3) 応用例1 導電性基板上に三方晶型−3e/ポリビニルカルバゾー
ル(三方晶−8e 70wt%)からなる電荷発生層
(2,5μm)を設け、その上に、化合物No、10.
59、ビスフェノール(A>ポリカーボネート(マクロ
ロン5705 ) 0.759を塩化メチレン7gに溶
かした溶液を、湿潤時のギャップ5m1l(ミル)で塗
布し、80℃で1時間乾燥して電子写真感光体を作製し
た。これについて、静電複写紙試験装置(川口理研5P
428)で+800V又は−800Vk:帯IL、、5
ルツクスの白色光を露光し、感度を測定した。
メタノール) マススペクトル M+ 727 元素分析 CHN 計算値 85.96 7.21 3.88実測値
85.57 7.24 3.73I R2224CI
It−1(KBr)N M R7,55ppm(d、
4M)、 7.32pDIIl(d、 4H)、 6.
78ppm(S、 8H)、 2.29ppm(S、
12H)、 1.96ppm(S、24H)、 (CD
CI3) 応用例1 導電性基板上に三方晶型−3e/ポリビニルカルバゾー
ル(三方晶−8e 70wt%)からなる電荷発生層
(2,5μm)を設け、その上に、化合物No、10.
59、ビスフェノール(A>ポリカーボネート(マクロ
ロン5705 ) 0.759を塩化メチレン7gに溶
かした溶液を、湿潤時のギャップ5m1l(ミル)で塗
布し、80℃で1時間乾燥して電子写真感光体を作製し
た。これについて、静電複写紙試験装置(川口理研5P
428)で+800V又は−800Vk:帯IL、、5
ルツクスの白色光を露光し、感度を測定した。
帯11位 十aoo v −aoo v
初期感度dV/dt、 75− (V/SeC) 応用例2 化合物Nα2を用いた以外は、応用例1と同様にして電
子写真感光体を得た。
初期感度dV/dt、 75− (V/SeC) 応用例2 化合物Nα2を用いた以外は、応用例1と同様にして電
子写真感光体を得た。
応用例3
導電性基板上に化合物No10.5g及びポリビニルカ
ルバゾール0.75gを塩化メチレン7gに溶かして得
た溶液を、湿潤時のギャップ5m1l(ミル)で塗布し
、80℃で1時間乾燥して電子写真感光体を得た。
ルバゾール0.75gを塩化メチレン7gに溶かして得
た溶液を、湿潤時のギャップ5m1l(ミル)で塗布し
、80℃で1時間乾燥して電子写真感光体を得た。
応用例4
化合物No、 2を用いた以外は、応用例3と同様にし
て電子写真感光体を得た。
て電子写真感光体を得た。
比較例1
2.4.7−ドリニトロフルオレノン(以下、TNFと
略記)を用いた以外は、応用例1と同様にして電子写真
感光体を得た。
略記)を用いた以外は、応用例1と同様にして電子写真
感光体を得た。
比較例2
TNFを用いた以外は、応用例3と同様にして電子写真
感光体を得た。
感光体を得た。
これ等の電子写真感光体について、帯NN位+aoo
V及U −800V(7)場合の初期感度(dV/dt
)を以下に示す。
V及U −800V(7)場合の初期感度(dV/dt
)を以下に示す。
発明の効果
本発明の一般式(I)で表わされる電子受容性化合物は
、文献未記載の新規な物質であって、電子写真感光体に
おける増感剤又は電子輸送剤として有用である。特に、
導電性支持体上に電荷発生層、次いで電荷輸送層が積層
状態で形成されている正帯電型電子写真感光体における
電子輸送剤として優れた電子写真特性を示す。
、文献未記載の新規な物質であって、電子写真感光体に
おける増感剤又は電子輸送剤として有用である。特に、
導電性支持体上に電荷発生層、次いで電荷輸送層が積層
状態で形成されている正帯電型電子写真感光体における
電子輸送剤として優れた電子写真特性を示す。
Claims (2)
- (1)下記一般式( I )で示される電子受容性化合物
。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、Rは水素原子又は−B(Mes)_2(但し、
Mesはメシチル基)を表わす] - (2)下記一般式(II)で示されるベンゾフェノン誘導
体 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、Rは水素原子又は−B(Mes)_2(但し、
Mesはメシチル基)を表わす] をマロンニトリルと縮合させることを特徴とする下記一
般式( I )で示される電子受容性化合物の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは前記したと同意義を有する)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62004105A JPS63174993A (ja) | 1987-01-13 | 1987-01-13 | 新規な電子受容性化合物及びその製造法 |
US07/143,483 US4833263A (en) | 1987-01-13 | 1988-01-13 | Novel electron-accepting compound and method for preparing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62004105A JPS63174993A (ja) | 1987-01-13 | 1987-01-13 | 新規な電子受容性化合物及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63174993A true JPS63174993A (ja) | 1988-07-19 |
JPH0588716B2 JPH0588716B2 (ja) | 1993-12-24 |
Family
ID=11575509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62004105A Granted JPS63174993A (ja) | 1987-01-13 | 1987-01-13 | 新規な電子受容性化合物及びその製造法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4833263A (ja) |
JP (1) | JPS63174993A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5176976A (en) * | 1990-04-09 | 1993-01-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Organic electronic material and electrophotographic photosensitive member containing same |
US5484673A (en) * | 1990-07-10 | 1996-01-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2518366B2 (ja) * | 1988-11-16 | 1996-07-24 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子受容性化合物およびその製造方法 |
JP2518365B2 (ja) * | 1988-11-16 | 1996-07-24 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子受容性化合物およびその製造方法 |
TW466256B (en) * | 1995-11-24 | 2001-12-01 | Ciba Sc Holding Ag | Borate photoinitiator compounds and compositions comprising the same |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA912019A (en) * | 1972-10-10 | Eastman Kodak Company | Triarylboranes | |
US2150154A (en) * | 1937-06-19 | 1939-03-14 | Sharp & Dohme Inc | Production of secondary alkylidene cyanoacetic esters |
US3270045A (en) * | 1961-03-23 | 1966-08-30 | Gen Aniline & Film Corp | Diphenyl methylene-malononitrile compounds |
US3226388A (en) * | 1962-08-13 | 1965-12-28 | Du Pont | 9-dicyanomethylenenitrofluorenes and the charge-transfer compounds thereof |
US3607257A (en) * | 1968-08-27 | 1971-09-21 | Eastman Kodak Co | Photoconductive compositions and elements |
US3637798A (en) * | 1968-09-23 | 1972-01-25 | Union Carbide Corp | Carboxy 9-dicyanomethylene nitrofluorene |
US3549684A (en) * | 1968-10-11 | 1970-12-22 | Chris Craft Ind Inc | Production of o-chlorobenzalmalononitrile |
US4218392A (en) * | 1979-01-26 | 1980-08-19 | Gaf Corporation | Two-step method of making copolymerizable, ultraviolet light absorber _2-cyano-3,3-diphenylacryloxy) alkylene acrylic acid esters |
US4207253A (en) * | 1979-01-26 | 1980-06-10 | Gaf Corporation | Method of making copolymerizable, ultraviolet light absorber (2-cyano-3,3-diphenylacryloxy) alkylene acrylic acid esters |
-
1987
- 1987-01-13 JP JP62004105A patent/JPS63174993A/ja active Granted
-
1988
- 1988-01-13 US US07/143,483 patent/US4833263A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5176976A (en) * | 1990-04-09 | 1993-01-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Organic electronic material and electrophotographic photosensitive member containing same |
US5484673A (en) * | 1990-07-10 | 1996-01-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member |
EP0760492A1 (en) * | 1990-07-10 | 1997-03-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member |
US5677095A (en) * | 1990-07-10 | 1997-10-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4833263A (en) | 1989-05-23 |
JPH0588716B2 (ja) | 1993-12-24 |
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