JPS63170938U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例のエツチング終点検
出装置の縦断面図である。 １……真空分室、２……検出穴、３……真空処
理室、４……排気管、５……検出窓、６……検出
器。 第２図は第１図の実施例の縦断面図である。 １……真空分室、３……真空処理室、６……検
出器、７……真空ポンプ、８……真空ポンプ、９
……コントローラー、１０……電極、１１……Ｒ
Ｆ電源、１２……排気管。 第３図は本考案の他の実施例の縦断面図である
。 １，２……真空分室、３，４……検出穴、５…
…検出窓、６……検出器、７……コントローラー
、８……真空処理室、９……電極、１０……ＲＦ
電源、１１……真空ポンプ、１２……排気管。 第４図は従来のエツチング終点検出装置の使用
例を示す縦断面図である。 １……真空処理室、２……電極、３……ＲＦ電
源、４……検出窓、５……検出器、６……コント
ローラー。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 半導体基板上の被エツチング物をプラズマエツ
   チング装置でエツチングする際に、エツチング終
   了点を真空処理室の外部から光学的に検出する終
   点検出装置において、検出窓を有する真空分室を
   真空処理室に隣接させ、該真空分室と真空処理室
   との隔壁上で検出器の光軸と一致する点に検出穴
   を設けかつ前記真空分室を真空に保つことを特徴
   とするエツチングの終点検出装置。