JPH022829U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH022829U JPH022829U JP8120588U JP8120588U JPH022829U JP H022829 U JPH022829 U JP H022829U JP 8120588 U JP8120588 U JP 8120588U JP 8120588 U JP8120588 U JP 8120588U JP H022829 U JPH022829 U JP H022829U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- plasma
- opening
- deposition chamber
- chamber
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案実施例のＥＣＲプラズマＣＶＤ
装置の断面模式図、第２図はガス供給部の側面図
、第３図は第２図におけるＡ―Ａ線断面図である
。 ４……プラズマ室、５……デポジシヨン室、９
……開口、１０……ガス供給部、１１……小孔、
１２……絶縁材、１３……加熱手段。
装置の断面模式図、第２図はガス供給部の側面図
、第３図は第２図におけるＡ―Ａ線断面図である
。 ４……プラズマ室、５……デポジシヨン室、９
……開口、１０……ガス供給部、１１……小孔、
１２……絶縁材、１３……加熱手段。
Claims (1)
- プラズマが生成されるプラズマ室と、このプラ
ズマ室と開口を介して連つたデポジシヨン室と、
このデポジシヨン室側の開口近傍に設けられＳｉ
Ｈ４ガスまたはＳｉ２Ｈ６ガスを供給するガス供
給部と、このガス供給部を介して前記開口と対向
するように前記デポジシヨン室に配置された試料
台と、前記ガス供給部に配備され前記ＳｉＨ４ガ
スまたはＳｉ２Ｈ６ガスを加熱する加熱手段と、
から成る電子サイクロトロン共鳴プラズマＣＶＤ
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8120588U JPH022829U (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8120588U JPH022829U (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH022829U true JPH022829U (ja) | 1990-01-10 |
Family
ID=31305999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8120588U Pending JPH022829U (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH022829U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04198480A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-17 | Canon Inc | 機能性堆積膜製造装置 |
-
1988
- 1988-06-20 JP JP8120588U patent/JPH022829U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04198480A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-17 | Canon Inc | 機能性堆積膜製造装置 |