JPH0273737U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0273737U JPH0273737U JP15330788U JP15330788U JPH0273737U JP H0273737 U JPH0273737 U JP H0273737U JP 15330788 U JP15330788 U JP 15330788U JP 15330788 U JP15330788 U JP 15330788U JP H0273737 U JPH0273737 U JP H0273737U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core tube
- furnace core
- vapor deposition
- chemical vapor
- side walls
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 3
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
Description
第１図ａは本考案の一実施例を示す斜視図、第
１図ｂは同側面図、第２図ａは従来の化学的気相
成長装置の炉芯管を示す斜視図、第２図ｂは同側
面図である。 １…炉芯管、１ａ…炉芯管の底部、１ｂ，１ｃ
…炉芯管の対向側壁、２…ボート、４…ボートの
足部。
１図ｂは同側面図、第２図ａは従来の化学的気相
成長装置の炉芯管を示す斜視図、第２図ｂは同側
面図である。 １…炉芯管、１ａ…炉芯管の底部、１ｂ，１ｃ
…炉芯管の対向側壁、２…ボート、４…ボートの
足部。
Claims (1)
- 炉芯管中に成長ガスを導入し、そのガスを熱分
解することにより、炉芯管中に置かれたボートの
半導体基板上に絶縁膜を形成する化学的気相成長
装置において、前記ボートの足部を支える炉芯管
の対向側壁間の開き角度を鋭角として該対向側壁
を底部から立上らせたことを特徴とする化学的気
相成長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15330788U JPH0273737U (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15330788U JPH0273737U (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0273737U true JPH0273737U (ja) | 1990-06-05 |
Family
ID=31429028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15330788U Pending JPH0273737U (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0273737U (ja) |
-
1988
- 1988-11-25 JP JP15330788U patent/JPH0273737U/ja active Pending