JPS63170357A - キラルなアゼチジノンの製造方法 - Google Patents

キラルなアゼチジノンの製造方法

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JPS63170357A
JPS63170357A JP62266673A JP26667387A JPS63170357A JP S63170357 A JPS63170357 A JP S63170357A JP 62266673 A JP62266673 A JP 62266673A JP 26667387 A JP26667387 A JP 26667387A JP S63170357 A JPS63170357 A JP S63170357A
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JP
Japan
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group
azetidinone
reaction
tables
chiral
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Application number
JP62266673A
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English (en)
Inventor
新開 一朗
レリア エム.フユエンテス
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Merck and Co Inc
Original Assignee
Merck and Co Inc
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、所望のキラリティーを有するアゼチジノン中
間体を製造する立体規則性制御合成法に係るものであり
、このキラルなアゼチジノン中間体はカルバペネム合成
において重要である。
これまで、カルバペネム抗生物質、特Cニチェナマイシ
ンおよびイミペネム(米国特許第3.950,377号
および第4.194.047号参照)は、グラム−陰性
およびグラム−陽性細菌感染症の広範囲スペクトル治療
薬としてよく知られている。
これらのタイプの抗生物質薬剤の合成方法は、当業者の
技術でよく知られているところであり、その例示として
は、なかんずくメルク社(Merck & Co、 )
  の次の諸特許、即ち米国特許第4.543.257
号、第4,234,596号および第4.232.05
0号C二おいて明らかである。
より速かで安価な優れた製造方法を開発するだめに、こ
の領域での研究が絶えず実施されてきている。この分野
での一つの目標は。
出発原料のアゼチジノン中間体の各種合成方法(二向け
られてきている。
イミンとケテンの一段環化付加反応でアゼチジノンを合
成する方法は、当業者によく知られた技術であり1例え
ばエッチ・シュタウデインガーおよびニス、ヨロギン(
HlSta−udinger and S 、Jolo
gin)のへミツシエヘリヒテ(Chem、13er、
) 1911. 44 p。
375−Cおいて知られている。
テトラヘドロン レターズ(’petrahedron
I、etters )、 Vol、  23. A22
m  pp。
2293−96.(1982)でのライダーおよびグラ
ボウスキー(Re1der and Qrabo −w
ski)は、カルバペネム合成に有用な出発原料アゼチ
ジノンのキラル合成を、 (/’)−アスパラギン酸か
ら出発して4工程で行なっている。
グンダジョージ(Gunda George)は、テト
ラヘドロンレターズ(’I’etrahedron I
、etters)。
Vol 、 23.  腐3 2.  pp、229 
5−2296゜(1982)および同誌、 VOl、 
 25. /1655、  pp、5779−5786
CI984’Jにおいて、3−(S)−ヒドロキシブチ
レートおよびそのラセミ体をそれぞれ出発原料とするカ
ルバペネム合成に用いられることのできるアゼチジノン
中間体の一段合成法を記載している。
エム、シオザキおよび共同研究者(M。
3hiozaki et al 、 )は、テトラヘド
ロン(’petrahedron )、  Vol、 
 40.410.  pp。
1795−1802(1984)において。
L−トレオニンを出発原料として、カルバペネム合成に
有用な出発原料アゼチジノンに到達する5工程合成法【
二よるアゼチジノン中間体合成法を記載している。
エイズブルアおよび共同研究者(Aizpuruaet
al、)による引用例テトラヘドロンレターズ(Tet
rabeciron Letters ) 、 ’Vo
l 、 27 。
A36.pp、4359−4362(1986)では、
2−メチルシンナミリデンイミンと酸ハライドまたは相
当物との間の反応で、シス−ベーターラクタムの立体特
性化合物生成に導く反応が記載されている。
イイモリおよび共同研究者(Iimori etal 
、 )による引用例テトラヘドロンレターズ(’l’e
trahedron I、etters ) 、 Vo
l 、  27 、 A19、pp、、2149−21
52(1986)では、S−フェニル5(R)−ヒドロ
キシブタンチオエートから誘導されるビニルポランをN
−6−ドリメチルシリルー2−プロビニリデン−ベンジ
ルアミンと立体選択的アルドール型縮合を行なって、キ
ラルアゼチジノンを製造する方法が記載している。
ファルマダリア社(parmatalia)の英国特許
出願筒2144al 9号においては、一段反応で7ゼ
チジノンを製造する環化付加反応を開示しており、ここ
ではブロモブチリル中間体がその場で反応してブロモケ
テンを生成し、これが次にイミンと反応して直接キラル
アゼチジノンを生成している。しかしながら。
この方法で得られるアゼチジノンは、立体化学的に5 
(R) 、  3 (R)を有するアゼチジノンとなる
。従って、ブロモ誘導体が、目的とするトランス配置の
位置で水素を導入して還元し除去されなければならない
。得られたブロモ化合物の引続いての還元を必要とする
代りに。
反応5二よって目的とする立体化学的なアゼチジノン5
 fR) 、  3 TS)が直接合成されるのが望ま
しいこととなろう。
3−(R)−ヒドロキシブチレートを、Nが保護されて
いるイミン、C−アシル、−アリール、−アリールオキ
シ、またはアシルオキシイミンと、低温無水状態で反応
させることにより、キラルなブチレート化合物が初めに
その場で一時的なケテン中間体に転換され1次に温和な
条件下でケテン−イミン環化付加反応を受けて、直接ア
ゼチジノン中間体が得られ、これはカルバペネム合成に
必要な中間体であり、アゼチジノン中間体の3−炭素原
子中のヒドロキシエチル基は、  5(R1,3(S)
アゼチジノン立体配置への、続いての転換を必要としな
い。続くこの中間体のカルバペネム中間体への直接的転
換が標準合成法となっている。
本発明によれば、キラルなアゼチジノン化合物Hの製造
方法が提供される。
R’R2R’ 8i0 該製造方法は次のキラルブチリル化合物と。
R’R2R35iOO ■ 次のイミンとを この反応のための有機溶剤中で、ブチリル化合物からケ
テンを生成することのできる有機アミンの存在において
、−60℃から+1200Cの温度範囲で、目的とする
アゼチジノン■を得るの(二十分な時間接触させる工程
を含んでなるものである。ここ(=おいて、R,r(お
よびR3は、それぞれ独立的に反応条件下で不活性な基
により置換されることのできるC、−C,アルキルまた
はアリール基から選ばれ、Dはハロゲンまたは反応条件
下で効果的な有機反応基であり、Bは温和な条件下で酸
化、酸加水分解または接触還元で脱離できるイミン窒素
保護基であり、Aは反応条件下で不活性な基1例えばア
シルオキシまたはアリールオキシ基で置換されることが
できるC、−C,線状または分枝状のアシルまたはC6
−C8アロイル基である。
本発明の方法は、容易に次の反応工程囚人を参照するこ
とで、特徴を言い表わすことができて理解されることが
できるものである。
ブチリル化合物である反応工程図Aの化合物Iが、最初
に無水塩化メチレン中で有1幾塩基1例えば、ジイソプ
ロピルエチルアミンと一40℃で接触反応されてケテン
中間体即ち”■−ケテン”に転換されてから9例えば。
同一溶剤中で一40℃でイミン■と反応する。
イミン■との反応に従って起るケテン中間体の生成は、
結果として2種類のジアステレオマー、即ち目的とする
シスアゼチジノン■。
および別のシス異性体[aの生成となる。一般的に、縮
合反応では、トランス異性体生成が非常≦ニルないシス
付加反応となる。目的とする5 (R1、3(S)異性
体([)を両ジアステレオマーの結晶混合物から分別結
晶で分離した後で。
続いて、得られたシス異性体■を例えば酸化アルミニウ
ムに担持されたフッ化カリとTHF溶剤中で室温処理し
て、化合物■を得る。この化合物■の立体化学性は、こ
の状態で5(用。
3 fsl 、  4 (R1となっている。例えば、
温和な酸駿性条件下で■をテトラブチルアンモニウムフ
ルオリドで処理すると、3−位にあろヒドロキシエチル
基から保護鳩のシリル基が脱離されて、■を生成する。
例えば、■を、セリウム(IV)硝酸アンモニウムと処
理して、N−保護!&線除去ると化合物■が得られる。
次に化合物V[を1例えば、既知のバイヤー−ビリガー
貨化反応:二よりメタ−クロロ過安息香酸で処1哩する
と、目的とする中間体■が得られる。
反応工程図Bは、■を、よく知ら九ているカルバペネム
双環式ケトエステル中間体■に転換する反応を説明して
おり、この特別な目的のためのクリ証としてここC二米
国特許第4,318.912号に開示されたとおり示し
たものである。
(反応工程図A) v■ Aシに−L、:、  K−L;−リ (反応工程図B) ■ 上記の反応工程図Bは1本発明方法により得られる中間
体が、カルバペネム抗生* ′i 。
即ちチェナマイシンおよびイミペネムを合成するための
主要カルバペネム中1間本として有用であることを立証
している。
荷置式Iの説明の中に含まれているよう(二。
キラルブチレート化合物は、この化合物が溶剤中で付置
アミン塩基の存在下でケテンを生成できることが要求さ
れている。本発明のためには、ブチレートの炭素−6が
8立体配置にあることが必要である。3−位におけるヒ
ドロキシ基は、慣用されるシリコン保護基で保護される
ことができ、これは抗生物質合成技術で使用されるもの
であって1例えば、米国特許第4,196,211号で
開示されており。
ここではこの特別な目的のために例証として説明された
ものである。
R,R,R’は通常の置換基であり1例えば1本発明方
法C二おいて障害とならない基により置換されているこ
とができる C0−〇、線状または分枝状アルキルまた
はアリール基である。代表的な例には、メチル、エチル
、イソ−プロピル、ブチル、セカンダリ−ブチル、ター
シャリ−ブチル、およびペンチル、アリール基があり、
アリール基の場合にはフェニルおよび置換フェニルであ
ることができ、置換フェニルの置換基であり、目的とす
る反応を障害しない置換基例えばメトキシ。
クロル、またはニトロ基らが含まれている。
好適なシリル保護基としては、ジメチル−t−ブチルシ
リル、トリメチルシリル、フェニルジメチルシリル、ベ
ンジルジメチルシリルおよびこれに類する基がある。こ
の中でも好適なシリル保護基は、ジメチル−t−ブチル
シリル基である。
Dは、塩素、臭素、フッ素を含むハロゲン基、  op
−0(oph )2 、 イミジン−4,!iたは0(
C−0)R’から選ばれ、ここでR′は分枝状C3−C
4アルキル、例えばt−ブチルである。またph  は
フェニル基を表わしている。好適には、Dがクロル基で
あることである。特別なり基としては、ブチレート化合
物が有機塩基と接触反応したときに。
ケテンを官能的に生成することのできる効果的な有機脱
離基であることが特徴となっている。
出発物質の3−(R)(−)−ヒドロキシ酪酸は。
アルドリツヒケミカル社(Aldrich Chemi
cal(:o、)から、工業的製品として得られる。ま
た、ブチリル化合物は、導間学術誌9例えば。
ゼーバツバ、デー(5eebach 、 D 、 ) 
、+イムウ′インケルリート、エル、  (Imwin
kelried 、 Ro);ストツドキー、ゲー(5
tudky 、 a、 ) sアンゲヴアンドテ フエ
ミー(Angew 、(:hem 、工nt 。
Bd、)、19B6,25,178およびゼーバツハ、
デー(5eebach 、 D、 ) * ”:l−ガ
ー。
エム、エフ、  (Zuger 、M、 F、 ) *
ヘルヴエチ力 シミ力 アクタ(He1v 、Chum
 、 Acta ) 。
19B2,65,495に記述されているようなよ(知
られている方法に従って1合成されることができる。
イミン■は、好適には、置換基AおよびBがイミン上で
お互いにシス位にあるような構造である。しかしながら
、イミンはまたトランス配置であることもできるが、好
ましくはシス型構造であり、但しシス、トランスまたは
その混合物のいずれかであると理解されている。
Bは窒素−保護基であり、これは通常の操作法1例えば
温和な酸加水分解、普通に行なわれるセリウム硝酸アン
モニウム酸化開裂。
またはエタノール中のラネーニッケル触媒等の接触還元
等≦二よって、脱離しうるものである。
B置換基の代表的な例−二は、パラ−メトキシフェニル
、パラ−1−ブトキシフェニル。
3.4−ジメトキシフェニル、2.4−ジメトキシフェ
ニル、3,5−ジメチルフェニル。
およびこれに類する置換基がある。好適なのは、パラ−
メトキシフェニルである。
置換基Aは、アシル、アリール、アシルオキシまたはア
ロイルオキシで次の式で表わされ。
R−C−(0〕 ここでnは0または1であり、Rが例えばハロゲン、ニ
トロ、アルコキシ、即ちクロルまたはメトキシ基を含む
本発明方法の反応を障害しない電子供与基または電子吸
引基で置換されることができるC、−C,線状または分
枝状アルキルまたはC6C1+7リール、複素環基等で
ある。代表的な例には、メチル。
エチル、イソ−プロピル、ブチル、ペンチル。
フェニル、およびこれに類するものがある。
本反応【二好適なのは、フェニルまたはメチルである。
イミンを製造する方法には、アルデヒドまたはそれに対
応する化合物と一級アミンの間の縮合があり、これらは
1例えば、ファルラ−(Farrar )のRec 、
Chem 、prog 、 29 。
85−101 (196B)の文献に記載されており、
ここでは、この特別な目的のための引用例で具体的に説
明されている。
本発明方法は、一般的には、ケテンが不安定なので最初
にケテン(1)を溶剤中その場で発生させること鑑二よ
り行なわれるものであり。
これはブチリル構造Iを有機塩基と反応させることによ
って達成される。もしブチリル化合物が峻クロリドであ
る場合には、直接対応する駿を、オキサリルクロリド、
チオニルクロリドおよびこれ番二類する塩素化剤と液体
溶液の形でその侭か、またはジクロルメタンからの溶剤
中で、0℃から室温までの低温度で無水条件下で反応さ
せろことで合成されることができる。もしブチリル化合
物が反応脱離基D’&含むエステルである場合には、こ
れが。
直接、溶液中のイミン存在下二二使用されて。
ケテンを発生させる。
ケテン発生方法において使用される有機アミンは、窒素
含有有機アミンであって1通常のトリアルキルアミン、
トリアリールアミン。
または混合タイプであり9例えばモノアリールジアルキ
ルアミン、ヘテロアリールジアルキルアミン、窒素へテ
ロアリールアミンおよびこれらに類する化合物である。
代表的な窒素含有有機アミンには、トリエチルアミン。
トリメチルアミン、メチルジエチルアミン。
メチルジイソプロピルアミン、ピリジン、キノリン、N
−メチルピロリジン、  N、  N’−ジメチルピペ
ラジンおよびこれらに類する化合物力ある。好適には、
ジイソプロピルエチルアミンである。
ケテン発生方法は、不活性有機溶剤1例えば1−4個の
ハロゲン原子を含むC,−C4ハロゲン化炭化水素* 
 C2−c、直鎖または環状エーテルまたはアルキルニ
トリル等の不活性有機溶剤中で行なわれることができ2
条件としては、これらの有機溶剤が反応を妨害する反応
性官能基を含まないことと、これらの反応条件が無水の
状態で実施されろということである。代表的な例として
は、ハロゲン化アルカン、アルキルおよびシクロアルキ
ルエーテルおよびアルキルニトリルがあり9例えばジク
ロルメタン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンおよびこれらに類する化合
物である。好適には、ジクロルメタンである。
反応は、一般的に約−40℃から+6o℃の温度範囲で
行なわれる。一般的に、ケテン発生は低温で行なわれ、
イミン縮合は僅かにより高い温度で進行するよう(二な
っている。
反応は、常圧かまたは軽微の減圧から数気圧の加圧まで
の範囲で行なわれることができる。好適には常圧で行な
われる。
その場でのケテン発生に引続いて、イミンが一般的にそ
の場で溶剤中溶液と合わされて。
ケテン−イミン反応が、−20℃から室温までの非常に
低い温度で、無水状態の条件で起ることC二なる。この
反応は1反応時間として。
15分から1時間またはそれ以上のいずれかの時間を必
要とし、この反応時間は、ケテン−イミン反応を完結さ
せるための温和な条件と無水状態条件での期待収量C二
依存している。
反応方法を実施するための各種工夫を利用することがで
き、その中にはブチリル化合物−イミン混合物(;有機
アミンを添加する方法。
またはブチリル化合物(二有機アミンを添加してからイ
ミンを加える方法、または生成したケテンをイミンに加
える方法、およびこれらに類する変法がある。好適には
、ケテンを最初に生成し1次5ニイミンを、読いて添加
することである。
目的とする5 (R1,3(S)立体規則性を有するア
ゼチジノン構造体は2通常には約60%収率で得られる
。シス異性体■および@aの両者は、I[/Ha比率が
約60:40C得られ。
この場合(−望ましい異性体が異性体■であるので、こ
れは技術的に知られている標準的な方法1例えば分別結
晶法、カラムクロマトグラフィーまたは高圧液体クロマ
トグラフィー等で異性体Iを分別することになる。望ま
しい異性体■を反応混合物から分離精製してから、環上
4位のベータ水素がR配置に転換される:次に窒素保護
基を開裂脱離する;シリル保護基を除去してから、化合
物6ニバイヤー・ヴイリガー反応を適用し、化合物■が
誘導され、これが縮合反応C誘導く第一の中間体である
。これらの特殊反応方法の詳細とその実列は1次つ実施
例中(ユ与えられている。
本方法において使用される標準的な装置は。
特許請求されている本発明方法を実施するために有用な
ものである。
次の各実施例は1本発明を考えられているとおりに実施
する例示として与えられるものであって1本発明の4囲
および精神に制限となるものと解釈されてはならない。
実施例1 原料 メチル−(R) −3−ヒドロキシブチレート (り(
分子1−118.13)     42.00g、0.
355  molt−ブチルジメチルシリルクロリド 
54.26.’?、 o、36omol(分子量−15
0,73) イミダゾール       25.53g、 0.37
5mol(分子量−68,08) (1)のメチル−(R)−ヒドロキシブチレート42.
0.4i’ (0,355mol )、  t−ブチル
ジメチルシリルクロリド(TBDMS −CIり 54
.261(0,360mol )、イミダゾール25.
53 g(0,375m0+)の混合物t200−の無
水DMF中1=りれ、室温で12時間攪拌された。
得られた反応混合物に混合うキサン30〇−を添加し9
次にI N HC1!と水1QQmj+の混合液で20
0−ずつ3回抽出した後で、無水Mfi80<上で乾燥
し、減圧濃縮した。粗製品2カー81.23 F (9
8,5%〕得られたが、更に精製することなしで使用さ
れた。
1H−NMR(300MH2,CDC13)δ4.29
 (m、 CH3CHO8i ) ;5.67 (S、
 0CH3) ;2.43 (AB、 CH2Co□、
J−14,4゜7.7.5.3Hz):tl 9 (d
、 CH3CHO8i 、 J=6.1HzGO,86
(s、 t−Bu8i);0.07.0.04(2本s
、 Me、S i ) 。
工ff18. 3−(R) −(t−ブチルメチルシリ
ル原  料 メチル−(R)−3−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ〕ブチレート 〔略称(め−TBDMS−HOBA )(分子量= 2
32.22 ) (望 26.8r’j、 0.115
molLiOT((1,03M)       160
mg、 0.165mo12の(R) −TBD〜is
 −1−(OBA 26.81 (o、i 15mol
)を160ゴのT HF中(二人れ電磁攪拌されている
混合物中=二、i、osMのLiOH160−を添加し
た。反応混合物7M温で6時間攪拌した。
T HF ’a′減圧で除去して、粗製品二をCH2C
l2で抽出l−た。水層を濃塩酸でpH−4にまで酸性
(二した。水層がcH,、CI!2で100−ずつ2回
抽出して、 MgSO4上で乾燥し、減圧濃縮1−て1
9.59 gの互(93,8%)を無色液体として得た
高圧液体クロマトグラフィー(HPLC)試験:Al 
tex Ul trasphere−Qctyl、 5
μ、 25cmX4.6+mID+アセトニトリル:水
: H3P0.; 7[1:30:1.ン1゜1yd/
rILin。
210rLrrL、サンプル注入容量:10μl、a度
:ITN!/成分/−1保持時間(Retention
Times)  (min) ヒドロキシ酸メチルエステル、3.0;TBDMS−メ
チルエステル、10.4;TBDMS−酸、5.7 H−NMR(300NI(z、 CDCI りδ4.2
8(m、CH3CI(O8+) ;2.50(d、 C
’H(J2Co、 J =5.9Hz);1.24(d
、CH3CHO8i 。
J ==6.1 Hz); 0.89(S、止胆Si)
;0.10.0.09(2本S1M:2Si〕。
0CI(。
原  料 フェニルグリオキサールモノヒトラード(4)(分子量
= 152.15)      20.6g、 0.1
35molP−アニシジン(分子量−123,16);
5)16.7g、 0.155mo 1 分子諦3A        2[]、O,!i’フェニ
ルグリオキサールモノヒトラード(phcoclH○・
R20)4.P−アニシジン5.および分子J3A(ア
ルドリッヒ ケミカル(Aldrich Chemic
al)製〕の混合物≦二、  200−のCH2Cl2
を添加して、8詩間室温で攪拌した。生成物6濾過しテ
、  C’H2CJ2中0.65 Mになるように濃度
を調整した。この生成物を更に精製することなしに使用
した。
薄層クロマトグラフィー(TLC) :(1:1酢酸エ
チル/ヘキサン)Rf−0,90可視。
黄色スポット、  p−アニシジン Rf−0,70゜
高圧液体クロマトグラフィー()[PLC)保持時間=
16.0分。
原料 3−(R1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ〕酪酸
(TBDMS−HOBA) (分子!−218,29)(334,8+、!i’、2
2.13mmolオキサリルクロリド(分子量−129
,93,d−1,445)4、Qm71.44.25 
mmol 正味のTBDMS−HOBAΣ≦二、C○2ガス発生を
制却しながら室温でオキサリルクロリドを滴下した。室
温で15分後に、過剰のオキサリルクロリドを窒素C二
よる掃気で除去した。
生成物Aに完全に転換した後で、300MHzNMR試
験を行なった。
H−NMR(300MI(z 、 CDCl s )δ
4.35 (m、CH3CHO8i ) ;2.95 
(AB、 CHCH2Co、 J−15,3,7,8,
4,8H2) ;1.23(d、CH3CHO8i、J
−6,2Hz)、 0.88(S、 t−BuSi):
0.09(S、冶S1)。
原  料 ((支)−TBDMS−HOBAC分子量−232,3
2)1.0024.!F、 4.43mmolオキサリ
ルクロリド(分子量−129,93,d−1,445)
0.82s+j、 918 mmo 1ケト−イミン(
0,65M)7.45鴫4.45 mmo 1ipr、
Ngt(分子量−129,25,d−0,726)0.
92−J、 6.60r圃o1 醒クロリド7を、工程りの方法≦二元って合成した。こ
の精製されていない酸クロリドを。
次の環化付加反応に使用した。CH2Cl2中。
1.0当景の酸クロリド7の0.35 M溶液を一40
℃に冷却して、これC二1Pr2Nli:tの1.5当
量を加える。15分後;二、イミン8の0.65M溶液
(161当量)を加える。冷却槽を除去し1反応物を加
温し5時間0℃2二保持した。
酸水溶液抽出後(1o o −gN)(4cz) 、水
10〇−〕で、先浄し、有ニーS層を乾燥して(MgS
O4)。
減圧濃縮しジアステレオマー9および10の結晶混合物
2.02g(理論収量−i、 99 ji )を得た。
2鍾類の生成ジアステレオマーは。
酢酸エチル−ヘキサン中で0.25のRf差があり、シ
リカゲル上のフラッシュクロマトグラフィーで容易1二
分離された。9:10のジアステレオマー混合物が、 
 300 MHzH−NMRで測定されて60:40で
あった。
H−NMR(300MHz、 CDCl、 )δ8.5
0−7.15(m、 9H。
Ar−H):5.79 (d、 H,−6,J−6,4
H2) ;4.67 (m 。
CF(3C1(O8i −j) ; 4.55 (m、
 CH3C旦−08i−5):4.55(m、 CH3
CHO8i−6) :4.25 (dd、Hs i−J
−5,8,2,2H2) s4.17 (S、 0CH
3−6) ; 4.15 (S、 OCH3−5) ”
4.11 (dd、 H,−5,J−6,4,2゜2H
z) :1.71 (d。
CH3C1(O8i7fi、 J−6,2Hz);t<
57 (d、 CH3CHO8i−Ii。
J−6,4Hz);1.18(s、 t−Bu8i7q
);1.07(s。
t−BuSi−5);0.29.0.24.0.20.
0.00(4本S。
皇、Si場and互)。
実施例2 工SF、立体化学の相互関係: nBu、 NF脱保護基とアルミナ上フフ化旦 工程Eで前に得られた粗製反応生成物9の23、4 I
i:二、アルミナ上フッ化カリ67.8 ”IP’x 
5.0 =nt THF r=入れた液を加えた。、:
ノ溶iを濾過してから、室温で0.5時間n−Bu4N
F0.5−と反応し1次に減圧濃縮し、ラジアルクロマ
トグラフィーで精製して13.0Ryのトランス−ジア
ステレオマーβ−ラクタム11カ得られた。立体化学的
には、ハネシアンおよび共同研究者(Hanessia
n et al、)の米国化学会誌(J 、  Am、
Chem、5ac)  19 B 5゜107.143
8−1439に記載されていることで純Zのスペクトル
データを比較することで確認されたが、ここではこの特
別の目的のための例証として具体的に説明されている。
工程G、脱保護基およびバイヤー・つ′イリガー酸化 □ン ジアステレオマー異性体9が、アンモニウム セリウム
(Iv)硝酸塩で酸化脱アリール化反応にかけられて、
 NHβ−ラクタム 13が96.7%収率で得られた
。この反応は、ハネシアンおよび共同研究者(Hane
ssian et at、)の米国化学会誌(J、 A
”L Che”、S’(−) 1985 m107.1
438−14.159の文献方法に従ったものである。
訓読いてヨがバイヤー・つ゛イリガー酸化反応を受けて
、90%収率で14が得られた。この反応も、ハネシア
ンおよび共同研究者()(anessian et a
l 、  )の米国化学会誌(J、Am、 Chem、
3oc、) 19 B 5゜107.1438−143
9の文献コニよったものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、次式のキラルなアゼチジノン化合物を製造する方法
    に於いて、 ▲数式、化学式、表等があります▼III 次のキラルブチリル化合物と、 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 次のイミンとを ▲数式、化学式、表等があります▼II この反応のための有機溶剤中で、ブチリル 化合物からケテンを生成することのできる 有機アミンの存在下に−60℃から+120℃の温度範
    囲で目的とするアゼチジノンIII を得るのに十分な反応時間接触させる工程 を含んでなる製造方法〔ここにおいてR^1、R^2お
    よびR^3はそれぞれ独立に反応条件で不活性な基で置
    換することができるC_1−C_5アルキル基またはア
    リール基であり、Dは ハロゲンかまたは反応条件下で脱離する効 果的な有機基であり、Bは酸化、酸加水分 解、または接触還元等の温和条件下で脱離 しうるイミン窒素保護基であり、Aは反応 条件下で不活性基により置換されることが できるC_1−C_5線状または分枝状アシルまたはア
    シルオキシ基、C_6−C_8アロイルまたはアリール
    オキシ基である。〕。 2、温度が−40から+60℃の範囲にあることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記 載による方法。 3、有機溶剤が、ハロゲン化アルカン、アルキルエーテ
    ル、または環式エーテルから選 ばれることを特徴とする特許請求の範囲第 1項記載による方法。 4、第三級有機アミンが、トリ−C_1−C_5アルキ
    ルアミン、N−アルキロシクロアル キルアミンまたは複素環アミンから選ばれ ることを特徴とする特許請求の範囲第1項 記載による方法。 5、R^1R^2R^3Siが、ジメチル−t−ブチル
    シリル、トリメチルシリルまたはフエ ニルジメチルシリル基から選ばれることを 特徴とする特許請求の範囲第1項記載によ る方法。 6、Dがクロロ、ブロモ、ヨード、O−P−(oph)
    _2、イミダゾリル、または−O−C=(R^4)から
    選択されるものであり、ここでR^4がt−ブチルであ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載による方
    法。 7、Aがアセチル、プロピオニル、ベンゾイル、アセト
    キシ、プロピオネート、または ベンゾイルオキシ基から選ばれることを特 徴とする特許請求の範囲第1項記載による 方法。 8、Bがp−メトキシフエニル、2,4−ジメトキシフ
    エニル、3,5−ジメチルフエ ニルまたはp−メトキシベンジル基から選 ばれることを特徴とする特許請求の範囲第 1項記載による方法。 9、アゼチジノンが次式のとおりであることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載に よる方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 10、次式のキラルなアゼチジノンの製造方法において
    、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 次のキラルなブチリル化合物を、 室温、無水の条件でオキサリルクロリドと 反応させて、対応する次の酸クロリドを生 成し、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 次にこの生成酸クロリドを次のイミンと、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ジクロルメタン溶剤中で、−40℃で、ジ イソプロピルエチルアミンの存在下に接触 反応させ、そして−40℃から25℃の温 度範囲で、目的のキラルなアゼチジノンを 得るのに十分な時間、反応することを含ん でなる方法。
JP62266673A 1986-10-24 1987-10-23 キラルなアゼチジノンの製造方法 Pending JPS63170357A (ja)

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ES2021058B3 (es) 1991-10-16
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