JPH04230360A - 複素環誘導体 - Google Patents
複素環誘導体Info
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- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
- C07D405/04—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/085—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a nitrogen atom directly attached in position 3
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】本発明は抗菌活性を有する化合物の製造に
おいて有用な新規複素環化合物およびその製造法に関す
る。
おいて有用な新規複素環化合物およびその製造法に関す
る。
【0002】すなわち、本発明によれば一般式(I)
【
化8】 (式中、R1は水素原子またはヒドロキシル保護基であ
り、そして−X−Y−は−CH=CH−基または式(A
)
化8】 (式中、R1は水素原子またはヒドロキシル保護基であ
り、そして−X−Y−は−CH=CH−基または式(A
)
【化9】
のエポキシド基である)で表される化合物が提供される
。
。
【0003】好適なヒドロキシル保護基R1には緩衝条
件下または非水性条件下における加水分解により除去す
ることのできるものが含まれる。
件下または非水性条件下における加水分解により除去す
ることのできるものが含まれる。
【0004】OR1基が保護されたヒドロキシル基であ
る場合、これは好都合にはエーテルまたはアシルオキシ
基である。特に好適なエーテルの例にはR1がトリアル
キルシリルのようなヒドロカルビルシリル基例えばトリ
メチルシリルまたはより好ましくはt−ブチルジメチル
シリルのようなトリ(C1〜C6アルキル)シリルであ
るものが含まれる。
る場合、これは好都合にはエーテルまたはアシルオキシ
基である。特に好適なエーテルの例にはR1がトリアル
キルシリルのようなヒドロカルビルシリル基例えばトリ
メチルシリルまたはより好ましくはt−ブチルジメチル
シリルのようなトリ(C1〜C6アルキル)シリルであ
るものが含まれる。
【0005】OR1基がアシルオキシ基である場合、好
適なR1基の例にはアルカノイル例えばアセチルまたは
ピバロイル;アルケノイル例えばアリルカルボニル;ア
ロイル例えばp−ニトロベンゾイル;アルコキシカルボ
ニル例えばt−ブトキシカルボニル;ハロアルコキシカ
ルボニル例えば2,2,2−トリクロロエトキシカルボ
ニルまたは1,1,1−トリクロロ−2−メチル−2−
プロポキシカルボニル;アラルキルオキシカルボニル例
えばベンジルオキシカルボニルまたはp−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル;またはアルケニルオキシカルボニ
ル例えばアリルオキシカルボニルが含まれる。
適なR1基の例にはアルカノイル例えばアセチルまたは
ピバロイル;アルケノイル例えばアリルカルボニル;ア
ロイル例えばp−ニトロベンゾイル;アルコキシカルボ
ニル例えばt−ブトキシカルボニル;ハロアルコキシカ
ルボニル例えば2,2,2−トリクロロエトキシカルボ
ニルまたは1,1,1−トリクロロ−2−メチル−2−
プロポキシカルボニル;アラルキルオキシカルボニル例
えばベンジルオキシカルボニルまたはp−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル;またはアルケニルオキシカルボニ
ル例えばアリルオキシカルボニルが含まれる。
【0006】式(I)において、くさび形結合は紙面の
上の結合を示し、そして破線結合は紙面の下の結合を示
す。
上の結合を示し、そして破線結合は紙面の下の結合を示
す。
【0007】式(I)で定義したような固定された立体
化学配置の他に、分子はさらに少なくとも1つの不斉中
心を含有し、そしてX−Yがエポキシド(A)である場
合、さらに2個の別の不斉中心がある。これらの別の不
斉中心から生じるこれらの混合物を含むすべての立体異
性体は式(I)の化合物の範囲内である。式(I)の特
定の立体異性体は式(Ia)〜(If)で表わすことが
できる。
化学配置の他に、分子はさらに少なくとも1つの不斉中
心を含有し、そしてX−Yがエポキシド(A)である場
合、さらに2個の別の不斉中心がある。これらの別の不
斉中心から生じるこれらの混合物を含むすべての立体異
性体は式(I)の化合物の範囲内である。式(I)の特
定の立体異性体は式(Ia)〜(If)で表わすことが
できる。
【0008】
【化10】
【0009】本発明の好ましい化合物には式(Ia)の
化合物が含まれ、そしてX−Yがエポキシド基(A)で
あるその相当する化合物(I)のうち、式(Ic)の化
合物が特に好ましい。
化合物が含まれ、そしてX−Yがエポキシド基(A)で
あるその相当する化合物(I)のうち、式(Ic)の化
合物が特に好ましい。
【0010】式(I)の特に好ましい化合物はR1がヒ
ドロキシル保護基である化合物である。
ドロキシル保護基である化合物である。
【0011】R1がヒドロキシル保護基であり、そして
X−Yがエポキシド基(A)である式(I)の化合物は
X−Yが−CH=CH−基であるその相当する式(I)
の化合物をエポキシ化することによって製造できる。エ
ポキシ化は好都合には式(I)のシクロアルケンを過酸
で処理することによって行うことができる。好適な過酸
には場合によっては置換された過安息香酸例えば過安息
香酸またはメタクロロ過安息香酸;過アルカン酸例えば
過酢酸およびトリフルオロ過酢酸およびモノペルオキシ
フタル酸の塩例えばそのマグネシウム塩が含まれる。反
応はハロ炭化水素例えばジクロロメタンのような溶媒中
、好都合には−30〜30℃の範囲の温度で行うことが
できる。モノペルオキシフタル酸の塩を用いる反応の場
合、これは好都合には水および水混和性溶媒例えばジク
ロロメタンのようなハロ炭化水素の存在下で行われる。 このエポキシ化反応においては、アルケニル基を含まな
い保護基R1を使用することが望ましい。
X−Yがエポキシド基(A)である式(I)の化合物は
X−Yが−CH=CH−基であるその相当する式(I)
の化合物をエポキシ化することによって製造できる。エ
ポキシ化は好都合には式(I)のシクロアルケンを過酸
で処理することによって行うことができる。好適な過酸
には場合によっては置換された過安息香酸例えば過安息
香酸またはメタクロロ過安息香酸;過アルカン酸例えば
過酢酸およびトリフルオロ過酢酸およびモノペルオキシ
フタル酸の塩例えばそのマグネシウム塩が含まれる。反
応はハロ炭化水素例えばジクロロメタンのような溶媒中
、好都合には−30〜30℃の範囲の温度で行うことが
できる。モノペルオキシフタル酸の塩を用いる反応の場
合、これは好都合には水および水混和性溶媒例えばジク
ロロメタンのようなハロ炭化水素の存在下で行われる。 このエポキシ化反応においては、アルケニル基を含まな
い保護基R1を使用することが望ましい。
【0012】X−Yが−CH=CH−基である式(I)
の化合物はその相当するトシルヒドラゾン(II)
の化合物はその相当するトシルヒドラゾン(II)
【化
11】 (式中、R1はヒドロキシル保護基である)をアルキル
リチウム例えばメチルまたはブチルリチウムあるいはリ
チウムジイソプロピルアミドのような塩基で処理するこ
とによって製造できる。反応は好都合にはエーテル例え
ばテトラヒドロフランのような非プロトン溶媒中、−5
0℃〜0℃の温度において行われる。
11】 (式中、R1はヒドロキシル保護基である)をアルキル
リチウム例えばメチルまたはブチルリチウムあるいはリ
チウムジイソプロピルアミドのような塩基で処理するこ
とによって製造できる。反応は好都合にはエーテル例え
ばテトラヒドロフランのような非プロトン溶媒中、−5
0℃〜0℃の温度において行われる。
【0013】トシルヒドラゾン(II)はシクロヘキサ
ノン誘導体(III)
ノン誘導体(III)
【化12】
(式中、R1はヒドロキシル保護基である)をトシルヒ
ドラジド(IV)
ドラジド(IV)
【化13】
と酢酸エチル、アルカノール例えばメタノールまたはエ
ーテル例えばテトラヒドロフランのような好適な溶媒中
、酸触媒例えば酢酸の存在下で反応させることによって
製造できる。
ーテル例えばテトラヒドロフランのような好適な溶媒中
、酸触媒例えば酢酸の存在下で反応させることによって
製造できる。
【0014】シクロヘキサノン誘導体(III)はアゼ
チジノン(V)
チジノン(V)
【化14】
(式中、R1はヒドロキシル保護基である)を1−トリ
メチルシリルオキシシクロヘキセンとトリメチルシリル
トリフルオロメタンスルホネートの存在下で反応させる
ことによって製造できる。この反応は好都合にはジクロ
ロメタンのような溶媒中で行われる。
メチルシリルオキシシクロヘキセンとトリメチルシリル
トリフルオロメタンスルホネートの存在下で反応させる
ことによって製造できる。この反応は好都合にはジクロ
ロメタンのような溶媒中で行われる。
【0015】この反応において、シクロヘキサノン誘導
体(III)は一般に2つの異性体(IIIa)および
(IIIb)
体(III)は一般に2つの異性体(IIIa)および
(IIIb)
【化15】
の混合物として得られ、必要ならばこれら2つの化合物
はカラムクロマトグラフィーのような慣用の方法によっ
て分離することができる。
はカラムクロマトグラフィーのような慣用の方法によっ
て分離することができる。
【0016】式(V)のアゼチジノンは既知化合物であ
るか、または既知化合物について記載されている方法と
同様にして製造することができる。
るか、または既知化合物について記載されている方法と
同様にして製造することができる。
【0017】別法として、R1がヒドロキシル保護基で
ある式(Ia)の化合物はアゼチジノン(V)から3−
ハロ−シクロヘキセン例えば3−ブロモ−シクロヘキセ
ンとスズまたは亜鉛のような金属の存在下、エーテル例
えばテトラヒドロフランまたはジエチルエーテルあるい
は炭化水素例えばベンゼンまたはトルエンのような好適
な溶媒中で反応させることによって製造することができ
る。
ある式(Ia)の化合物はアゼチジノン(V)から3−
ハロ−シクロヘキセン例えば3−ブロモ−シクロヘキセ
ンとスズまたは亜鉛のような金属の存在下、エーテル例
えばテトラヒドロフランまたはジエチルエーテルあるい
は炭化水素例えばベンゼンまたはトルエンのような好適
な溶媒中で反応させることによって製造することができ
る。
【0018】式(Ia)〜(If)で表される式(I)
の個々の異性体は上記の一般方法により出発物質の適当
な立体異性体を用いて製造することができる。すなわち
、エポキシ化反応が式(Ia)の化合物を用いて行われ
る場合、反応生成物は使用する酸化剤および反応条件に
応じて式(Ic)または(Id)の化合物あるいはこれ
らの混合物である。
の個々の異性体は上記の一般方法により出発物質の適当
な立体異性体を用いて製造することができる。すなわち
、エポキシ化反応が式(Ia)の化合物を用いて行われ
る場合、反応生成物は使用する酸化剤および反応条件に
応じて式(Ic)または(Id)の化合物あるいはこれ
らの混合物である。
【0019】出発物質としてその相当する化合物(Ib
)を使用すると、化合物(Ie)または(If)、ある
いはこれらの混合物が得られる。
)を使用すると、化合物(Ie)または(If)、ある
いはこれらの混合物が得られる。
【0020】化合物(Ic)および(Id)、および/
または(Ie)および(If)はカラムクロマトグラフ
ィーのような慣用の方法を用いて互いに分離することが
できる。
または(Ie)および(If)はカラムクロマトグラフ
ィーのような慣用の方法を用いて互いに分離することが
できる。
【0021】式(Ia)または(Ib)の立体異性体は
上記の方法により適当なシクロヘキサノン(IIIa)
または(IIIb)を出発物質として用いて製造するこ
とができる。
上記の方法により適当なシクロヘキサノン(IIIa)
または(IIIb)を出発物質として用いて製造するこ
とができる。
【0022】R1が水素原子である式(I)の化合物は
R1がヒドロキシル保護基である化合物からこのような
基を除去するための慣用の方法を用いて製造することが
できる。
R1がヒドロキシル保護基である化合物からこのような
基を除去するための慣用の方法を用いて製造することが
できる。
【0023】R1がヒドロキシル保護基である式(I)
の化合物、例えばアルケニル部分を含むものはR1が水
素原子である式(I)の化合物からこのような保護され
たヒドロキシル官能基を製造するための慣用の方法を用
いて製造することができる。
の化合物、例えばアルケニル部分を含むものはR1が水
素原子である式(I)の化合物からこのような保護され
たヒドロキシル官能基を製造するための慣用の方法を用
いて製造することができる。
【0024】式(I)の化合物は有用な抗菌活性を有す
る化合物を製造するための中間体として有用である。す
なわち、式(I)の化合物はヨーロッパ特許出願公報N
o.0416953Aに記載された抗菌性化合物を製造
するために使用することができる。例えば化合物(I)
は式(VI)
る化合物を製造するための中間体として有用である。す
なわち、式(I)の化合物はヨーロッパ特許出願公報N
o.0416953Aに記載された抗菌性化合物を製造
するために使用することができる。例えば化合物(I)
は式(VI)
【化16】
(式中、RはC1〜C5アルキル基例えばメチルである
)の化合物およびその塩を製造するために使用すること
ができる。これらの化合物は広い範囲の病原体微生物に
対して抗菌活性の広範スペクトルを示し、そしてβ−ラ
クタマーゼに対して非常に高い耐性を有する。
)の化合物およびその塩を製造するために使用すること
ができる。これらの化合物は広い範囲の病原体微生物に
対して抗菌活性の広範スペクトルを示し、そしてβ−ラ
クタマーゼに対して非常に高い耐性を有する。
【0025】式(VI)の化合物はX−Yが基(A)で
ある式(I)の化合物から以下の反応順序で製造するこ
とができる。
ある式(I)の化合物から以下の反応順序で製造するこ
とができる。
【0026】
【化17】
【0027】エポキシド(I)をアルコールROHとp
−トルエンスルホン酸のような酸触媒の存在下で反応さ
せるとヒドロキシエーテル(VII)が得られる。化合
物(VII)を適当な酸化剤例えばピリジニウムクロロ
クロメートで処理すると所望のケトエーテル(VIII
)を生成する。ケトエーテル(VIII)をアリルオキ
サリルクロライドとトリエチルアミンの存在下で反応さ
せるとオキサルイミド中間体(IX)が得られる。化合
物(IX)を有機亜リン酸塩例えばトリエチルホスファ
イトと反応させると三環式誘導体(X)を生成する。化
合物(VI)の保護誘導体であるこの化合物は最初にヒ
ドロキシル保護基R1を除去し、次いでアリルエステル
を加水分解することにより化合物(VI)またはその塩
に変換することができる。ヒドロキシル保護基R1の除
去はこのような基の除去のために知られた標準条件を用
いて行うことができる。アリルエステルは例えばテトラ
キス(トリフェニルホスフィン)パラジウムおよびトリ
フェニルホスフィンの存在下、アリル受容体例えば2−
エチルヘキサン酸またはそのナトリウムもしくはカリウ
ム塩で処理することによって加水分解することができる
。
−トルエンスルホン酸のような酸触媒の存在下で反応さ
せるとヒドロキシエーテル(VII)が得られる。化合
物(VII)を適当な酸化剤例えばピリジニウムクロロ
クロメートで処理すると所望のケトエーテル(VIII
)を生成する。ケトエーテル(VIII)をアリルオキ
サリルクロライドとトリエチルアミンの存在下で反応さ
せるとオキサルイミド中間体(IX)が得られる。化合
物(IX)を有機亜リン酸塩例えばトリエチルホスファ
イトと反応させると三環式誘導体(X)を生成する。化
合物(VI)の保護誘導体であるこの化合物は最初にヒ
ドロキシル保護基R1を除去し、次いでアリルエステル
を加水分解することにより化合物(VI)またはその塩
に変換することができる。ヒドロキシル保護基R1の除
去はこのような基の除去のために知られた標準条件を用
いて行うことができる。アリルエステルは例えばテトラ
キス(トリフェニルホスフィン)パラジウムおよびトリ
フェニルホスフィンの存在下、アリル受容体例えば2−
エチルヘキサン酸またはそのナトリウムもしくはカリウ
ム塩で処理することによって加水分解することができる
。
【0028】上記の反応スキームにおいて、式(I)の
ある特定の立体異性体を出発物質として使用すると式(
VI)の化合物のある特定の異性体が得られる。すなわ
ち、式(Ic)のエポキシドは式(VIa)
ある特定の立体異性体を出発物質として使用すると式(
VI)の化合物のある特定の異性体が得られる。すなわ
ち、式(Ic)のエポキシドは式(VIa)
【化18】
の化合物を与える。
【0029】式(VIa)の化合物は特に有用な抗菌剤
であり、したがって式(Ic)の化合物は特に好ましい
本発明の特徴を示す。
であり、したがって式(Ic)の化合物は特に好ましい
本発明の特徴を示す。
【0030】本発明をより詳しく説明するために以下の
実施例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
実施例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【0031】
【実施例】中間体1
(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(R)−2′−(
1′−オキソシクロヘキシル)〕アゼチジン−2−オン
および(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(S)−2
′−(1′−オキソシクロヘキシル)〕アゼチジン−2
−オン1−トリメチルシリルオキシシクロヘキセン(1
1g)を窒素下塩化メチレン(400ml)中に溶解し
た。(3R,4R)−4−アセトキシ−3−((R)(
t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル)−2−アゼ
チジノン(9.28g)を溶液に加え、混合物を23℃
で撹拌し、そしてトリメチルシリルトリフルオロメタン
スルホネート(0.66g)を加えた。混合物を窒素下
で2時間撹拌し、次いで氷冷1%炭酸水素ナトリウム溶
液(300ml)中に注ぎ込んだ。有機相を分離し、水
(300ml)およびブライン(300ml)で洗浄し
た。減圧下で溶媒を蒸発させて標記化合物を油状の残留
物として得た。
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(R)−2′−(
1′−オキソシクロヘキシル)〕アゼチジン−2−オン
および(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(S)−2
′−(1′−オキソシクロヘキシル)〕アゼチジン−2
−オン1−トリメチルシリルオキシシクロヘキセン(1
1g)を窒素下塩化メチレン(400ml)中に溶解し
た。(3R,4R)−4−アセトキシ−3−((R)(
t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル)−2−アゼ
チジノン(9.28g)を溶液に加え、混合物を23℃
で撹拌し、そしてトリメチルシリルトリフルオロメタン
スルホネート(0.66g)を加えた。混合物を窒素下
で2時間撹拌し、次いで氷冷1%炭酸水素ナトリウム溶
液(300ml)中に注ぎ込んだ。有機相を分離し、水
(300ml)およびブライン(300ml)で洗浄し
た。減圧下で溶媒を蒸発させて標記化合物を油状の残留
物として得た。
【0032】中間体2
(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔〔(R)−1′−
(4−メチルフェニルスルホン)ヒドラゾノ〕−シクロ
ヘキシ−2′−イル〕−アゼチジン−2−オン(2a)
および(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル〕−4−〔〔(S)−
1′−(4−メチルフェニルスルホン)ヒドラゾノ〕−
シクロヘキシ−2′−イル〕−アゼチジン−2−オン(
2b)氷酢酸(120ml)中の中間体1(12.1g
)の溶液にトシルヒドラジド(6.9g)を室温で加え
た。反応を3時間撹拌し、ジクロロメタン(250ml
)で希釈し、ブライン(2×250ml)、次いで5%
炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄してpH7とし、そして
再びブライン(2×150ml)で洗浄した。有機相を
乾燥し、そして溶媒を減圧下で蒸発させた。得られた泡
状物をジエチルエーテル(60ml)とともに室温で2
時間撹拌し、濾過しそして乾燥して標記化合物2bを白
色の粉末として得た(6g、融点 187〜189℃、
TLC(ジエチルエーテル、Rf=0.13)。 IR(CDCl3) νmax (cm−1) 341
6(N−H), 3304(NNHSO2), 175
3(ラクタム),15599(C=N; C=C);
H1−NMR (CDCl3):7.80(d), 7
.38(bm), 7.34(d), 5.65(bs
), 4.15(m), 3.58(dd), 2.6
3(m), 2.62(m), 2.44(s), 2
.3(m), 2.08(m), 1.92(m),
1.78(d), 1.4(m), 1.20(m),
1.185(d), 0.9(s), 0.077(
s), 0.067(s)。
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔〔(R)−1′−
(4−メチルフェニルスルホン)ヒドラゾノ〕−シクロ
ヘキシ−2′−イル〕−アゼチジン−2−オン(2a)
および(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル〕−4−〔〔(S)−
1′−(4−メチルフェニルスルホン)ヒドラゾノ〕−
シクロヘキシ−2′−イル〕−アゼチジン−2−オン(
2b)氷酢酸(120ml)中の中間体1(12.1g
)の溶液にトシルヒドラジド(6.9g)を室温で加え
た。反応を3時間撹拌し、ジクロロメタン(250ml
)で希釈し、ブライン(2×250ml)、次いで5%
炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄してpH7とし、そして
再びブライン(2×150ml)で洗浄した。有機相を
乾燥し、そして溶媒を減圧下で蒸発させた。得られた泡
状物をジエチルエーテル(60ml)とともに室温で2
時間撹拌し、濾過しそして乾燥して標記化合物2bを白
色の粉末として得た(6g、融点 187〜189℃、
TLC(ジエチルエーテル、Rf=0.13)。 IR(CDCl3) νmax (cm−1) 341
6(N−H), 3304(NNHSO2), 175
3(ラクタム),15599(C=N; C=C);
H1−NMR (CDCl3):7.80(d), 7
.38(bm), 7.34(d), 5.65(bs
), 4.15(m), 3.58(dd), 2.6
3(m), 2.62(m), 2.44(s), 2
.3(m), 2.08(m), 1.92(m),
1.78(d), 1.4(m), 1.20(m),
1.185(d), 0.9(s), 0.077(
s), 0.067(s)。
【0033】少量の標記化合物2b(TLCにより)の
存在下で標記化合物2aを含有する有機相を濃縮し、そ
して残留物をフラッシュクロマトグラフィー(溶離剤:
ジエチルエーテル/石油エーテル(7:3))により精
製して標記化合物2aを白色の粉末として得た(7.6
g、融点 95〜96℃、TLC(ジエチルエーテル、
Rf=0.37))。 IR(CDCl3) νmax (cm−1) 341
0(N−H), 3306(NNHSO2), 175
5(ラクタム),1599(C−N; C=C); H
1−NMR (CDCl3):7.81(d), 7.
40(bm), 7.33(d), 5.60(bs)
, 4.09(m), 4.00(m), 2.81(
dd), 2.52(m), 2.44(s), 2.
3(m), 2.0−1.8(m), 1.6−1.4
(m), 1.04(d), 0.87(s), 0.
06(s), 0.03(s)。
存在下で標記化合物2aを含有する有機相を濃縮し、そ
して残留物をフラッシュクロマトグラフィー(溶離剤:
ジエチルエーテル/石油エーテル(7:3))により精
製して標記化合物2aを白色の粉末として得た(7.6
g、融点 95〜96℃、TLC(ジエチルエーテル、
Rf=0.37))。 IR(CDCl3) νmax (cm−1) 341
0(N−H), 3306(NNHSO2), 175
5(ラクタム),1599(C−N; C=C); H
1−NMR (CDCl3):7.81(d), 7.
40(bm), 7.33(d), 5.60(bs)
, 4.09(m), 4.00(m), 2.81(
dd), 2.52(m), 2.44(s), 2.
3(m), 2.0−1.8(m), 1.6−1.4
(m), 1.04(d), 0.87(s), 0.
06(s), 0.03(s)。
【0034】実施例1
(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(S)−3′−シ
クロヘキセ−1−ニル〕−アゼチジン−2−オン無水テ
トラヒドロフラン(20ml)中の中間体2a(1.1
2g)の溶液をリチウムジイソプロピルアミドの撹拌さ
れた溶液(無水ジイソプロピルアミン(1.35ml)
およびヘキサン(5.7ml)中におけるn−ブチルリ
チウムの1.6M溶液から製造した)に−40℃でゆっ
くりと加えた。反応を−20°/0℃までゆっくりと加
温し、そして−20°/0℃に1時間維持した。反応混
合物を予め冷却した5%塩酸溶液(20ml)に加え、
そして酢酸エチル(2×40ml)で抽出した。有機相
を5%炭酸水素ナトリウム溶液(20ml)およびブラ
イン(20ml)で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥し、そして蒸発させた。粗生成物をフラッシュクロマ
トグラフィー(溶離剤:ジエチルエーテル/石油エーテ
ル(1/1))により精製して標記化合物を白色の粉末
として得た(0.45g、融点104〜106℃、TL
C(ジエチルエーテル、Rf=0.73))。 IR(CDCl3) νmax (cm−1) 341
6(N−H), 1753(ラクタム), 1603(
C=C); H1−NMR (CDCl3):5.82
(bs), 5.81(m), 5.60(dd),
4.14(m), 3.46(dd), 2.85(m
), 2.24(m), 2.00(m), 1.85
−1.70(m), 1.54(m), 1.27(m
), 1.23(d), 0.86(s), 0.06
4(s), 0.054(s)。
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(S)−3′−シ
クロヘキセ−1−ニル〕−アゼチジン−2−オン無水テ
トラヒドロフラン(20ml)中の中間体2a(1.1
2g)の溶液をリチウムジイソプロピルアミドの撹拌さ
れた溶液(無水ジイソプロピルアミン(1.35ml)
およびヘキサン(5.7ml)中におけるn−ブチルリ
チウムの1.6M溶液から製造した)に−40℃でゆっ
くりと加えた。反応を−20°/0℃までゆっくりと加
温し、そして−20°/0℃に1時間維持した。反応混
合物を予め冷却した5%塩酸溶液(20ml)に加え、
そして酢酸エチル(2×40ml)で抽出した。有機相
を5%炭酸水素ナトリウム溶液(20ml)およびブラ
イン(20ml)で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥し、そして蒸発させた。粗生成物をフラッシュクロマ
トグラフィー(溶離剤:ジエチルエーテル/石油エーテ
ル(1/1))により精製して標記化合物を白色の粉末
として得た(0.45g、融点104〜106℃、TL
C(ジエチルエーテル、Rf=0.73))。 IR(CDCl3) νmax (cm−1) 341
6(N−H), 1753(ラクタム), 1603(
C=C); H1−NMR (CDCl3):5.82
(bs), 5.81(m), 5.60(dd),
4.14(m), 3.46(dd), 2.85(m
), 2.24(m), 2.00(m), 1.85
−1.70(m), 1.54(m), 1.27(m
), 1.23(d), 0.86(s), 0.06
4(s), 0.054(s)。
【0035】実施例2
(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(1′R,2′S
,3′R)−1′,2′−エポキシシクロヘキシ−3′
−イル〕−アゼチジン−2−オン(2a)および(3S
,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシ
リルオキシ)エチル〕−4−〔(1′S,2′S,3′
R)−1′,2′−エポキシシクロヘキシ−3−イル〕
−アゼチジン−2−オン(2b) ジクロロメタン(50ml)中のメタクロロ過安息香酸
(3.76g、アッセイ55%)の溶液をジクロロメタ
ン(50ml)中における実施例1(3.1g)の溶液
に0℃で滴加した。溶液を室温まで加温し、そして3時
間撹拌した。反応混合物を10%亜硫酸ナトリウム溶液
(50ml)に加え、5%炭酸水素ナトリウム溶液(2
×50ml)およびブライン(50ml)で洗浄した。 溶液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして溶媒を蒸
発させた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー(
溶離剤:酢酸エチル/シクロヘキサン=3/7)により
精製して標記化合物2aを白色の粉末〔1.53g、融
点 134〜136℃、TLC(ジエチルエーテル、R
f=0.3)、IR(CDCl3) νmax 341
3(N−H), 1757(ラクタム); H1−NM
R (CDCl3):5.85(bm), 4.22(
m), 3.77(dd), 3.16(t), 3.
12(m), 3.01(m), 2.00−1.7(
m), 1.55(m), 1.4(m), 1.24
(d), 1.22(m), 0.87(s), 0.
067(s)〕として、そして標記化合物2bを白色の
粉末〔0.56g、融点 96〜98℃、TLC(ジエ
チルエーテル、Rf=0.4)、IR(CDCl3)
νmax(cm−1) 3414(N−H), 175
7(ラクタム)〕として得た。
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(1′R,2′S
,3′R)−1′,2′−エポキシシクロヘキシ−3′
−イル〕−アゼチジン−2−オン(2a)および(3S
,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシ
リルオキシ)エチル〕−4−〔(1′S,2′S,3′
R)−1′,2′−エポキシシクロヘキシ−3−イル〕
−アゼチジン−2−オン(2b) ジクロロメタン(50ml)中のメタクロロ過安息香酸
(3.76g、アッセイ55%)の溶液をジクロロメタ
ン(50ml)中における実施例1(3.1g)の溶液
に0℃で滴加した。溶液を室温まで加温し、そして3時
間撹拌した。反応混合物を10%亜硫酸ナトリウム溶液
(50ml)に加え、5%炭酸水素ナトリウム溶液(2
×50ml)およびブライン(50ml)で洗浄した。 溶液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして溶媒を蒸
発させた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー(
溶離剤:酢酸エチル/シクロヘキサン=3/7)により
精製して標記化合物2aを白色の粉末〔1.53g、融
点 134〜136℃、TLC(ジエチルエーテル、R
f=0.3)、IR(CDCl3) νmax 341
3(N−H), 1757(ラクタム); H1−NM
R (CDCl3):5.85(bm), 4.22(
m), 3.77(dd), 3.16(t), 3.
12(m), 3.01(m), 2.00−1.7(
m), 1.55(m), 1.4(m), 1.24
(d), 1.22(m), 0.87(s), 0.
067(s)〕として、そして標記化合物2bを白色の
粉末〔0.56g、融点 96〜98℃、TLC(ジエ
チルエーテル、Rf=0.4)、IR(CDCl3)
νmax(cm−1) 3414(N−H), 175
7(ラクタム)〕として得た。
【0036】実施例3
(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(S)−3′−シ
クロヘキセ−1′−ニル〕アゼチジン−2−オンおよび
(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(R)−3′−シ
クロヘキセ−1′−ニル〕アゼチジン−2−オン 乾燥テトラヒドロフラン(50ml)中の亜鉛(6.8
g、ヨウ素で活性化した)の撹拌された懸濁液に乾燥テ
トラヒドロフラン(100ml)中の(3R,4R)−
4−アセトキシ−3−((R)−(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)エチル)−2−アゼチジノン(10g)
および3−ブロモ−シクロヘキセン(14g)の溶液を
窒素下、0℃で6時間かけて滴加した。反応混合物を6
℃で15分間放置し、次いでジエチルエーテル(300
ml)および冷飽和水性塩化アンモニウム(250ml
)の2相混合物中に注ぎ込んだ。有機相を分離し、飽和
水性塩化アンモニウム(250ml)、2%水性炭酸水
素ナトリウム(250ml)、ブライン(250ml)
で洗浄し、そして無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶
媒を真空下で除去して標記化合物を白色の固体(12.
47g、R/S=55/45)として得た。 IR(ヌジョール) νmax (cm−1):175
5(C=O); H1−NMR (CDCl3) δ
(ppm): 6.10(s), 6.00(s),
5.88−5.80(m), 5.61(dd), 5
.55(dd), 4.18(m), 3.48−3.
40(m), 2.85(m), 2.81(m),
2.32−2.10(m), 2.01(m), 1.
86−1.64(m), 1.62−1.46(m),
1.40−1.20(m), 1.24(d), 1
.22(d), 0.88(s), 0.08(s),
0.06(s)。
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(S)−3′−シ
クロヘキセ−1′−ニル〕アゼチジン−2−オンおよび
(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(R)−3′−シ
クロヘキセ−1′−ニル〕アゼチジン−2−オン 乾燥テトラヒドロフラン(50ml)中の亜鉛(6.8
g、ヨウ素で活性化した)の撹拌された懸濁液に乾燥テ
トラヒドロフラン(100ml)中の(3R,4R)−
4−アセトキシ−3−((R)−(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)エチル)−2−アゼチジノン(10g)
および3−ブロモ−シクロヘキセン(14g)の溶液を
窒素下、0℃で6時間かけて滴加した。反応混合物を6
℃で15分間放置し、次いでジエチルエーテル(300
ml)および冷飽和水性塩化アンモニウム(250ml
)の2相混合物中に注ぎ込んだ。有機相を分離し、飽和
水性塩化アンモニウム(250ml)、2%水性炭酸水
素ナトリウム(250ml)、ブライン(250ml)
で洗浄し、そして無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶
媒を真空下で除去して標記化合物を白色の固体(12.
47g、R/S=55/45)として得た。 IR(ヌジョール) νmax (cm−1):175
5(C=O); H1−NMR (CDCl3) δ
(ppm): 6.10(s), 6.00(s),
5.88−5.80(m), 5.61(dd), 5
.55(dd), 4.18(m), 3.48−3.
40(m), 2.85(m), 2.81(m),
2.32−2.10(m), 2.01(m), 1.
86−1.64(m), 1.62−1.46(m),
1.40−1.20(m), 1.24(d), 1
.22(d), 0.88(s), 0.08(s),
0.06(s)。
【0037】実施例4
(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(1′R,2′S
,3′R)−1′,2′−エポキシシクロヘキシ−3′
−イル〕アゼチジン−2−オン(4a)および(3S,
4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)エチル〕−4−〔(1′S,2′S,3′R
)−1′,2′−エポキシシクロヘキシ−3−イル〕ア
ゼチジン−2−オン(4b) 水(200ml)およびジクロロメタン(400ml)
の混合物中の実施例1(40g)の溶液を3℃において
マグネシウムモノペルオキシフタレート(80g、アッ
セイ80%w/w)で処理した。得られた2相混合物を
5℃で24時間撹拌し、そして2M水性炭酸ナトリウム
(280ml)で処理した。水相をジクロロメタン(1
20ml)で抽出し、合一したジクロロメタン抽出物を
10%水性メタ重亜硫酸ナトリウム(200ml)で洗
浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸発させて
標記化合物4aおよび4bの94/6混合物を白色の固
体(39.3g)として得た。 H1−NMR (CDCl3):実施例2と一致した。
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔(1′R,2′S
,3′R)−1′,2′−エポキシシクロヘキシ−3′
−イル〕アゼチジン−2−オン(4a)および(3S,
4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)エチル〕−4−〔(1′S,2′S,3′R
)−1′,2′−エポキシシクロヘキシ−3−イル〕ア
ゼチジン−2−オン(4b) 水(200ml)およびジクロロメタン(400ml)
の混合物中の実施例1(40g)の溶液を3℃において
マグネシウムモノペルオキシフタレート(80g、アッ
セイ80%w/w)で処理した。得られた2相混合物を
5℃で24時間撹拌し、そして2M水性炭酸ナトリウム
(280ml)で処理した。水相をジクロロメタン(1
20ml)で抽出し、合一したジクロロメタン抽出物を
10%水性メタ重亜硫酸ナトリウム(200ml)で洗
浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸発させて
標記化合物4aおよび4bの94/6混合物を白色の固
体(39.3g)として得た。 H1−NMR (CDCl3):実施例2と一致した。
【0038】実施例5
(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)−エチル〕−4−〔(R)−シクロ
ヘキセ−2−ニル〕−アゼチジン−2−オン(5a)お
よび(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ)−エチル〕−4−〔(S)−シ
クロヘキセ−2−ニル〕−アゼチジン−2−オン(5b
)三フッ化ホウ素エテラート(0.5ml)を乾燥ジク
ロロメタン(200ml)中のトリブチルシクロヘキシ
−2−エニルスズ(14.5g)および(3S,4R)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)−エチル〕−4−アセトキシ−アゼチジン−2−オ
ン(3.8g)の溶液に加えた。溶液を一晩撹拌し、水
、ブラインで洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。溶媒を蒸発させ、そして残留の油状物を溶離剤とし
て石油エーテル/ジエチルエーテル(7/3)を用いて
シリカ上におけるクロマトグラフィーに付して標記化合
物5aおよび5bを75/25の比で白色固体として得
た。 IR(CDCl3) νmax (cm−1) 341
6(NH), 1753(C=O); H1−NMR
δ (CDCl3):5.88(ma),5.78(m
), 5.58(m), 5.51(m), 4.16
(m), 4.15(m), 3.43(dd),3.
40(dd), 2.81(m), 2.78(m),
2.18(m), 1.98(m), 1.74(m
), 1.54(m), 1.30(m), 1.21
(d), 1.19(d), 0.84(s), 0.
04(s) ppm。
チルシリルオキシ)−エチル〕−4−〔(R)−シクロ
ヘキセ−2−ニル〕−アゼチジン−2−オン(5a)お
よび(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ)−エチル〕−4−〔(S)−シ
クロヘキセ−2−ニル〕−アゼチジン−2−オン(5b
)三フッ化ホウ素エテラート(0.5ml)を乾燥ジク
ロロメタン(200ml)中のトリブチルシクロヘキシ
−2−エニルスズ(14.5g)および(3S,4R)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)−エチル〕−4−アセトキシ−アゼチジン−2−オ
ン(3.8g)の溶液に加えた。溶液を一晩撹拌し、水
、ブラインで洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。溶媒を蒸発させ、そして残留の油状物を溶離剤とし
て石油エーテル/ジエチルエーテル(7/3)を用いて
シリカ上におけるクロマトグラフィーに付して標記化合
物5aおよび5bを75/25の比で白色固体として得
た。 IR(CDCl3) νmax (cm−1) 341
6(NH), 1753(C=O); H1−NMR
δ (CDCl3):5.88(ma),5.78(m
), 5.58(m), 5.51(m), 4.16
(m), 4.15(m), 3.43(dd),3.
40(dd), 2.81(m), 2.78(m),
2.18(m), 1.98(m), 1.74(m
), 1.54(m), 1.30(m), 1.21
(d), 1.19(d), 0.84(s), 0.
04(s) ppm。
【0039】実施例6
(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)−エチル〕−4−〔(S)−(2R
,3S−エポキシシクロヘキシル)〕−アゼチジン−2
−オン(6a)、(3S,4R)−3−〔(R)−1−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−エチル〕−4−
〔(R)−(2S,3R−エポキシシクロヘキシル)〕
−アゼチジン−2−オン(6b)、(3S,4R)−3
−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
−エチル〕−4−〔(S)−(2S,3R−エポキシシ
クロヘキシル)〕−アゼチジン−2−オン(6c)およ
び(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)−エチル〕−4−〔(R)−(2
R,3S−エポキシシクロヘキシル)〕−アゼチジン−
2−オン(6d) メタクロロ過安息香酸(1.69g)を乾燥ジクロロメ
タン(50ml)中の実施例5(2.0g)の氷冷溶液
に加えた。混合物を一晩撹拌し、5%炭酸水素ナトリウ
ム、水およびブラインで洗浄した。有機相を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、溶媒を蒸発させた。残留の油状物を溶
離剤としてジエチルエーテルを用いてシリカ上における
クロマトグラフィーに付して標記化合物6aおよび6b
の混合物(0.4g、比率 4:1)並びに標記化合物
6b、6cおよび6dの混合物(0.2g、比率 2:
2:1)を得た。 標記化合物6aおよび6b IR(CDCl3) νmax (cm−1):341
2(NH), 1757(C=O); H1−NMR
δ (CDCl3):6.13(sa), 5.94(
sa), 4.19(m), 3.77(dd), 3
.67(dd), 3.25(m), 3.18(t)
, 3.12(t), 3.01(m), 2.83(
dd), 1.88(m), 1.45−1.65(m
), 1.15−1.44(m),0.85(s),
0.07(s) ppm; 標記化合物6b、6cおよび6d IR(CDCl3) νmax (cm−1):341
4(NH), 1755(C=O); H1−NMR
δ (CDCl3):6.28(sa), 6.16(
sa), 6.05(sa), 4.09−4.24(
m), 3.78(dd), 3.67(dd), 3
.58(dd), 3.19(m), 3.15(m)
, 3.1(m), 3.01(m), 2.82−2
.95(m), 2.04−2.16(d), 1.9
−2.03(m), 1.54−1.74(m), 1
.32−1.48(m), 1.15−1.31(m)
, 0.9(sa), 0.06(sa) ppm。
チルシリルオキシ)−エチル〕−4−〔(S)−(2R
,3S−エポキシシクロヘキシル)〕−アゼチジン−2
−オン(6a)、(3S,4R)−3−〔(R)−1−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−エチル〕−4−
〔(R)−(2S,3R−エポキシシクロヘキシル)〕
−アゼチジン−2−オン(6b)、(3S,4R)−3
−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
−エチル〕−4−〔(S)−(2S,3R−エポキシシ
クロヘキシル)〕−アゼチジン−2−オン(6c)およ
び(3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)−エチル〕−4−〔(R)−(2
R,3S−エポキシシクロヘキシル)〕−アゼチジン−
2−オン(6d) メタクロロ過安息香酸(1.69g)を乾燥ジクロロメ
タン(50ml)中の実施例5(2.0g)の氷冷溶液
に加えた。混合物を一晩撹拌し、5%炭酸水素ナトリウ
ム、水およびブラインで洗浄した。有機相を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、溶媒を蒸発させた。残留の油状物を溶
離剤としてジエチルエーテルを用いてシリカ上における
クロマトグラフィーに付して標記化合物6aおよび6b
の混合物(0.4g、比率 4:1)並びに標記化合物
6b、6cおよび6dの混合物(0.2g、比率 2:
2:1)を得た。 標記化合物6aおよび6b IR(CDCl3) νmax (cm−1):341
2(NH), 1757(C=O); H1−NMR
δ (CDCl3):6.13(sa), 5.94(
sa), 4.19(m), 3.77(dd), 3
.67(dd), 3.25(m), 3.18(t)
, 3.12(t), 3.01(m), 2.83(
dd), 1.88(m), 1.45−1.65(m
), 1.15−1.44(m),0.85(s),
0.07(s) ppm; 標記化合物6b、6cおよび6d IR(CDCl3) νmax (cm−1):341
4(NH), 1755(C=O); H1−NMR
δ (CDCl3):6.28(sa), 6.16(
sa), 6.05(sa), 4.09−4.24(
m), 3.78(dd), 3.67(dd), 3
.58(dd), 3.19(m), 3.15(m)
, 3.1(m), 3.01(m), 2.82−2
.95(m), 2.04−2.16(d), 1.9
−2.03(m), 1.54−1.74(m), 1
.32−1.48(m), 1.15−1.31(m)
, 0.9(sa), 0.06(sa) ppm。
Claims (7)
- 【請求項1】 式(I) 【化1】 (式中、R1は水素原子またはヒドロキシル保護基であ
り、そして−X−Y−は−CH=CH−または【化2】 である)で表される化合物。 - 【請求項2】 式(Ia) 【化3】 (式中、R1は請求項1で定義したとおりである)を有
する請求項1記載の化合物。 - 【請求項3】 式(Ic) 【化4】 (式中、R1は請求項1で定義したとおりである)を有
する請求項1記載の化合物。 - 【請求項4】 R1がトリアルキルシリル基である請
求項1〜3の何れかの項記載の化合物。 - 【請求項5】 R1がt−ブチルジメチルシリル基で
ある請求項1〜3の何れかの項記載の化合物。 - 【請求項6】 次の工程、すなわち i) 式(II) 【化5】 (式中、R1aはヒドロキシル保護基である)のトシル
ヒドラゾンを塩基と反応させて式(I)(式中、R1は
ヒドロキシル保護基であり、そして−X−Y−は−CH
=CH−である)の化合物を生成させる;ii) 式
(V) 【化6】 (式中、R1aは上記で定義したとおりである)のアゼ
チジノンを3−ハイシクロヘキセンと金属の存在下で反
応させて式(I)(式中、R1はヒドロキシル保護基で
あり、そして−X−Y−は−CH=CH−である)の化
合物を生成させる; iii) 式(I)(式中、R1はヒドロキシル保護
基であり、そして−X−Y−は−CH=CH−である)
の化合物をエポキシ化して、−X−Y−が 【化7】 である相当する化合物を生成させる; iv) 式(I)の化合物の特定の所望の異性体を1
つまたはそれ以上の他の異性体から分離する;v)
式(I)(式中、R1はヒドロキシル保護基である)の
化合物を反応させてその相当する化合物(式中、R1は
水素原子である)を生成させる;およびvi) 式(
I)(式中、R1は水素原子である)の化合物を反応さ
せてその相当する化合物(式中、R1はヒドロキシル保
護基である)を生成させるの何れかからなる請求項1記
載の化合物の製造法。 - 【請求項7】 抗菌活性を有する11−オキソ−1−
アザトリシクロ〔7.2.0.03.8〕ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸誘導体の製造における請求項1
〜5の何れかの項記載の化合物の使用。
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