JPS63169649A - 感光体 - Google Patents

感光体

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JPS63169649A
JPS63169649A JP251487A JP251487A JPS63169649A JP S63169649 A JPS63169649 A JP S63169649A JP 251487 A JP251487 A JP 251487A JP 251487 A JP251487 A JP 251487A JP S63169649 A JPS63169649 A JP S63169649A
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JP
Japan
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photoreceptor
layer
present
film
charge generation
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JP251487A
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English (en)
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Noboru Saeki
登 佐伯
Fumiko Sakaguchi
坂口 文子
Mochikiyo Osawa
大澤 以清
Kazuo Ota
和夫 太田
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Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0525Coating methods
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0664Dyes
    • G03G5/0696Phthalocyanines

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、機能分離型感光体に関する。
従来の技術 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、感光体にも様々な材料が開発され実用化さ
れて来た。
従来用いられて来た感光体材料の主な物としては、フタ
ロシアニン系顔料、ジスアゾ系顔料、トリスアゾ系顔料
、ペリレン系顔料、ポリビニルカルバゾール、トリフェ
ニルメタン化合物、トリフェニルアミン化合物、ヒドラ
ゾン化合物、スヂリル化合物、ピラゾリン化合物、オキ
サゾール化合物、オキサジアゾール化合物、等の有機物
質、非晶質セレン、セレン砒素、セレンテルル、硫化カ
ドミウム、酸化亜鉛、アモルファスシリコン等の無機物
質が挙げられる。また、その構成形態としては、これら
の物質を単体で用いる単層型構成、結着材中に分散させ
て用いるバインダー型構成、機能別に電荷発生層と電荷
輸送層とを設ける積層型構成等が挙げられる。
中でもフタロシアニン系顔料は、フタロシアニン単体に
おいて良好な電荷発生能を有するばかりでなく、フタロ
シアニン骨格中に種々の金属原子或は置換基を導入する
ことにより光吸収波長域を比較的任意に選択可能である
ことから、可視域付近に発光波長を有する白色光を光源
に用いた所謂PPC用感光体から780nm付近に発光
波長を有する半導体レーザー光を光源に用いた所謂LB
P用感光体まで、幅広く応用可能な電荷発生材料として
期待きれ多くの研究並びに発明がなされて来ている。
フタロシアニン系顔料を樹脂中に分散せしめた塗膜が電
荷発生材料として感光体に使用可能であることは古くよ
り知られており、例えばバケット(C,F、Hacke
t t)により、1971年発行のザ・ジャーナル・オ
ブ・ケミカル・フィジックス(The  Journa
 l  of  Chemical  Physics
)第55巻第7号第3178頁乃至第3187頁におい
て、高濃度のフタロシアニし顔料を含有するポリ−N−
ビニルカルバゾール層とポリ−N−ビニルカルバゾール
層とを塗布積層することにより電子写真用感光材料が得
られる“ことが報告されている。また、特開昭47−3
0328号公報にはX型及びβ型の無金属フタロシアニ
ン及び金属フタロシアニンを樹脂中に分散塗布せしめた
電子写真プレートが開示されている。この他にも、機能
分離型構成及びバインダー型構成の何れにも、フタロシ
アニン系顔料を分散塗布した薄膜を電荷発生材料に用い
た感光体に関する開示が数多くなされている。
しかしながら、フタロシアニン系顔料を分散塗布した薄
膜を電荷発生材料に用いた感光体の作製には、使用する
フタロシアニン系顔料に適した樹脂のj巽択とフタロシ
アニン系類t4の分散性に優れた樹脂用溶剤の選択とを
行なう必要がある。そして、これらの材料から、混合比
、粘度、分散法等の調整により均質な塗液を調製し、ざ
らに、塗工法、乾燥法等の調整により均等な膜厚を有す
る薄膜を形成する必要があり、感光体作製における不安
定要素が多い。
そこで、均一なフタロシアニン系顔料の薄膜を容易に形
成するために真空蒸着を用いる手法が注目きれている。
一般に、フタロシアニン系顔料の真空蒸着膜は、膜形成
速度が低いため、感光体全層に用いるには産業上不都合
な点が多いが、機能分離型感光体の電荷発生層として用
いる場合には膜厚が極めて薄くて済むため有用である。
フタロシアニン系化合物の蒸着膜が感光体の電荷発生層
として使用可能であることは古くより知られており、例
えばレゲンスバーガー(P、J。
Regensburger)及びベトルツツエラ(N、
L、Pet、ruzzel la)により、1971年
発行のジャーナル・オブ・ノンクリスタリン・ソリッド
(Journal  of  N。
n−Crystal l ine  Sol id)第
6巻第13乃至第26頁において、無金属フタロシアニ
ンの蒸着膜を電荷発生層として用いた感光体において、
非晶質セレンを電荷輸送層として明減衰が得られること
が報じられている。そしてこれまでに、電荷発生層とし
て応用可能なフタロシアニン系蒸着膜に関する多くの発
明がなされている。同時に、該電荷発生層と積層するこ
とにより感光体として実質的に機能させるために、接着
性に優れ、電荷発生層からの電荷注入が容易で、ざらに
、電荷輸送性に優れた電荷輸送層材料に関しても多くの
発明がなきれている。
例えば、特開昭49−48334号公報、特公昭59−
32787号公報、米国USP3,895.944号公
報には、無金属、または、Cu。
Cd、Zn、Pb等の金属を含むフタロシアニンの蒸着
膜を電荷発生層として設け、その上にオキサジアゾール
系の電荷輸送層を塗布した感光体が開示されている。。
この他にも、フタロシアニン系蒸着膜を電荷発生層に用
いた感光体について数多くの開示が見られる。
、Bが解決しようとする4題点 前述のフタロシアニン系顔料の蒸着膜は、電荷発生能に
優れる反面、電気抵抗が低いため、そのまま機能分離型
感光体の電荷発生層として使用すると、コロナ帯電等に
より電荷発生層中に形成きれるべき電界の強度が低くな
り、光励起キャリアの電荷輸送層への注入効率を低減し
、感度の低下を招く。また、フタロシアニン系顔料の蒸
着膜の中には半導体レーザー発光波長付近に感度を有す
るものもあるが、実用上ざらなる高感度化が望まれる。
溶剤処理による高感度化が、前述の特開昭58−158
649号公報に開示されてはいるが、工程の複雑化を伴
う。
本発明は、フタロシアニン系顔料の蒸着膜を電荷発生層
に用いた機能分離型感光体において、従来演では必ずし
も高挺抗の膜か得られず、感光体として充分な帯電電位
が14られるとは限らなかった問題点を解決し、光感度
を損なうことなく高電位にまで帯電可能な感光体を提供
しようとするもノテする。また、本発明は、フタロシア
ニン系顔料の蒸着膜を電荷発生層に用いた機能分離型感
光体において、従来法では長波長域での感度向上を達成
するために工程の複雑化を伴う問題点を解決し、簡便な
方法で、しかも蒸着終了時において既に、長波長域での
高感度化が完了している電荷発生層を有する感光体を提
供しようとするものである。また、本発明は、フタロシ
アニン系顔料の蒸着膜を電荷発生層に用いた機能分離型
感光体において、電荷輸送層材料、電荷輸送層の製法、
並びに、電荷輸送層との積層位置関係等に制限を受ける
ことなく、自由度の高い感光体設計が可能な感光体を提
供しようとするものである。ざらに、本発明は、一般に
、有機系感光体において問題となる繰返し使用時におけ
る特性劣化を解決し、長期使用にも耐え得る感光体を提
供しようとするものである。
問題点を解決するための手段 即ち、本発明は、導電性基板上に電荷発生層と電荷輸送
層とを積層してなる機能分離型感光体において、該電荷
発生層が真空蒸着法により形成されたフタロシアニン系
顔料と絶縁性有機物質との二成分よりなる共蒸着膜(以
下、本発明による電荷発生層をPc膜と称する)である
ことを持(敢とする感光体に関する。
本発明感光体は少なくとも電荷発生層と電荷輸送層から
構成される。
本発明感光体における電荷発生層、即ち、Pc膜は、フ
タロシアニン系顔料と絶縁性有機物質とを蒸着源とし、
真空蒸着の常法を用いて、同時に蒸着することにより作
製可能である。
蒸着源として使用可能なフタロシアニン系顔料としては
、例えば、CuPc、AlClPc (C1)、AlC
lPc1H2Pc、Ge (OH)2Pc、ZnPc1
MgPc1に2PCSTiOPc等が挙げられる。また
、蒸着源として使用可能な絶縁性有機物質としては、例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、
テフロン等が挙げられる。
本発明感光体における電荷発生層中に含有せしめられる
有機材料としては絶縁性有機物質が好ましい。反対に、
電荷供与性或は電荷受容性を有する材料を用いた場合に
は、生成された電荷発生層中の不純物濃度が高く、なる
ため熱励起キャリアの影響を受けやすくなるため、必ず
しも充分な帯電性能が確保きれるとは限らなくなる。
本発明のPc膜の膜厚は、200Å以上が好ましい。膜
厚が200人より薄いと、電荷発生層における光吸収量
が低下するため光励起キャリア数が減り、感度低下を招
く。膜厚の上限は物性的には制限を受けず、厚膜化すれ
ばPc膜だけでも感光体として使用できるが、生産性を
考慮すれば、概ね5μm以下の電荷発生層として用いる
ことが好走しい。
本発明のPc膜中に含有される絶縁性有機物質の量は、
種類によっても異なるが、膜中に含有されるフタロシア
ニン系顔料と絶縁性有機物質との総量に対して、慨ね1
乃至30重量%が好ましい。Pc膜中に含有される絶縁
性有機物質の量が1重量%より少ない場合にはフタロシ
アニン系顔料の物性が支配的となり、前述の如く、コロ
ナ帯電等により電荷発生層中に形成されるべき電界の強
度が低くなり、光励起キャリアの電荷輸送層への注入効
率を低減せしめ、感度低下を招き好ましくない。Pc膜
中に含有される絶縁性有機物質の量が30重重量より多
い場合には絶縁性有機物質の物性が支配的となり、電荷
発生層の高抵抗化に伴う感度低下を招き好ましくない。
本発明のPc膜中に含有される絶縁性有機物質の量は、
常用される元素分析、例えば、有機元素分析、オージェ
分析、IMAXXPS分析等を用いることにより知るこ
とができ、また、二種類の蒸着源の重量減少をそれぞれ
計測することにより知ることができ、ざらに、二種類の
蒸着源につき別個に単位時間蒸着を行ない、形成された
蒸着膜の重量をそれぞれ計測することにより知ることが
できる。これらの組成分析手段によれば、何れも測定誤
差程度の範囲でよく一致した結果を得ることが可能であ
る。
本発明における感光体の電荷輸送層は、製法及び材料共
に、特に限定を受けるものではない。
本発明における感光体の電荷輸送層としては、ヒドラゾ
ン系化合物、ピラゾリン系化合物、スチルベン化合物、
トリアリールメタン系化合物、トリアリールアミン系化
合物、オキサジアゾール系化合物、オキサゾール系化合
物、チアゾール系化合物、ボリアリールアルカン類等を
例とする所謂有機電荷輸送性材料をポリカーボネイト、
ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ボリアリレ
ート、ポリスルホン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、
アルキド樹脂、エポキシ樹脂、フエーノール樹脂、塩化
ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、スチレンアクリル共重合
体、スチレンブタジェン共重合体、スチレンマレイン酸
共重合体等を例とする樹脂中に適当な溶剤を用いて分散
せしめた塗液を用いて、ディッピングコーティング法、
スプレーコーティング法、スピナーコーティング法、ワ
イヤーバーコーティング法、ブレードコーチ、イング法
、ローラーコーティング法等を例とする塗布法により形
成された薄膜を使用することが可能である。また、本発
明における感光体の電荷輸送層としては、前記例示の如
き所謂有機電荷輸送性材料等を蒸着源として真空蒸着法
により形成される薄膜を使用することが可能である。ま
た、本発明における感光体の電荷輸送層としては、シラ
ン、ジシラン、四弗化シラン等を例とする珪素原子を含
む気体とメタン、エタン、エチレン、アセチレン等を例
とする炭素原子を含む気体の混合気体を原料としプラズ
マCVD法により形成きれる薄膜を使用することが可能
である。ざらに、本発明における感光体の電荷輸送層と
しては、メタン、プロパン、ブタン、イソブタン、イソ
ペンタン、エチレン、プロピレン、ブタジェン、オシメ
ン、ミルセン、アセチレン、ブタジイン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、シクロプロペン、カレン、ピネン
、ベンゼン、トルエン、キシレン、スヂレン、ビフェニ
ル、トリフェニルメタン、ジベンジル、ナフタリン、ア
ントラセン等の炭化水素、メタノール、エタノール等の
アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケト
ン類、ジメチルエテル、メチルエチルエーテル等のエー
テル類、ギ酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、等を
例とする有機化合物の気体を原料としプラズマCVD法
により形成される所謂有機プラズマ重合膜をも使用する
ことが可能である。
本発明感光体における電荷輸送層は、可視光もしくは半
導体レーザー光付近の波長の光に対しては明確なる光導
電性は有きないが好適な電荷輸送性を有し、本発明感光
体における電荷発生層で可視光もしくは半導体レーザー
光付近の波長の光により発生したキャリアを効率よく輸
送し、感光体の明減衰に効果的に寄与するものである。
本発明における感光体は、電荷発生層と電荷輸送層から
なる機能分離型の構成とするのが最適で、該電荷発生層
と該電荷輸送層の積層構成は、必要に応じて適宜選択す
ることが可能である。
第1図は、その一形態として、導電性基板(1)上に電
荷4i:送層(2)と電荷発生層(3)を順次積層して
なる構成を示したものである。第2図は、別の一形態と
して、導電性基板(1)上に電荷発生層(3)と電荷輸
送層(2)を順次積層してなる構成を示したものである
。第3図は、別の一形態として、導電性基板(1)上に
、電荷輸送層(2)と電荷発生層(3)と電荷輸送層(
2)を順次積層してなる構成を示したものである。
感光体表面を、例えばコロナ帯電器等により正帯電した
後、画像露光して使用する場合においては、第1図では
電荷発生層(3)で発生した正孔が電荷輸送層(2)中
を導電性基板(1)に向は走行し、第2図では電荷発生
層(3)で発生した電子が電荷輸送層(2)中を感光体
表面に向は走行し、第3図では電荷発生層(3)で発生
した正孔が導電性基板側の電荷輸送層(2)中を導電性
基板(1)に向は走行すると共に、同時に電荷発生層(
3)で発生した電子が表面側の電荷輸送層(2)中を感
光体表面に向は走行し、好適な明減衰に保証された静電
潜像の形成が行なわれる。反対に感光体表面を負帯電し
た後、画像露光して使用する場合においては、電子と正
孔の挙動を入れ代えて、キャリアーの走行性を解すれば
よい。第2図及び第3図では、画像露光用の照射光が電
荷輸送層中を通過することになるが、本発明による感光
体の電荷輸送層は透光性に優れることから、好適な潜像
形成を行なうことが可能である。
第4図は、ざらなる一形態として、導電性基板(1)上
に電荷輸送層(2)と電荷発生層(3)と表面保護層(
4)を順次積層してなる構成を示したものである。即ち
第1図の形態に表面保護層を設けた形態に相当するが、
第1図の形態では、最表面が耐久性に優れた本発明感光
体の電荷発生層であるため表面保護層を設けなくてもよ
いが、例えば現像剤の付着による感光体表面の汚染を防
止するような、複写機内の各種エレメントに対する整合
性を調整する目的から、表面保護層を設けることもざら
なる一形態となりうる。第2図及び第3図の構成の場合
、最表面が本発明感光体においては特に限定を受けない
電荷輸送層であることから、実用上の湿度安定性或は耐
摩耗性を確保するために表面保護層を設けることもざら
なる一形態となりうる。
第5図は、ざらなる一形態として、導電性基板(1)上
に中間層(5)と電荷発生層(3)と電荷輸送層(2)
を順次積層してなる構成を示したものである。即ち第2
図の形態に中間層を設けた形態に相当するが、第2図の
形態では、導電性基板との接合面が接着性及び注入阻止
効果に優れた、本発明感光体の電荷発生層であるため、
中間層を設けなくてもよいが、例えば導電性基板の前処
理方法のような、感光層形成以前の製造工程との整合性
を調整する目的から、中間層を設けることもざらなる一
形態となりうる。第1図及び第3図の構成の場合、導電
性基板との接合面が本発明感光体においては特に限定を
受けない電荷輸送層であることから、接着性及び注入阻
止効果を確保するために中間層を設けることもざらなる
一形態となりうる。
第6図は、ざらなる一形態として、導電性基板(1)上
に中間層(5)と電荷輸送層(2)と電荷発生層(3)
と表面保護層(4)を順次積層してなる構成を示したも
のである。即ち第1図の形態に中間層と表面保護層を設
けた形態に相当する。中間層と表面保護層の設置理由は
前述と同様であり、従って第2図及び第3図の構成にお
いて中間層と表面保護層を設けることもさらなる一形態
となりうる。
本発明において中間層と表面保護層は、材料的にも、製
法的にも、特に限定を受けるものではなく所定の目的が
達せられるものであれば、適宜選択することが可能であ
る。
第7図は本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装置を
示し、図中(501)は真空槽を示し、内部には基板保
持部材(502)により保持された基板(503)が設
置されている。基板(503)と対向して蒸発源材料を
載置した第1ボート(504)及び第2ボート(505
)が配され、各ボートはそれぞれ第1電tffi (5
06)及び第2電極(507)に接続され電力印加によ
り加熱可能とされている。基板(503)と第1ボート
(504)及び第2ボートとの間には第1遮蔽板(50
8)及び第2遮蔽板(509)が設けられ、蒸着時以外
においては、例えば、ボートの昇温降温時或はボート濃
度の安定化待機時等においては、蒸発源材料からの不安
定な蒸散物の基板(503)への付着を防止するために
閉状態に、蒸着時には開状態に駆動可能なように駆動ソ
レノイド(510)に接続されている。真空槽(501
)内は、排気ポンプ(511)により減圧可能とされて
いる。また、本装置においては、ボートの昇温に所謂抵
抗加熱法を用いているが、蒸発温度の高い蒸着源物質に
ついては、電子ビームを用いて昇温してもよい。
第8図は本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装置の
別の一形態を示し、図中基板保持部材(502)及び基
板(503)の形状が異なり、基板保持部材(502)
が駆動モーター(512)に接続され基板(503)が
回転可能とされること以外は、第7図と同様である。特
に、第8図に示される本発明に係わる感光体の電荷発生
層製造装置においては、円筒状の基板(503)に本発
明感光体の電荷発生層を形成することが可能である。
第9図は本発明に係わる感光体のプラズマCVD法によ
る電荷輸送層製造装置を示し、図中(701)乃至(7
06)は常温において気相状態にある原料化合物及びキ
ャリアガスを密封した第1乃至第6タンクで、各々のタ
ンクは第1乃至第6調節弁(707)乃至(712)と
第1乃至第6流量制御器C713)乃至(718)に接
続されている。図中(719)乃至(721)は常温に
おいて液相または同相状態にある原料化合物を封入した
第1乃至第3容器で、各々の容器は気化のため第1乃至
第3温調器(722)乃至(724)により与熱可能で
あり、ざらに各々の容器は第7乃至第9調節弁(725
)乃至(727)と第7乃至第9流量制御器(728)
乃至(73O)に接続きれている。これらのガスは混合
器(731)で混合された後、主管(732)を介して
反応室(733)に送り込まれる。途中の配管は、常温
において液相または同相状態にあった原料化合物が気化
したガスが、途中で凝結しないように、適宜配置された
配管加熱器(734)により、与熱可能とされている。
反応室内には接地電極(735)と電力印加電極(73
6)が対向して設置され、各々の電極は電極加熱器(7
37)により与熱可能ときれている。電力印加電極(7
36)には、高周波電力用整合器(738)を介して高
周波電源(739)、低周波電力用整合器(740)を
介して低周波電源(741)、ローパスフィルタ(74
2)を介して直流電源(743)が接続きれており、接
続選択スイッチ(744)により周波数の異なる電力が
印加可能ときれている。反応室(733)内の圧力は圧
力制御弁(745)により調整可能であり、反応室(7
33)内の減圧は、排気系選択弁(748)を介して、
拡散ポンプ(747) 、油回転ポンプ(748)、或
は、冷却除外装置(749) 、メカニカルブースター
ポンプ(750)、油回転ポンプ(748)により行な
われる。排ガスについては、さらに適当な除外装置(7
53)により安全無害化した後、大気中に排気される。
これら排気系配管についても、常温において液相または
同相状態にあった原料化合物が気化したガスが、途中で
凝結しないように、適宜配置された配管加熱器(734
)により、与熱可能とされている。反応室(733)も
同様の理由から反応室加熱器(751)により与熱可能
とされ、内部に配された電極上に基板(752)が設置
される。図中、基板(752)は接地電極(735)に
固定して配されているが、電力印加電極(736)に固
定して配されてもよく、ざらに双方に配されてもよい。
第10図は本発明に係わる感光体のプラズマCVD法に
よる電荷輸送層製造装置の別の一形態を示し、反応室(
733)内部の形態以外は、第9図に示した本発明に係
わる感光体のプラズマCVD法による電荷輸送層製造装
置と同様である。第10図において、反応室(733)
内部には、第9図における接地電極(735)を兼ねた
円筒形の導電性基板(752)が設置され、内側には電
極加熱器(737)が配されている。導電性基板(75
2)周囲には同じく円筒形状をした電力印加電極(73
6)が配され、外側には電極加熱器(737)が配され
ている。導電性基板(752)は、外部より駆動モータ
(754)を用いて自転可能となっている。
本発明に係わる感光体の製造においては、電荷輸送層を
塗布法にて作製する場合には、電荷発生層は第7図或は
第8図に示した本発明に係わる感光体の電荷発生層製造
装置により作製し、電荷輸送層は第7図或は第8図に示
した本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装置外にて
、別途、塗布法の常法、即ち、ディッピングコーティン
グ法、スプレーコーティング法、スピナーコーティング
法、ワイヤーバーコーティング法、ブレードコーティン
グ法、ローラーコーティング法等により作製さ゛れる。
また、電荷輸送層を蒸着法にて作製する場合には、電荷
発生層並びに電荷輸送層共に第7図或は第8図に示した
本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装置により作製
きれる。また、電荷輸送層をプラズマCVD法にて作製
する場合には、電荷発生層は第7図或は第8図に示した
本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装置により作製
し、電荷輸送層は第9図或は第10図に示した本発明に
係わる感光体のプラズマCVD法による電荷輸送層製造
装置にて作製される。この場合、各装置は独立して使用
してもよいが、第7図に示した本発明に係わる感光体の
電荷発生層製造装置と第9図に示した本発明に係わる感
光体のプラズマCVD法による電荷輸送層製造装置、ま
たは、第8図に示した本発明に係わる感光体の電荷発生
層製造装置と第10図に示した本発明に係わる感光体の
プラズマCVD法による電荷輸送層製造装置は、ゲート
バルブを介して接続し、適当な基板搬送装置を用いて蒸
着工程とプラズマCVD工程とを真空を破らずに連続し
て行なえる様にしてもよい。また、そうすることにより
、真空外へ基板を取り出した時の基板及び装置に対する
種々のコンタミネーションを防止でき、本発明感光体の
作製を安定した条件下で行なえる様になり好ましい。
第7図或は第8図に示した本発明に係わる感光体の電荷
発生層製造装置において、本発明感光体の電荷発生層製
造に供する真空槽は、排気ポンプにより予め10−5乃
至10−’Torr程度にまで減圧し、真空度の確認と
装置内部に吸着したガスの脱離を行なう。次いで、第1
乃至第2電極に電力を印加し第1乃至第2ボートをそれ
ぞれ所定の温度まで昇温する。第1乃至第2ボートが所
定の温度で安定化した後、予め閉状態にしておいた第1
乃至第2遮蔽板を駆動ソレノイドを用いて同時に開状態
とし、基板上にフタロシアニン系顔料と絶縁性有機物質
との二成分よりなる共蒸着膜を堆積きせる。そして遮蔽
板の開時間を調整するか、もしくは、基板近傍に予め水
晶発振子を取り付は振動数の変化をモニターし、該共蒸
着膜が所定の−膜厚に達したところで遮蔽板を閉状態と
し、本発明感光体の電荷発生層を得る。膜堆積終了後は
、第1乃至第2電極の電力印加を停止して第1乃至第2
ボートを冷却すると共に、真空槽内を充分に排気する。
最後に、真空を破り基板を取り出すか、または、工程に
よってはゲートバルブを用いて第9図或は第10図に示
した本発明に係わる感光体のプラズマCVD法による電
荷輸送層製造装置に基板を搬送する。
第9図或は第10図に示した本発明に係わる感光体のプ
ラズマCVD法による電荷輸送層製造装置において、電
荷輸送層製造に供する反応室は、拡散ポンプにより予め
10−4乃至1O−6Torr程度にまで減圧し、真空
度の確認と装置内部に吸着したガスの脱着を行なう。同
時に電極加熱器により、電極並びに電極に装着された基
板を所定の温度まで昇温する。次いで、第1乃至第6タ
ンク及び第1乃至第3容器から、原料ガスを適宜第1乃
至第9流量制御器を用いて定流量化しながら反応室内に
導入し、圧力調節弁により反応室内を一定の減圧状態に
保つ。ガス’(Hfflが安定化した後、接続選択スイ
ッチにより、例えば低周波電源を選択し、電力印加電極
に低周波電力を投入する。両電極間には放電が開始され
、時間と共に基板上に固相の膜が形成される。反応時間
により膜厚を制御し、所定の膜厚並びに積層構成に達し
たところで放電を停止し、本発明感光体の電荷輸送層を
得る。次いで、第1乃至第9調節弁を閉じ、反応室内を
充分に排気する。最後に、真空を破り基板を取り出すか
、または、工程によってはゲートバルブを用いて第7図
或は第8図に示した本発明に係わる感光体の電荷発生層
製造装置に基板を搬送する。
以下実施例を挙げながら、本発明を説明する。
実施別上 本発明に係わる感光体の製造装置を用いて、第けた本発
明感光体を作製した。
電荷発生層形成工程: 第7図に示す本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装
置において、まず、第1ボート(5゜4)にアルミニウ
ムクロロフタロシアニンAlClPcの粉末を、第2ボ
ート(505)にテフロン(−CF2 CF2−)nの
粉末を載置し、基板保持部材(502)には樅50×横
50X厚き3mmのアルミニウム板を基板(503)と
して取り付けた。次いで真空槽(501)内を排気ポン
プ(511)を用いて10−7T o r r程度の高
真空にした後、第1電極及び第2電極(506及び50
7)に電力を印加し、第1ボート(504)を520℃
、及び、第2ボート(505)を730℃にまで昇温し
な。第1ボー) (504)温度、及び、第2ボー) 
(505)温度が安定したところで、予め閉状態にして
おいた第1遮蔽板(508)及び第2遮蔽板(509)
を駆動ソレノイド(510)を作動させて同時に開状態
にし、lX10−5程度の真空度のもとで、基板(50
3)上にアルミニウムクロロフタロシアニンとテフロン
の共蒸着膜を堆積させた。約5分間然着を行なった後、
第1遮蔽板(508)及び第2遮蔽板(509)を駆動
ソレノイド(510)を作動させて同時に閉状態とし、
約2000人の膜厚を有する本発明によるPc膜を電荷
発生層として得た。Pc膜作製後は、第1電極及び第2
電極(506及び507)への通電を停止すると共に、
真空槽(501)内を充分に排気した。
以上のようにして得られたPc膜中に含有きれるアルミ
ニウム原子と弗素原子との比率をオージェ分析装置によ
り測定したところ、アルミニウム原子対弗素原子の比は
1対1.o3であり、両者の分子量から、Pc膜中に含
有されるテフロンの量はアルミニウムクロロフタロシア
ニンとテフロンの総量に対し4.3重量%であった。ま
た、第1ボート(504)並びに第2ボート(505)
の重量減少率の測定から、Pc膜中に含有されるテフロ
ンの量はアルミニウムクロロフタロシアニンとテフロン
の総量に対し4.6重量%であり、良く一致した結果が
得られることが確認された。
別に、アルミニウムクロロフタロシアニンとテフロンと
を個別に蒸若し、蒸着膜の重E1測定からPc膜中に含
有されるテフロンの螢を算出したところアルミニウムク
ロロフタロシアニンとテフロンの総量に対し4.4M量
%であり、良く一致した結果が得られることが確認され
た。
電荷輸送層形成工程: 次いで、第9図に示す本発明に係わる感光体のプラズマ
CVD法による電荷輸送層製造装置において、まず、反
応装置(733)の内部を1O−6Torr程度の高真
空にした後、第1調節弁(707)を解放し、第1タン
ク(701)より水素ガスを出力圧1.0Kg/cm2
の下で第1流量制御器(713)内へ流入させた。同時
に、第1容器(719)よりスチレンガスを第1温調器
(722)温度30℃のもと第7流量制御器(728)
内へ流入きせた。水素ガスの流量を10105e、及び
、スチレンガスの流量を36 s c amとなるよう
に設定して、途中混合器(731)を介して、主管(7
32)より反応室(733)内へ流入した。各々の流量
が安定した後に、反応室(733)内の圧力が0.5T
orrとなるように圧力調節弁(745)を調整しt:
。一方、“Pc膜が設けられ、第7図に示す本発明に係
わる感光体の電荷発生層製造装置より移送きれてきた基
板(752)は、予め80℃に加熱しておき、ガス流量
及び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ(7
44)により接続しておいた低周波電源(741)を投
入し、電力印加電極(736)に90Wattの電力を
周波数20KHzの下で印加して約30分プラズマ重合
反応を行ない、基板(752)上に厚ざ15μmの有機
プラズマ重合膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了
後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室(73
3)内を充分に排気した。
以上のようにして得られた有機プラズマ重合膜につき有
機元素分析を行なったところ、含有される水素原子の量
は炭素原子と水素原子の総量に対して44原子%であっ
た。
特性評価結果: 得られた感光体は、常用のカールソンプロセスにおいて
コロナ放電により少なくとも一630Vに初期帯電可能
であった。また、初期帯電電位から初期帯電電位の90
%に士で暗減衰するのに要した時間は約18秒であり、
これらのことから、実用上充分な帯電性能を有すること
が確認された。また、初期帯電後、白色光を用いて半減
電位にまで明減衰させたところ必要とされた光量は1.
6ルツクス・秒であり、このことから好適な感度を有す
ることが確認された。また、初期帯電後、半導体レーザ
ー光を用いて半減電位にまで明減衰させたとこる必要と
された光量は5.4工ルグ/cm2であり、このことか
ら好適な長波長光感度を有することが確認された。また
、初期帯電後、白色光80ルツクス・秒照射時の表面電
位を残留電位として測定したところ一8■であり、好適
なイレース性能を有することが確認された。
以上より、本例に示した本発明による感光体は、実用上
好適な特性を有するものである。また、この感光体に対
して、常用のカールソンプロセスの中で作像して転写し
たところ、鮮明な画像Qが得られた。ざらに、この感光
体の表面硬度を、J I S−に−5400規格に基づ
いて測定したところ、7H以上の硬度が観測され、実用
的な感光体として好適な表面性能を有することが671
認された。
比較グ1 電荷発生層形成工程において、テフロンを使用しないこ
と以外は、実施例1と同様にして積層膜を作製した。
特性評価結果: 得られた積層膜につき、実施例1と同様の評価を行なっ
たところ、常用のカールソンプロセスにおいてコロナ放
電により少なくとも一630Vに初期帯電可能であった
。しかし、初期帯電後、白色光を用いて半減電位にまで
明減衰させたとこる必要とされた光量は約60ルツクス
・秒であり、半導体レーザー光を用いた場合には半減電
位に達しなかった。
以上より、本例に示した積層膜は実用上好適な特性を有
するものとはいえず、このことから本発明において絶縁
性有機物質を共蒸着することによる効果が確認された。
比較例2 実施例1において電荷輸送層だけを作製した。
特性評価結果: 得られた有機プラズマ重合膜につき、実施例1と同様の
評価を行なったところ、常用のカールソンプロセスにお
いてコロナ放電により少なくとも一630Vの初期帯電
が可能であった。しかし、初期帯電後、白色光或は半導
体レーザー光を用いて明減衰を試みたところ、電位減衰
は全く観測されなかった。
以上より、本例に示した有機プラズマ重合膜は、それだ
けでは光導電性を有きないことが確認された。
実施例2 本発明に係わる感光体の製造装置を用いて、第けた本発
明感光体を作製した。
電荷発生層形成工程: 第7図に示す本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装
置において、まず、第1ボート(504)にアルミニウ
ムクロロフタロシアニンクロライドAlClPc (C
I)の粉末を、第2ボート(505)にポリエチレンの
粉末を載置し、基板保持部材(502)には樅50×横
50X厚ざ3mmのアルミニウム板を基板(503)と
して取り付けた。次いで真空槽(501)内を排気ポン
プ(511)を用いて10−7T o r r程度の高
真空にした後、第1電極及び第2電極(506及び50
7)に電力を印加し、第1ボート(504)を490℃
、及び、第2ボート(505)を470℃にまで昇温し
た。第1ボート(504)温度、及び、第2ボート(5
05)温度が安定したところで、予め閉状態にしておい
た第1遮蔽板(508)及び第2遮蔽板(509)を駆
動ソレノイド(510)を作動させて同時に開状態にし
、lXl0−5程度の真空度のもとで、基板(503)
上にアルミニウムクロロフタ口シアニンクロライドとポ
リエチレンの共蒸着膜を堆積させた。約5分間然着を行
なった後、第1遮蔽板(508)及び第2遮蔽板(50
9)を駆動ソレノイド(510)を作動させて同時に閉
状態とし、約1500人の膜厚を有する本発明によるP
c膜を電荷発生層として得た。Pc膜作製後は、第1電
極及び第2電極(506及び507)への通電を停止す
ると共に、真空槽(501)内を充分に排気した。
以上のようにして得られたPc膜につき、ポート重量を
測定したところ、含有きれるポリエチレンの量はアルミ
ニウムクロロフタロシアニンとポリエチレンの総量に対
し7.8重量%であった。
電荷輸送層形成工程: 次いで、第9図に示す本発明に係わる感光体のプラズマ
CVD法による電荷輸送層製造装置において、まず、反
応装置(733)の内部を1O−6Torr程度の高真
空にした後、第1乃至第2調節弁(707乃至708)
を解放し、第1タンク(701)より水素ガス、第2タ
ンク(702)よりブタジェンガスを出力圧1.0Kg
/am2の下で第1乃至第2流量制御器(713乃至7
14)内へ流入させた。水素ガスの流量を60secm
、及び、ブタジェンガスの流量を60s e cmとな
るように設定して、途中混合器(731)を介して、主
管(732)より反応室(733)内へ流入した。各々
の流量が安定した後に、反応室(733)内の圧力が2
.0Torrとなるように圧力調節弁(745)を調整
した。一方、Pc膜が設けられ、第7図に示す本発明に
係わる感光体の電荷発生層製造装置より移送されてきた
基板(752)は、予め50℃に加熱しておき、ガス流
量及び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ(
744)により接続しておいた低周波電源(741)を
投入し、電力印加電極(736)に90Wattの電力
を周波数200KHzの下で印加して約16分プラズマ
重合反応を行ない、基板(752)上に厚ざ15μmの
有機プラズマ重合膜を電荷輸送層として形成した。成膜
完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室(
733)内を充分に排気した。
以上のようにして得られた有機プラズマ重合膜につき有
機元素分析を11なったところ、含有される水素原子の
量は炭素原子と水素原子の総量に対して4o原子%であ
った。
特性評価結果: 得られた感光体は、常用のカールソンプロセスにおいて
コロナ放電により少なくとも一630vに初期帯電可能
であった。また、初期帯電電位から初期帯電電位の90
%にまで暗減衰するのに要した時間は約16秒であり、
これらのことから、実用上充分な帯電性能を有すること
が確認されへた。また、初期帯電後、白色光を用いて半
減電位にまで明減衰させたところ必要とされた光量は1
、フルックス・秒であり、このことから好適な感度を有
することが確認された。また、初期帯電後、半導体レー
ザー光を用いて半減電位にまで明減衰させたとこる必要
とされた光量は5.3工ルグ/cm2であり、このこと
から好適な長波長光感度を有することが確認された。ま
た、初期帯電後、白色光80ルツクス・秒照射時の表面
電位を残留電位として測定したところ一6■であり、好
適なイレース性能を有することが確認された。
以上より、本例に示した本発明による感光体は、実用上
好適な特性を有するものである。また、この感光体に対
して、常用のカールソンプロセスの中で作像して転写し
たところ、鮮明な画像が得られた。ざらに、この感光体
の表面硬度を、J IS−に−5400規格に基づいて
測定したところ、7H以上の硬度が観測され、実用的な
感光体として好適な表面性能を有することが確認された
衷施健旦 本発明に係わる感光体の製造装置を用いて、第けな本発
明感光体を作製した。
電荷輸送層形成工程: 第10図に示す本発明に係わる感光体のプラズマCVD
法による電荷輸送層製造装置において、まず、反応装置
(733)の内部を1O−6Torr程度の高真空にし
た後、第1乃至第2調節弁(707乃至708)を解放
し、第1タンク(701)よりアルゴンガス、第2タン
ク(702)よりアセチレンガスを出力圧1.0Kg/
cm2の下で第1乃至第2流量制御器(713乃至71
4)内へ流入させた。アルゴンガスの流量を120se
cm、及び、アセチレンガスの流量を101005eと
なるように設定して、途中混合器(731)を介して、
主管(732)より反応室(733)内へ流入した。各
々の流量が安定した後に、反応室(733)内の圧力が
1.0Torrとなるように圧力調節弁(745)を調
整した。一方、基板(752)には直径80×長さ33
0mmの円筒状アルミニウムドラムを用い、予め50℃
に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、
予め接続選択スイッチ(744)により接続しておいた
高周波電源(739)を投入し、電力印加電極(736
)に130Wattの電力を周波数13.56MHzの
下で印加して約60分プラズマ重合反応を行ない、基板
(752)上に厚ざ15μmの有機プラズマ重合膜を電
荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印加を停
止し、調節弁を閉じ、反応室(733)内を充分に排気
した。
以上のようにして得られた有機プラズマ重合膜につき有
機元素分析を行なったところ、含有される水素原子の量
は炭素原子と水素原子の総量に対して37原子%であっ
た。
電荷発生層形成工程: 第8図に示す本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装
置において、まず、第1ボート(5゜4)にチタニルフ
タロシアニンTi0Pcの粉末を、第2ボート(505
)にポリスチレンの粉末を載置し、真空槽(501)内
を排気ポンプ(511)を用いて1O−7Torr程度
の高真空にした。一方、基板保持部材(502)には、
有機プラズマ重合膜が設けられ、第10図に示す本発明
に係わる感光体の電荷輸送層製造装置より移送されてき
た基板(503)を装着し、第1電極及び第2電1’l
 (506及び507)に電力を印加し、第1ボーh 
(504)を500℃、及び、第2ボート(505)を
270℃にまで昇温しな。
第1ボート(504)温度、及び、第2ボート(505
)温度が安定したところで、予め閉状態にしておいた第
1遮蔽板(508)及び第2遮蔽板(509)を駆動ソ
レノイド(510)を作動させて同時に開状態にし、l
Xl0−5程度の真空度のもとで、基板(503)上に
チタニルフタロシアニンとポリスチレンの共蒸着膜を堆
積させた。約5分開蓋着を行なった後、第1遮蔽板(5
08)及び第2遮蔽板(509)を駆動ソレノイド(5
10)を作動させて同時に閉状態とし、約2000人の
膜厚を有する本発明によるPc膜を電荷発生層として得
た。Pc膜作製後は、第1電極及び第2電極(506及
び507)への通電を停止すると共に、真空槽(501
)内を充分に排気した。
以上のようにして得られたPc膜中につき、ボート重量
を&11定したところ、含有されるポリスチレンの量は
チタニルフタロシアニンとポリスチレンの総量に対し1
1.3重量%であった。
特性評価結果: 得られた感光体は、常用のカールソンプロセスにおいて
コロナ放電により少なくとも一630Vに初期帯電可能
であった。また、初期帯電電位から初期帯電電位の90
%にまで暗減衰するのに要した時間は約17秒であり、
これらのことから、実用上充分な帯電性能を有すること
が確認された。また、初期帯電後、白色光を用いて半減
電位にまで明減衰させたとこる必要とされた光量は1.
6ルツクス・秒であり、このことから好適な感度を有す
ることが確認された。また、初期帯電後、半導体レーザ
ー光を用いて半減電位にまで明減衰させたとこる必要と
された光量は5.2工ルグ/cm2であり、このことか
ら好適な長波長光感度を有することが確認された。また
、初期帯電後、白色光80ルツクス・秒照射時の表面電
位を残留電位として測定したところ一6Vであり、好適
なイレース性能を有することが確認された。
以上より、本例に示した本発明による感光体は、実用上
好適な特性を有するものである。また、この感光体をミ
ノルタ製複写機EP470Zに搭載し作像して転写した
ところ、鮮明な画像が得られた。このことから、本例に
示した本発明による感光体は、実用的な円筒状形態でも
作製可能であることが確認された。
実施例4 本発明に係わる感光体の製造装置を用いて、第けた本発
明感光体を作製した。
電荷発生層形成工程: 第8図に示す本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装
置において、まず、第1ボート(504)にアルミニウ
ムクロロフタロシアニンクロライドAICIPc(CI
)の粉末を、第2ボート(505)にポリプロピレン(
低分子量アイソタクチック)の粉末を載置し、基板保持
部材(502)には直径80X長ざ330mmの円筒状
アルミニウムドラムを基1ff(503)として取り付
けt:。次いで真空槽(501)内を排気ポンプ(51
1)を用いて1O−7Torr程度の高真空にした後、
第1電極及び第2電極(506及び507)に電力を印
加し、第1ボート(504)を520℃、及び、第2ボ
ート(505)を180℃にまで昇温した。第1ボート
(504)温度、及び、第2ボート(505)m度が安
定したところで、予め閉状態にしておいた第1遮蔽板(
508)及び第2遮蔽板(509)を駆動ソレノイド(
510)を作動させて同時に開状態にし、1×10−5
程度の真空度のもとで、基板(503)上にアルミニウ
ムクロロフタロシアニンクロライドとポリプロピレンの
共蒸着膜を堆積させた。約5分間然着を行なった後、第
1遮蔽板(508)及び第2遮蔽板(509)を駆動ソ
レノイド(510)を作動させて同時に閉状態とし、約
2200人の膜厚を有する本発明によるPc膜を電荷発
生層として得た。Pc膜作製後は、第1電極及び第2電
極(506及び507)への通電を停止すると共に、真
空槽(501)内を充分に排気した。
以上のようにして得られたPc膜につき、ボート重量の
測定を行なったところ、含有されるポリプロピレンの量
はアルミニウムクロロフタロシアニンクロライドとポリ
プロピレンの総量に対し7.2重量%であった。
電荷輸送層形成工程: 次いで、第10図に示す本発明に係わる感光体のプラズ
マCVD法による電荷輸送層製造装置において、まず、
反応装置(733)の内部を10−”Torr程度の高
真空にした後、第1調節弁(707)を解放し、第1タ
ンク(701)より水素ガスを出力圧1.0Kg/am
2の下で第1流量制御器(713)内へ流入させた。同
時に、第1容器(719)よりミルセンガスを第1温調
器(722)温度75℃のもと第7流量制御器(728
)内へ流入させた。水素ガスの流量を10105e、及
び、ミルセンガスの流量を25secmとなるように設
定して、途中混合器(731)を介して、主管(732
)より反応室(733)内へ流入した。各々の流量が安
定した後に、反応室(733)内の圧力が0.25To
rrとなるように圧力調節弁(745)を調整した。一
方、Pc膜が設けられ、第8図に示す本発明に係わる感
光体の電荷発生層製造装置より移送されてきた基板(7
52)は、予め80℃に加熱しておき、ガス流量及び圧
力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ(744)
により接続しておいた低周波電源(741)を投入し、
電力印加電極(736)に140Wattの電力を周波
数100KH2の下で印加して約40分プラズマ重合反
応を行ない、基板(752)上に厚き15μmの有機プ
ラズマ重合膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後
は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室(733
)内を充分に排気した。
以上のようにして得られた有機プラズマ重合膜につき有
機元素分析を行なったところ、含有される水素原子の景
は炭素原子と水素原子の総量に対して57原子%であっ
た。
特性評価結果; 得られた感光体は、常用のカールソンプロセスにおいて
コロナ放電により少なくとも一630Vに初期帯電可能
であっだ。また、初期帯電電位から初期帯電電位の90
%にまで暗減衰するのに要した時間は約14秒であり、
これらのことから、実用上充分な帯電性能を有すること
が確認された。また、初期帯電後、白色光を用いて半減
電位にまで明減衰させたところ必要とされた光量は1.
5ルツクス・秒であり、このことから好適な感度を有す
ることが確認された。また、初期帯電後、半導体レーザ
ー光を用いて半減電位にまで明減衰させたところ必要と
された光量は5.0工ルグ/cm2であり、このことか
ら好適な長波長光感度を有することが確認された。また
、初期帯電後、白色光80ルツクス・秒照射時の表面電
位を残留電位として測定したところ一7Vであり、好適
なイレース性能を有することが確認された。
以上より、本例に示した本発明による感光体は、実用上
好適な特性を有するものである。また、この感光体をミ
ノルタ製複写機EP470Zニ搭載し作(象して転写し
たところ、鮮明な画像が得られた。また、この感光体の
表面硬度を、JIS−に−5400規洛に基づいて測定
したところ、7H以上の硬度が観測され、実用的な感光
体として好適な表面性能を有することが確認された。ざ
らに、この感光体について耐久試験を行なったところ、
A4紙20万枚の耐刷試験後も、好適な画像が得られた
大旌健旦 本発明に係わる感光体の製造装置を用いて、第けな本発
明感光体を作製した。
電荷発生層形成工程: 実施例4と同様にして、本発明に係わる感光体の電荷発
生層を作製し、基板を真空槽外へ取り出した。
電荷輸送層形成工程: 次いで、ポリカーボネイト7重量部、テトラヒドロフラ
ン10重量部、及び、4−ジエチルアミノベンズアルデ
ヒド−ジフェニルヒドラゾン7重量部よりなる塗液をデ
ィッピングコーティング法を用いて塗布し、乾燥後の膜
厚が15μmとなるようにして本発明感光体の電荷輸送
層を形成した。
特性評価結果: 得られた感光体は、常用のカールソンプロセスにおいて
コロナ放電により少なくとも一630Vに初期帯電可能
であった。また、初期帯電電位から初期帯電電位の90
%にまで暗減衰するのに要した時間は約12秒であり、
これらのことから、実用上充分な帯電性能を有すること
が確認された。また、初期帯電後、白色光を用いて半減
電位にまで明減衰させたとこる必要とされた光量は1.
6ルツクス・秒であり、このことから好適な感度を有す
ることが確認された。また、初期帯電後、半導体レーザ
ー光を用いて半減電位にまで明減衰させたとこる必要と
された光量は4.6工ルグ/cm2であり、このことか
ら好適な長波長光感度を有することが確認された。また
、初期帯電後、白色光8Qルツクス・秒照射時の表面電
位を残留電位として測定したところ一6■であり、好適
なイレース性能を有することが確認された。
以上より、本例に示した本発明による感光体は、実用上
好適な特性を有するものである。また、この感光体をミ
ノルタ製複写機EP470Zに搭載し作像して転写した
ところ、鮮明な画像が得られた。
叉施例旦 本発明に係わる感光体の製造装置を用いて、第けた本発
明感光体を作製した。
電荷発生層形成工程: 実施例4と同様にして、本発明に係わる感光体の電荷発
生層を作製した。
電荷輸送層形成工程: 次いで、第10図に示す本発明に係わる感光体のプラズ
マCVD法による電荷輸送層製造装置において、まず、
反応装置(733)の内部を10−’Torr程度の高
真空にした後、第1乃至第3調節弁(707乃至709
)を解放し、第1タンク(701)より水素ガス、第2
タンク(701)よりエチレンガス、及び、第3タンク
(703)よりシランガスを各々出力圧1.0Kg/c
m2の下で第1乃至第3流量制御器(713乃至715
)内へ流入きせた。流量制御器の目盛を調整して、水素
ガスの流量を200secm、エチレンガスの流量を1
20secm、及び、シランガスの流量を140sec
mとなるように設定して、途中混合器(731)を介し
て、主管(732)より反応室(733)内へ流入した
。各々の流量が安定した後に、反応室(733)内の圧
力が1、ITorrとなるように圧力調節弁(745)
を調整した。一方、Pc膜が設けられ、第8図に示す本
発明に係わる感光体の電荷発生層製造装置より移送され
てきた基板(752)は、予め110℃に加熱しておき
、ガス流量及び圧力が安定した状態で、予め接続選択ス
イッチ(744)により接続しておいた高周波電源(7
39)を投入し、電力印加電極(736)に200Wa
ttの電力を周波数13.56MHzの下で印加して約
5時間プラズマ重合反応を行ない、基板(752)上に
厚き15μmの炭素含有水累化アモルファスシリコン膜
を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印加
を停止し、調節弁を閉じ、反応室(733)内を充分に
排気した。
特性評価結果: 得られた感光体は、常用のカールソンプロセスにおいて
コロナ放電により少なくとも一630Vに初期帯電可能
であった。また、初期帯電電位から初期帯電電位の90
%にまで暗減衰するのに要した時間は約17秒であり、
これらのことから、実用上充分な帯電性能を有すること
が確認された。また、初期帯電後、白色光を用いて半減
電位にまで明減衰させたとこる必要とされた光量は2.
3ルツクス・秒であり、このことから好適な感度を有す
ることが確認された。また、初期帯電後、半導体レーザ
ー光を用いて半減電位にまで明減衰させたとこる必要と
された光量は9.7工ルグ/Cm2であり、このことか
ら好適な長波長光感度を有することが確認された。また
、初期帯電後、白色光80ルツクス・秒照射時の表面電
位を残留電位として測定したところ一5Vであり、好適
なイレース性能を有することが確認された。
以上より、本例に示した本発明による感光体は、実用上
好適な特性を有するものである。また、この感光体をミ
ノルタ製複写機EP470Zに搭載し作像して転写した
ところ、鮮明な画像が得られた。また、この感光体の表
面硬度を、JIS−に−5400規格に基づいて測定し
たところ、7H以上の硬度が観測され、実用的な感光体
として好適な表面性能を有することが確認された。ざら
に、この感光体について耐久試験を行なったところ、A
4紙4o万秋の耐刷試験後も、好適な画像が得られた。
比較例3 実施例6において電荷輸送層だけを作製した。
特性評価結果: 得られた膜につき、実施例6と同様の評価を行なったと
ころ、常用のカールソンプロセスにおいてコロナ放電に
より少なくとも一630Vの初期帯電が可能であった。
しかし、初期帯電後、白色光或は半導体レーザー光を用
いて明減衰を試みたところ、電位減衰は全く観測されな
かった。
以上より、本例に示した膜は、それだけでは光導電性を
有きないことが確認される。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第6図は本発明感光体の構成を示す図面、第
7図乃至第8図は本発明に係わる感光体の電荷発生層形
成装置を示す図面、及び、第9図乃至第10図は本発明
に係わる感光体の電荷輸送層形成装置を示す図面である
。 出願人 ミノルタカメラ株式会社 第1図   第2図 第3必  梁4図 第5図  第ろ図 第7図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 導電性基板上に電荷発生層と電荷輸送層とを積層してな
    る機能分離型感光体において、該電荷発生層が真空蒸着
    法により形成されたフタロシアニン系顔料と絶縁性有機
    物質との二成分よりなる共蒸着膜であることを特徴とす
    る感光体。
JP251487A 1987-01-08 1987-01-08 感光体 Pending JPS63169649A (ja)

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JP251487A JPS63169649A (ja) 1987-01-08 1987-01-08 感光体

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JP251487A JPS63169649A (ja) 1987-01-08 1987-01-08 感光体

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JPS63169649A true JPS63169649A (ja) 1988-07-13

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ID=11531479

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JP251487A Pending JPS63169649A (ja) 1987-01-08 1987-01-08 感光体

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JP (1) JPS63169649A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0681222A3 (en) * 1989-01-09 1996-07-03 Konishiroku Photo Ind Electrophotographic photoreceptor.

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0681222A3 (en) * 1989-01-09 1996-07-03 Konishiroku Photo Ind Electrophotographic photoreceptor.

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