JPS63169650A

JPS63169650A - 感光体

Info

Publication number: JPS63169650A
Application number: JP251587A
Authority: JP
Inventors: Noboru Saeki; 登佐伯; Fumiko Sakaguchi; 坂口　文子; Mochikiyo Osawa; 大澤　以清; Kazuo Ota; 和夫太田
Original assignee: Minolta Co Ltd
Current assignee: Minolta Co Ltd
Priority date: 1987-01-08
Filing date: 1987-01-08
Publication date: 1988-07-13

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、機能分離型感光体に関する。

従来９挟術カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、感光体にも様々な材料が開発きれ実用化さ
れて来た。

従来用いられて来た感光体材料の主な物としては、フタ
ロシアニン系顔料、ジスアゾ系顔料、トリスアゾ系顔料
、ペリレン系顔料、ポリビニルカルバゾール、トリフェ
ニルメタン化合物、トリフェニルアミン化合物、ヒドラ
ゾン化合物、スチリル化合物、ピラゾリン化合物、オキ
サゾール化合物、オキサジアゾール化合物、等の有機物
質、非晶質セレン、セレン砒素、セレンテルル、硫化カ
ドミウム、酸化亜鉛、アモルファスシリコン等の無機物
質が挙げられる。また、その構成形態としては、これら
の物質を単体で用いる単層型構成、結着材中に分散きせ
て用いるバインダー型構成、機能別に電荷発生層と電荷
輸送層とを設ける積層型構成等が挙げられる。

中でもフタロシアニン系顔料は、フタロシアニン単体に
おいて良好な電荷発生能を有するばかりでなく、フタロ
シアニン骨格中に種々の金属原子或は置換基を導入する
ことにより光吸収波長域を比較的任意に選択可能である
ことから、可視域付近に発光波長を有する白色光を光源
に用いた所謂ＰＰＣ用感光体から７８０ｎｍ付近に発光
波長を有する半導体レーザー光を光源に用いた所謂ＬＢ
Ｐ用感光感光体、幅広く応用可能な電荷発生材料として
期待きれ多くの研究並びに発明がなされて来ている。

フタロシアニン系顔料（２樹脂中に分１）々せしめた塗
膜が電荷発生材料として感光体に使用可能であることは
古くより知られており、例えばバケット（Ｃ，Ｆ、Ｈａ
ｃｋｅｔｔ）により、１９７１年発行のザ・ジャーナル
・オブ・ケミカル・フィジックス（Ｔｈｅ　　Ｊｏｕｒ
ｎａ　ｌ　　ｏｆ　　Ｃｈｅｍｉｃａ　ｌ　　Ｐｈｙｓ
　１ｃｓ）第５５巻第７号第３１７８頁乃至第３１８７
頁において、高濃度のフタロシアニン顔料を含有するポ
リ−Ｎ−ビニルカルバゾール層とポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾール層とを塗布ｍ層することにより電子写真用感光
材料が得られることが報告されている。また、特開昭４
７−３０３２８号公報にはＸ型及びβ型の無金属フタロ
シアニン及び金属フタロシアニンを樹脂中に分散塗布せ
しめた電子写真プレートが開示されている。この他にも
、機能分離型構成及びバインダー型構成の何れにも、フ
タロシアニン系顔料を分散塗布した薄膜を電荷発生材料
に用いた感光体に関する開示が数多くなされている。

しかしながら、フタロシアニン系顔ｔ」を分８々塗布し
た薄膜を電荷発生材料に用いた感光体の作製には、使用
するフタロシアニン系顔料に適した樹脂の選択とフタロ
シアニン系顔料の分散性に優れた樹脂用溶剤の選択とを
行なう必要がある。モして、これらの材料から、混合比
、粘度、分散法等の調整により均質な塗液を調製し、ざ
らに、塗工法、乾燥法等の調整により均等な膜厚を有す
る薄膜を形成する必要があり、感光体作製における不安
定要素が多い。

そこで、均一なフタロシアニン系顔料の薄膜を容易に形
成するために真空蒸着を用いる手法が注目されている。

一般に、フタロシアニン系顔料の真空蒸着膜は、膜形成
速度が低いため、感光体全層に用いるには産業上不都合
な点が多いが、機能分離型感光体の電荷発生層として用
いる場合には膜厚が極めて薄くて済むため有用である。

フタロシアニン系化合物の蒸着膜が感光体の電荷発生層
として使用可能であることは古くより知られており、例
えばレゲンスバーガー（Ｐ、Ｊ。

Ｒｅｇｅｎｓｂｕｒｇｅｒ）及びベトルツツエラ（Ｎ、
Ｌ、Ｐｅｔｒｕｚｚｅｌ　ｌａ）により、１９７１年発
行のジャーナル・オブ・ノンクリスタリン・ソリッド（
Ｊｏｕｒｎａｌ　　ｏｆ　　Ｎ。

ｎ−Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ　　５ｏｌｉｄ）第６巻第
１３乃至第２６頁において、無金属フタロシアニンの蒸
着膜を電荷発生層として用いた感光体において、非晶質
セレンを電荷輸送層として明減衰が得られることが報じ
られている。そしてこれまでに、電荷発生層として応用
可能なフタロシアニン系蒸着膜に関する多くの発明がな
されている。同時に、該電荷発生層と積層することによ
り感光体として実質的に機能きせるために、接着性に優
れ、電荷発生層からの電荷注入が容易で、ざらに、電荷
輸送性に優れた電荷輸送層材料に関しても多くの発明が
なされている。

例えば、特開昭４９−４８３３４号公報、特公昭５９−
３２７８７号公報、米国ＵＳＰ３，８９５．９４４号公
報には、無金属、または、Ｃｕ。

Ｃｄ、Ｚｎ、Ｐｂ等の金属を含むフタロシアニンの蒸着
膜を電荷発生層として設け、その上にオキサジアゾール
系の電荷輸送層を塗布した感光体が開示きれている。こ
の他にも、フタロシアニン系蒸着膜を電荷発生層に用い
た感光体について数多くの開示が見られる。

Ｕが解決しようとするｍα点前述のフタロシアニン系顔料の蒸着膜は、電荷発生能に
優れる反面、電気抵抗が低いため、そのまま機能分離型
感光体の電荷発生層として使用すると、コロナ帯電等に
より電荷発生層中に形成されるべき電界の強度が低くな
り、光励起キャリアの電荷輸送層への注入効率を低減し
、感度の低下を招く。また、フタロシアニン系顔料の蒸
着膜の中には半導体レーザー発光波長付近に感度を有す
るものもあるが、実用上ざらなる高感度化が望まれる。

溶剤処理による高感度化が、前述の特開昭５８−１５８
６４９号公報に開示きれてはいるが、工程の複雑化を伴
う。

本発明は、フタロシアニン系顔料の蒸着膜を電荷発生層
に用いた機能分離型感光体において、従来演では必ずし
も高抵抗の膜が得られず、感光体として充分な帯電電位
が得られるとは限らなかった問題点を解決し、光感度を
損なうことなく高電位にまで帯電可能な感光体を提供し
ようとするものである。また、本発明は、フタロシアニ
ン系顔料の蒸着膜を電荷発生層に用いた機能分離型感光
体において、従来法では長波長域での感度向上を達成す
るために工程の複雑化を伴う問題点を解決し、簡便な方
法で、しかも蒸着終了時において既に、長波長域での高
感度化が完了している電荷発生層を有する感光体を提供
しようとするものである。また、本発明は、フタロシア
ニン系顔料の蒸着膜を電荷発生層に用いた機能分離型感
光体において、電荷輸送層材料、電荷輸送層の製法、並
びに、電荷輸送層との積層位置関係等に制限を受けるこ
となく、自由度の高い感光体設計が可能な感光体を提供
しようとするものである。ざらに、本発明は、一般に、
有機系感光体において問題となる繰返し使用時における
特性劣化を解決し、長期使用にも耐え得る感光体を提供
しようとするものである。

問題点を解決するための手段即ち、本発明は、導電性基板上に電荷発生層と電荷輸送
層とを積層してなる機能分離型感光体において、該電荷
発生層がフタロシアニン系顔料の真空蒸着膜と無機物質
の真空蒸着膜とを交互に積層してなることを特徴とする
感光体に関する（以下、本発明による電荷発生層をＰｃ
膜と称する）。

本発明感光体は少なくとも電荷発生層と電荷輸送層から
構成される。

本発明感光体における電荷発生層、即ち、Ｐｃ膜は、フ
タロシアニン系顔料と無機物質とを蒸着源とし、真空蒸
着の常法を用いて、交互に蒸着することにより作製可能
である。

蒸着源として使用可能なフタロシアニン系顔料としては
、例えば、ＣｕＰｃ、ＡｌＣｌＰｃ　（ＣＩ　）　、Ａ
　Ｉ　ＣＩ　Ｐ　Ｃ％　Ｈ２Ｐ　０％　Ｇ　ｅ　（ＯＨ
）　２Ｐｃ、ＺｎＰｃ、ＭｇＰｃ、に２Ｐｃ、Ｔｉ０Ｐ
ｃ等が挙げられる。また、蒸着源として使用可能な無機
物質として＋１．例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＣｕＯ、Ｃｅ０
１Ｃｅ０２、ＣａＯ、ＣａＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｕＯ，Ｃ
ｕ２０．　Ｆ　ｅ２０３、Ｉｎ２Ｏ３、ＭｇＯ，ＭｏＯ
２、ＭｏＯ３、Ｎｉ０１ＰｂＯ，、Ｓｉｎ、ＳｉＯ２，
５ｎ０２、Ｔａ２０５、ＴｉＣ、ＴｉＯ２、Ｔｉ２Ｏ３
、ＷＯ３、Ｙ２Ｏ３、Ｚｎ○、ＺｒＯ２、ＺｎＳ。

ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＰｂＳ、Ｚｎ５ｅ、Ｍｇ
Ｆ２、等が挙げられる。

本発明感光体の電荷発生層中に含有せしめられる材料と
しては無機物質が好ましく、有機物質を用いた場合には
、蒸着時のボート温度に対する蒸発物質の組成が不安定
となるため、必ずしも安定した膜質を再現性よく得られ
るとは限らなくなる。

本発゛明のＰｃ膜の膜厚は、２００Å以上が好ましい。

膜厚が２００人より薄いと、電荷発生層における光吸収
量が低下するため光励起キャリア数が減り、感度低下を
招く。膜厚の上限は物性的には制限を受けず、厚膜化す
ればＰｃ膜だけでも感光体として使用できるが、生産性
を考慮すれば、概ね５μｍ以下の電荷発生層として用い
ることが好ましい。

本発明のＰｃ膜中に構成されるフタロシアニン系顔ト１
の真空蒸着膜及び無機物質の真空蒸着膜の膜厚は何れも
５００Å以下が好ましい。フタロシアニン系顔料の真空
蒸着膜の膜厚が５００人より厚いとフタロシアニン系顔
料の真空蒸着膜が元来有する低抵抗性が電荷発生層全体
においても支配的となり、前述の如く、コロナ帯電等に
より電荷発生層中に形成されるべ苦電界の強度が低くな
り、光励起キャリアの電荷輸送層への注入効率を低減せ
しめ、感光体としての感度低下を招き好ましくない。無
機物質の真空蒸着膜の膜厚が５００人より厚いと無機物
質の真空蒸着膜が元来有する絶縁性が電荷発生層全体に
おいても支配的となり、感光体の感度低下と残留電位の
上昇を招き好ましくない。双方の膜厚が５００人より厚
いと電荷発生層内部でのキャリアの移動が阻害され、感
光体の感度低下を招き好ましくない。フタロシアニン系
顔料の真空蒸着膜及び無機物質の真空蒸着膜の膜厚の下
限は持にはなく、装置上安定に制御できる範囲に設定す
ればよい。本発明の電荷発生層中に構成されるフタロシ
アニン系顔料の真空蒸着膜及び無機物質の真空蒸着膜の
膜厚は、常用される元素分析、例えば、オージェ分析、
ＩＭＡ分析等を用いて、深ざ方向の元素量分布を測るこ
とにより知ることができ、また、予め二種類の蒸着源に
つき別個に単位時間蒸着を行ない、形成された蒸着膜の
膜厚をダイヤルゲージで測定することにより堆積速度を
算出しておき、実際の蒸着時においては蒸着時間を計測
することにより知るこζができる。これらの手段は、何
れも測定誤差程度の範囲でよく一致した結果を得ること
が可能である。

本発明における感光体の電荷輸送層は、製法及び材料共
に、特に限定を受けるものではない。

本発明における感光体の電荷輸送層としては、ヒドラゾ
ン系化合物、ピラゾリン系化合物、スチルベン化合物、
トリアリールメタン系化合物、トリアリールアミン系化
合物、オキサジアゾール系化合物、オキサゾール系化合
物、チアゾール系化合物、ポリフリールアルカン類等を
例とする所謂有機電荷輸送性材料をポリカーボネイト、
ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ボリアリレ
ート、ポリスルホン、アクリル（ｆｆ４脂、メタクリル
樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、フエーノール樹脂
、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、スチレンアクリル
共重合体、スチレンブタジェン共重合体、スチレンマレ
イン酸共重合体等を例とする樹脂中に適当な溶剤を用い
て分散せしめた塗液を用いて、ディッピングコーティン
グ法、スプレーコーティング法、スピナーコーティング
法、ワイヤーバーコーティング法、ブレードコーティン
グ法、ローラーコーティング法等を例とする塗布法によ
り形成された薄膜を使用することが可能である。また、
本発明における感光体の電荷輸送層としては、前記例示
の如き所謂有機電荷輸送性材料等を蒸着源として真空蒸
着法により形成される薄膜を使用することが可能である
。また、本発明における感光体の電荷輸送層としては、
シラン、ジシラン、四弗化シラン等を例とする珪素原子
を含む気体とメタン、エタン、エチレン、アセチレン等
を例とする炭素原子を含む気体の混合気体を原料としプ
ラズマＣＶＤ法により形成される薄膜を使用することが
可能である。ざらに、本発明における感光体の電荷輸送
層としては、メタン、プロパン、ブタン、イソブタン、
イソペンタン、エチレン、プロピレン、ブタジェン、オ
シメン、ミルセン、アセチレン、ブタジイン、シクロペ
ンタン、シクロヘキサン、シクロプロペン、カレン、ピ
ネン、ベンゼン、トルエン、キシレン、スチレン、ビフ
ェニル、トリフェニルメタン、ジベンジル、ナフタリン
、アントラセン等の炭化水素、メタノール、エタノール
等のアルコール類、アセトン、メヂルエチルケトン等の
ケトン類、ジメチルエテル、メチルエチルエーテル等の
エーテル類、ギ酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、
等を例とする有機化合物の気体を原料としプラズマＣＶ
Ｄ法により形成される所謂有機プラズマ重合膜をも使用
することが可能である。

本発明感光体における電荷輸送層は、可視光もしくは半
導体レーザー光付近の波長の光に対しては明確なる光導
電性は有きないが好適な電荷輸送性を有し、本発明感光
体における電荷発生層で可視光もしくは半導体レーザー
光付近の波長の光により発生したキャリアを効率よく輸
送し、感光体の明減衰に効果的に寄与するものである。

本発明における感光体は、電荷発生層と電荷輸送層から
なる機能分離型の構成とするのが最適で、該電荷発生層
と該電荷輸送層の積層構成は、必要に応じて適宜選択す
ることが可能である。

第１図は、その一形態として、導電性基板（１）上に電
荷輸送層（２）と電荷発生層（３）を順次積層してなる
構成を示したものである。第２図は、別の一形態として
、導電性基板（１）上に電荷発生層（３）と電荷輸送層
（２）を順次積層してなる構成を示したものである。第
３図は、別の一形態として、導電性基板（１）上に、電
荷輸送層（２）と電荷発生層（３）と電荷輸送層（２）
を順次積層してなる構成を示したものである。

感光体表面を、例えばコロナ帯電器等により正帯電した
後、画像露光して使用する場合においては、第１図では
電荷発生層（３）で発生した正孔が電荷輸送層（２）中
を導電性基板（１）に向は走行し、第２図では電荷発生
層（３）で発生した電子が電荷輸送層（２）中を感光体
表面に向は走行し、第３図では電荷発生層（３）で発生
した正孔が導電性基板側の電荷輸送層（２）中を導電性
基板（１）に向は走行すると共に、同時に電荷発生層（
３）で発生した電子が表面側の電荷輸送層（２）中を感
光体表面に向は走行し、好適な明減衰に保証きれた静電
潜像の形成が行なわれる。反対に感光体表面を負帯電し
た後、画像露光して使用する場合においては、電子と正
孔の挙動を入れ代えて、キャリアーの走行性を解すれば
よい。第２図及び第３図では、画像露光用の照射光が電
荷輸送層中を通過することになるが、本発明による感光
体の電荷輸送層は透光性に優れることから、好適な潜像
形成を行なうことが可能である。

第４図は、ざらなる一形態として、導電性基板（１）上
に電荷輸送層（２）と電荷発生層（３）ど表面保護層（
４）を順次積層してなる構成を示したものである。即ち
第１図の形態に表面保護層を設けた形態に相当するが、
第１図の形態では、最表面が耐久性に優れた本発明感光
体の電荷発生層であるため表面保護層を設けなくてもよ
いが、例えば現像剤の付着による感光体表面の汚染を防
止するような、複写機内の各種エレメントに対する整合
性を調整する目的から、表面保護層を設けることもざら
なる一形態となりうる。第２図及び第３図の構成の場合
、最表面が本発明感光体においては特に限定を受けない
電荷輸送層であることから、実用上の湿度安定性或は耐
摩耗性を確保するために表面保護層を設けることもざら
なる一形態となりうる。

第５図は、ざらなる一形態として、導電性基板（１）上
に中間層（５）と電荷発生層（３）と電荷輸送層（２）
を順次積層してなる構成を示したものである。即ち第２
図の形態に中間層を設けた形態に相当するが、第２図の
形態では、導電性基板との接合面が接着性及び注入阻止
効果に優れた、本発明感光体の電荷発生層であるため、
中間層を設けなくてもよいが、例えば導電性基板の前処
理方法のような、感光層形成以前の製造工程との整合性
を調整する目的から、中間層を設けることもざらなる一
形態となりうる。第１図及び第３図の構成の場合、導電
性基板との接合面が本発明感光体においては特に限定を
受けない電荷輸送層であることから、接着性及び注入阻
止効果を確保するために中間層を設けることもざらなる
一形態となりうる。

第６図は、ざらなる一形態として、導電性基板（１）上
に中間層（５）と電荷輸送層（２）と電荷発生層（３）
と表面保護層（４）を順次積層してなる構成を示したも
のである。即ち第１図の形態に中間層と表面保護層を設
けた形態に相当する。中間層と表面保護層の設置理由は
前述と同様であり、従って第２図及び第３図の構成にお
いて中間層と表面保護層を設けることもざらなる一形態
となりうる。

本発明において中間層と表面保護層は、材ｆ４的にも、
製法的にも、特に限定を受けるものではなく所定の目的
が達せられるものであれば、適宜選択することが可能で
ある。

第７図は本発明に係わる感光体の電荷発生層の内部構成
を示したもので、図中（３）は電荷発生層、（３ａ）は
フタロシアニン系顔料の真空蒸着膜、並びに、（３ｂ）
は無機物質の真空蒸着膜を表わす。図中、電荷発生層（
３）は、両端部構成とも無機物質の真空蒸着膜（３ｂ）
で表わされているが、この構成に限られるものではなく
、本発明においては、フタロシアニン系顔料の真空蒸着
膜（３ａ）と無機物質の真空蒸着膜（３ｂ）とが交互に
積Ｎされることが重要である。

第８図は本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装置を
示し、図中（５０１）は真空槽を示し、内部には基板保
持部材（５０２）により保持された基板（５０３）が設
置されている。基板（５０３）と対向して蒸発源材料を
載置した第１ボート（５０４）及び第２ポート　（５０
５）が配され、各ボートはそれぞれ第１電極（５０６）
及び第２電４Ｍ（５０７）に接続され電力印加により加
熱可能とされている。基板（５０３）と第１ボート（５
０４）及び第２ボートとの間には第１遮蔽板（５０８）
及び第２遮蔽板（５０９）が設けられ、蒸着時以外にお
いては、例えば、ボートの昇温降温時或はボート温度の
安定化待機時等においては、蒸発源材料からの不安定な
蒸散物の基板（５０３）への付着を防止するために閉状
態に、蒸着時には開状態に駆動可能なように駆動ソレノ
イド（５１０）に接続されている。真空槽（５０１）内
は、排気ポンプ（５１１）により減圧可能とされている
。また、本装置においては、ボートの昇温に所謂抵抗加
熱法を用いているが、蒸発温度の高い蒸着源物質につい
ては、電子ビームを用いて昇温してもよい。

第９図は本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装置の
別の一形態を示し、図中基板保持部材（５０２）及び基
板（５０３）の形状が異なり、基板保持部材（５０２）
が駆動モーター（５１２）に接続され基板（５Ｃ）３）
が回転可能とされること以外は、第７図と同様である。

特に、第９図に示きれる本発明に係わる感光体の電荷発
生層製造装置においては、円筒状の基板（５０３）に本
発明感光体の電荷発生層を形成することが可能である。

第１０図は本発明に係わる感光体のプラズマＣＶＤ法に
よる電荷輸送層製造装置を示し、図中（７０１）乃至（
７０６）は常温において気相状態にある原料化合物及び
キャリアガスを密封した第１乃至第６タンクで、各々の
タンクは第１乃至第６調節弁（７０７）乃至（７１２）
と第１乃至第６流量制御器（７１３）乃至（７１８）に
接続されている。図中（７１９）乃至（７２１）は常温
において液相または固相状態にある原料化合物を封入し
た第１乃至第３容器で、各々の容器は気化のため第１乃
至第３温調器（７２２）乃至（７２４）により与熱可能
であり、ざらに各々の容器は第７乃至第９調節弁（７２
５）乃至（７２７）と第７乃至第９流量制御器（７２８
）乃至（７３０）に接続されている。これらのガスは混
合器（７３１）で混合されｔ：後、主管（７３２）を介
して反応室（７３３）に送り込まれる。途中の配管は、
常温において液相または固相状態にあった原料化合物が
気化したガスが、途中で凝結しないように、適宜配置さ
れた配管加熱器（７３４）により、与熱可能とされてい
る。反応室内には接地電極（７３５）と電力印加電極（
７３６）が対向して設置され、各々の電極は電極加熱器
（７３７）により与熱可能とされている。電力印加電極
（７３６）には、高周波電力用整合器（７３８）を介し
て高周波電源（７３９）、低周波電力用整合器（７４０
）を介して低周波電源（７４１）、ローパスフィルタ（
７４２）を介して直流電源（７４３）が接続されており
、接続選択スイッチ（７４４）により周波数の異なる電
力が印加可能とされている。反応室（７３３）内の圧力
は圧力制御弁（７４５）により調整可能であり、反応室
（７３３）内の減圧は、排気系選択弁（７４６）を介し
て、拡散ポンプ（７４７）　、油回転ポンプ（７４８）
　、或は、冷却除外装置（７４９）、メカニカルブース
ターポンプ（７５０）、油回転ポンプ（７４８）により
行なわれる。排ガスについては、ざらに適当な除外装置
（７５３）により安全無害化した後、大気中に排気きれ
る。これら排気系配管についても、常温において液相ま
たは固相状態にあった原料化合物が気化したガスが、途
中で凝結しないように、適宜配置きれた配管加熱器（７
３４）により、与熱可能ときれている。反応室（７３３
）も同様の理由から反応室加熱器（７５１）により与熱
可能とされ、内部に配された電極上に基板（７５２）が
設置される。図中、基板（７５２）は接地電極（７３５
）に固定して配されているが、電力印加電極（７３６）
に固定して配されてもよく、さらに双方に配されてもよ
い。

第１１図は本発明に係わる感光体のプラズマＣＶＤ法に
よる電荷輸送層製造装置の別の一形態を示し、反応室（
７３３）内部の形態以外は、第１０図に示した本発明に
係わる感光体のプラズマＣＶＤ法による電荷輸送層製造
装置と同様である。

第１０図において、反応室（７３３）内部には、第１０
図における接地電１（７３５）を兼ねた円筒形の導電性
基板（７５２）が設置され、内側には電極加熱器（７３
７）が配されている。導電性基板（７５２）周囲には同
じく円筒形状をした電力印加電極（７３６）が配きれ、
外側には電極加熱器（７３７）が配されている。導電性
基板（７５２）は、外部より駆動モータ（７５４）を用
いて自転可能となっている。

本発明に係わる感光体の製造においては、電荷輸送層を
塗布法にて作製する場合には、電荷発生層は第８図或は
第９図に示した本発明に係わる感光体の電荷発生層製造
装置により作製し、電荷輸送層は第８図或は第９図に示
した本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装置外にて
、別途、塗布法の常法、即ち、ディッピングコーティン
グ法、スプレーコーティング法、スピナーコーティング
法、ワイヤーバーコーティング法、ブレードコーティン
グ法、ローラーコーティング法等により作製される。ま
た、電荷輸送層を蒸着法にて作製する場合には、電荷発
生層並びに電荷輸送層共に第８図或は第９図に示した本
発明に係わる感光体の電荷発生層製造装置により作製さ
れる。また、電荷輸送層をプラズマＣＶＤ法にて作製す
る場合には、電荷発生層は第８図或は第９図に示した本
発明に係わる感光体の電荷発生層製造装置により作製し
、電荷輸送層は第１０図或は第１１図に示した本発明に
係わる感光体のプラズマＣＶＤ法による電荷輸送層製造
装置にて作製される。この場合、各装置は独立して使用
してもよいが、第８図に示した本発明に係わる感光体の
電荷発生Ｎ製造装置と第１ｏ図に示した本発明に係わる
感光体の′プラズマＣＶＤ法による電荷輸送層製造装置
、または、第９図に示した本発明に係わる感光体の電荷
発生層製造装置と第１１図に示した本発明に係わる感光
体のプラズマＣＶＤ法による電荷輸送層製造装置は、ゲ
ートバルブを介して接続し、適当な基板搬送装置を用い
て蒸着工程とプラズマＣＶＤ法程とを真空を破らずにｊ
１続して行なえる様にしてもよい。また、そうすること
により、真空外へ基板を取り出した時の基板及び装置に
対する種々のコンタミネーションを防止でき、本発明感
光体の作製を安定した条件下で行なえる様になり好まし
い。

第８図或は第９図に示した本発明に係わる感光体の電荷
発生層製造装置において、本発明感光体の電荷発生層製
造に供する真空槽は、排気ポンプにより予め１ｏ−５乃
至１α−７Ｔｏｒｒ程度にまで減圧し、真空度の確認と
装置内部に吸着したガスの脱着を行なう。次いで、第１
乃至第２電極に電力を印加し第１乃至第２ボートをそれ
ぞれ所定の温度まで昇温する。第１乃至第２ボートが所
定の温度で安定化した後、予め閉状態にしておいた第１
乃至第２遮蔽板を駆動ソレノイドを用いて交互に開状態
を繰返し、基板上にフタロシアニン系顔料の真空蒸着膜
と無機物質の真空蒸着膜とを交互に積層して成る本発明
感光体の電荷発生層を堆積させる。ここで、フタロシア
ニン系顔料の真空蒸着膜と無（；（物質の真空蒸着膜と
の膜厚は、遮蔽板の開時間の調整により行ない、該電荷
発生層が所定の膜厚に達しｔ：ところで遮蔽板を両方共
閉状態とし、本発明感光体の電荷発生層を得る。膜堆積
終了後は、第１乃至第２電極の電力印加を停止して第１
乃至第２ボートを冷却すると共に、真空槽内を充分に排
気する。最後に、真空を破り基板を取り出すか、または
、工程によってはゲートバルブを用いて第１０図或は第
１１図に示した本発明に係わる感光体のプラズマＣＶＤ
法による電荷輸送層製造装置に基板を搬送する。

第１０図或は第１１図に示した本発明に係わる感光体の
プラズマＣＶＤ法による電荷輸送層製造装置において、
電荷輸送層製造に供する反応室は、拡散ポンプにより予
め１０−４乃至１０＝Ｔ　。

ｒｒ程度にまで減圧し、真空度の確認と装置内部に吸着
したガスの脱着を行なう。同時に電極加熱器により、電
極並びに電極に装着された基板を所定の温度まで昇温す
る。次いで、第１乃至第６タンク及び第１乃至第３容器
から、原料ガスを適宜第１乃至第９流量制御器を用いて
定流量化しながら反応室内に導入し、圧力調筋弁により
反応室内を一定の減圧状態に保つ。ガス流量が安定化し
た後、接続選択スイッチにより、例えば低周波電源を選
択し、電力印加電極に低周波電力を投入する。両電極間
には放電が開始され、時間と共に基板上に固相の膜が形
成きれる。反応時間により膜厚を制御し、所定の膜厚並
びに積層構成に達したところで放電を停止し、本発明感
光体の電荷輸送層を得る。次いで、第１乃至第９調節弁
を閉じ、反応室内を充分に排気する。最後に、真空を破
り基板を取り出すか、または、工程によってはゲートバ
ルブを用いて第７図或は第８図に示した本発明に係わる
感光体の電荷発生層製造装置に基板を搬送する。

以下実施例を挙げながら、本発明を説明する。

実施例１本発明に係わる感光体の製造装置を用いて、第（ｄ）、
亜ひに、竜何糊込！口（３）をこσ刀１貝に収けた本発
明感光体を作製した。

電荷発生層形成工程：第８図に示す本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装
置において、まず、第１ボート（５０４）にアルミニウ
ムクロロフタロシアニンＡｌＣｌＰｃの粉末を、第２ボ
ート（５０５）に硫化亜鉛ＺｎＳの粉末を載置し、基板
保持部材（５０２）には樅５０Ｘ横５０Ｘ厚さ３ｍｍの
アルミニウム板を基板（５０３）として取り付けた。次
いで真空槽（５０１）内を排気ポンプ（５１１）を用い
て１０−’Ｔ　ｏ　ｒ　ｒ程度の高真空にした後、第１
電極及び第２電極（５０６及び５０７）に電力を印加し
、第１ボート（５０４）を５２０℃、及び、第２ボート
（５０５）を１０５０℃にまで昇温した。第１ボート（
５０４）温度、及び、第２ボート（５０５）　温度が安
定したところで、予め閉状態にしておいた第１遮蔽板（
５０８）及び第２遮蔽板（５０９）を駆動ソレノイド（
５１０）を作動させて交互に開状態にし、Ｉ　Ｘ　１０
−５程度の真空度のもとで、基板（５０３）上にアルミ
ニウムクロロフタロシアニンと硫化亜鉛の多層蒸着膜を
堆積させた。ここで、第１遮蔽板（５０８）及び第２遮
蔽板（５０９）の開時間はそれぞれ１０秒及び１０秒と
し、双方の開時間の合計が５分間となるまで蒸着を行な
った後、何れも閉状態とし、約２０００人の膜厚を有す
る本発明によるＰＣ膜を電荷発生層として得た。Ｐｃ膜
作製後は、第１電極及び第２電極（５０６及び５０７）
への通電を停止すると共に、真空槽（５０１）内を充分
に排気した。

以上のようにして得られたＰｃ膜中に構成されるアルミ
ニウムクロロフタロシアニンの蒸着膜と硫化亜鉛の蒸着
膜の膜厚をオージェ分析装置により測定したところ、ア
ルミニウムクロロフタロシアニンの蒸着膜の膜厚は６２
人並びに硫化亜鉛の蒸着膜の膜厚は７１人であった。一
方、アルミニウムクロロフタロシアニンと硫化亜鉛とを
個別に蒸着し、蒸着膜の膜厚測定から蒸着速度を算出し
、アルミニウムクロロフタロシアニンの蒸着膜と硫化亜
鉛の蒸着膜の膜厚を求めたところアルミニウムクロロフ
タロシアニンの蒸着膜の膜厚は６０人並びに硫化亜鉛の
蒸着膜の膜厚は７０人であり、良く一致した結果が得ら
れることが確認された。

また、以上のようにして得られたＰｃ膜の可視吸収測定
の結果を第１２図に示した。

電荷輸送層形成工程：次いで、第１０図に示す本発明に係わる感光体のプラズ
マＣＶＤ法による電荷輸送層製造装置において、まず、
反応装置（７３３）の内部を１Ｏ−６ＴＯｒｒ程度の高
真空にした後、第１調節弁（７０７）を解放し、第１タ
ンク（７０１）より水素ガスを出力圧１．０Ｋｇ／ｃｍ
２の下で第１流量制御器（７１３）内へ流入させた。同
時に、第１容器（７１９）よりスチレンガスを第１温調
器（７２２）温度３０℃のもと第７流量制御器（７２８
）内へ流入させた。水素ガスの流量を１０１０５ｅ、及
び、スチレンガスの流量を３６ｓｅｃｍとなるように設
定して、途中混合器（７３１）を介して、主管（７３２
）より反応室（７３３）内へ流入した。各々の流量が安
定した後に、反応室（７３３）内の圧力が０．５Ｔｏｒ
ｒとなるように圧力調節弁（７４５）を調整した。一方
、Ｐｃ膜が設けられ、第８図に示す本発明に係わる感光
体の電荷発生層製造装置より移送されてきた基板（７５
２）は、予め８０℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力
が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（７４４）に
より接続しておいた低周波電源（７４１）を投入し、電
力印加電極（７３６）に９０Ｗａｔｔの電力を周波数２
０ＫＨｚの下で印加して約３０分プラズマ重合反応を行
ない、基板（７５２）上に厚き１５μｍの有機プラズマ
重合膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電
力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を
充分に排気した。

以上のようにして得られた有機プラズマ重合膜につき有
機元素分析を行なったところ、含有される水素原子の量
は炭素原子と水素原子の総量に対して４４原子％であっ
た。

特性評価結果：得られた感光体は、常用のカールソンプロセスにおいて
コロナ放電により少なくとも一６３０Ｖに初期帯電可能
であった。まｔ；、初期帯電電位から初期帯電電位の９
０％にまで暗減衰するのに要した時間は約１３秒であり
、これらのことから、実用上充分な帯電性能を有するこ
とが確認きれた。また、初期帯電後、白色光を用いて半
減電位にまで明減衰させたところ必要とされた光量は１
．６ルツクス・秒であり、このことから好適な感度を有
することが確認された。また、初期帯電後、半導体レー
ザー光を用いて半減電位にまで明減衰させたところ必要
とされた光量は４．９工ルグ／ｃｍ２であり、このこと
から好適な長波長光感度を有することが確認された。ま
た、初期帯電後、白色光８０ルツクス・秒照射時の表面
電位を残留電位として測定したところ一５Ｖであり、好
適なイレース性能を有することが確認きれた。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、実用上
好適な特性を有するものである。また、この感光体に対
して、常用のカールソンプロセスの中で作像して転写し
たところ、鮮明な画像が得られた。ざらに、この感光体
の表面硬度を、ＪＩＳ−に−５４００規格に基づいて測
定したところ、７Ｈ以上の硬度が観測きれ、実用的な感
光体として好適な表面性能を有することが確認された。

比較例１電荷発生層形成工程において、硫化亜鉛を使用しないこ
と以外は、実施例１と同様にして積層膜を作製した。

得られたアルミニウムクロロフタロシアニン蒸着膜中か
らはオージェ分析を用いても亜鉛原子は検出されなかっ
た。

得られたアルミニウムクロロフタロシアニン蒸着膜の可
視吸収特性を第１３図に示した。実施例１で用いた本発
明によるＰｃ膜が長波長光に対する吸収特性に優れるこ
とが確認される。

特性評価結果：得られた積層膜につき、実施例１と同様の評価を行なっ
たところ、常用のカールソンプロセスにおいてコロナ放
電により少なくとも一６３０Ｖに初期帯電可能であった
。しかし、初期帯電後、白色光を用いて半減電位にまで
明減衰させたとこる必要とされた光量は約７０ルツクス
・秒であり、半導体レーザー光を用いた場合には半減電
位に達しなかった。

以上より、本例に示した積層膜は実用上好適な特性を有
するものとはいえず、このことから本発明において無機
物質を多層蒸着することによる効果が確認きれる。

比較例旦実施例１において電荷輸送層だけを作製した。

特性評価結果：得られた膜につき、実施例１と同様の評価を行なったと
ころ、常用のカールソンプロセスにおいてコロナ放電に
より少な（とも−６３０■の初期帯電が可能であった。

しかし、初期帯電後、白色光或は半導体レーザー光を用
いて明減衰を試みたところ、電位減衰は全く観測されな
かった。

以上より、本例に示した膜は、それだけでは光導電性を
有ざないことが確認される。

実施例２本発明に係わる感光体の製造装置を用いて、第けた本発
明感光体を作製した。

電荷発生層形成工程：第８図に示す本発明に係わる感光体の電荷発生Ｎ製造装
置において、まず、第１ボート（５０４）にアルミニウ
ムクロロフタロシアニンＡｌＣｌＰｃの粉末を、第２ボ
ート（５０５）に−酸化珪素ＳｉＯの粉末を載置し、基
板保持部材（５０２）には樅５０Ｘ構５０×厚ざ３ｍｍ
のアルミニウム板を基板（５０３）として取り付けた。

次いで真空槽（５０１）内を排気ポンプ（５１１）を用
いて１Ｏ−７Ｔｏｒｒ程度の高真空にした後、第１電極
及び第２電極（５０６及び５０７）に電力を印加し、第
１．ｔ’−ト（５０４）　を５２０℃、及び、第２ボー
ト（５０５）を１０８０℃にまで昇温した。第１ボー）
　（５０４）温度、及び、第２ボート（５０５）Ａ度が
安定したところで、予め開状態にしておいた第１遮蔽板
（５０８）及び第２遮蔽板（５０９）を駆動ソレノイド
（５１０）を作動させて交互に開状態にし、Ｉ　Ｘ　Ｌ
　Ｏ−５程度の真空度のもとで、基板（５０３）上にア
ルミニウムクロロフタロシアニンと一酸化珪素の多層蒸
着膜を堆積させな。ここで、第１遮蔽板（５０８）及び
第２遮蔽板（５０９）の開時間はそれぞれ１０秒及び１
０秒とし、双方の開時間の合計が５分間となるまで蒸着
を行なった後、何れも閉状態とし、約２０００人の膜厚
を有する本発明によるＰｃ膜を電荷発生層として得た。

Ｐｃ膜作製後は、第１電極及び第２電極（５０６及び５
０７）への通電を停止すると共に、真空ｔ！！（５０１
）内を充分に排気した。

以上のようにして得られたＰｃ膜中に構成されるアルミ
ニウムクロロフタロシアニンの蒸着膜と一酸化珪素の蒸
着膜の膜厚をオージェ分析装置により測定したところ、
アルミニウムクロロフタロシアニンの蒸着膜の膜厚は６
４人並びに−酸化珪素の蒸着膜の膜厚は６９人であった
。一方、アルミニウムクロロフタロシアニンと一酸化珪
素とを個別に蒸着し、蒸着膜の膜厚測定から蒸着速度を
算出し、アルミニウムクロロフタロシアニンの蒸着膜と
一酸化珪素の蒸着膜の膜厚を求めたところアルミニウム
クロロフタロシアニンの蒸着膜の膜厚は６１人並びに−
酸化珪素の蒸着膜の膜厚は７０人であり、良く一致した
結果が得られることが確認きれた。

電荷輸送層形成工程：次いで、第１０図に示す本発明に係わる感光体のプラズ
マＣＶＤ法による電荷輸送層製造装置において、まず、
反応装置（７３３）の内部を１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程度の高
真空にした後、第１調節弁（７０７）を解放し、第１タ
ンク（７０１）より水素ガスを出力圧１．０Ｋｇ／ｃｍ
２の下で第１流量制罪器（７１３）内へ流入させた。同
時に、第１容器（７１９）よりスチレンガスを第１温調
器（７２２）温度３０℃のもと第７流量制御器（７２８
）内へ流入させた。水素ガスの流量をＬｏｓｅＣｒＴｌ
、及び、スチレンガスの流量を３６ｓｅｃｍとなるよう
に設定して、途中混合器（７３１）を介して、主管（７
３２）より反応室（７３３）内へ流入した。各々の流量
が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力が０．５Ｔ
ｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を調整した。

一方、Ｐｃ膜が設けられ、第８図に示す本発明に係わる
感光体の電荷発生層製造装置より移送されてきた基板（
７５２）は、予め８０℃に加熱しておぎ、ガス流量及び
圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（７４４
）により接続しておいた低周波電源（７４１）を投入し
、電力印加電極（７３６）に９０Ｗａｔｔの電力を周波
数２０ＫＨｚの下で印加して約３０分プラズマ重合反応
を行ない、基板（７５２）上に厚ざ１．５μｍの有機プ
ラズマ重合膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後
は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３
）内を充分に排気した。

以上のようにして得られた有機プラズマ重合膜につき有
機元素分析を行なったところ、含有きれろ水素原子の量
は炭素原子と水素原子の総量に対して４４原子％であ、
った。

特性評価結果：得られた感光体は、常用のカールソンプロセスにおいて
コロナ放電により少なくとも一６３０Ｖに初期帯電可能
であった。また、初期帯電電位から初期帯電電位の９０
％にまで暗減衰するのに要した時間は約１３秒であり、
これらのことから、実用上充分な帯電性能を有すること
が確認された。また、初期帯電後、白色光を用いて半減
電位にまで明減衰させたとこる必要とされた光量は１．
５ルツクス・秒であり、このことから好適な感度を有す
ることが確認された。また、初期帯電後、半導体レーザ
ー光を用いて半減電位にまで明減衰させたところ必要と
きれた光量は５．１工ルグ／ｃｍ２であり、このことか
ら好適な長波長光感度を有することが確認された。また
、初期帯電後、白色光８０ルツクス・秒照射時の表面電
位を残留電位として測定したところ一５Ｖであり、好適
なイレース性能を有することが確認された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、実用上
好適な特性を有するしのである。また、この感光体に対
して、常用のカールソンプロセスの中で作像して転写し
たところ、鮮明な画像が得られた。ざらに、この感光体
の表面硬度を、Ｊ　ＩＳ−に−５４００規格に基づいて
測定したところ、７Ｈ以上の硬度が観測され、実用的な
感光体として好適な表面性能を有することが確認された
。

比較備品電荷発生層形成工程において、−酸化珪素を使用しない
こと以外は、実施例２と同様にして積層膜を作製した。

特性評価結果：得られた積層膜につき、実施例２と同様の評価を行なっ
たところ、常用のカールソンプロセスにおいてコロナ放
電により少なくとも一６３０Ｖに初期帯電可能であった
。しかし、初期帯電後、白色光を用いて半減電位にまで
明減衰させたところ必要とされた光量は約６０ルツクス
・秒であり、半導体レーザー光を用いた場合には半減電
位に達しなかっｔ：。

以上より、本例に示した積層膜は実用上好適な特性を有
するものとはいえず、このことから本発明において無機
物質を多層蒸着することによる効果が確認される。

比較例４実施例２において電荷輸送層だけを作製した。

特性評価結果：得られた有機プラズマ重合膜につき、実施例２と同様の
評価を行なったところ、常用のカールソンプロセスにお
いてコロナ放電により少なくとも一６３０Ｖの初期帯電
が可能であった。しかし、初期帯電後、白色光或は半導
体レーザー光を用いて明減衰を試みたところ、電位減衰
は全く観測されなかった。

以上より、本例に示した有機プラズマ重合膜は、それだ
けでは光導電性を有ざないことが確認される。

実施例３本発明に係わる感光体の製造装置を用いて、第けな本発
明感光体を作製した。

電荷発生層形成工程：第８図に示す本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装
置において、まず、第１ボート（５０４）にアルミニウ
ムクロロフタロシアニンクロライドＡｌＣｌＰｃ　（Ｃ
Ｉ）の粉末を、第２ボート（５０５）にアルミナＡｌ２
Ｏ３の粉末を載置し、基板保持部材（５０２）には樅５
０×横５０×厚と３ｍｍのアルミニウム板を基板（５０
３）として取り付けた。次いで真空槽（５０１）内を排
気ポンプ（５１１）を用いて１Ｏ−７Ｔｏｒｒ程度の高
真空にした後、第１電極及び第２電極（５０６及び５０
７）に電力を印加し、第１ボート（５０４）を４９０℃
、及び、第２ボー）　（５０５）を１４５０℃にまで昇
温した。第１ボート（５０４）温度、及び、第２ボート
（５０５）温度が安定したところで、予め閉状態にして
おいた第１遮置板（５０８）及び第２遮蔽板（５０９）
を駆動ソレノイド（５１０）を作動させて交互に開状態
にし、ｌＸｌ０−５程度の真空度のもとで、基板（５０
３）上にアルミニウムクロロフタロシアニンクロライド
とアルミナの多層蒸着膜を堆積させた。ここで、第１遮
蔽板（５０８）及び第２遮蔽板（５０９）の開時間はそ
れぞれ５秒及び１０秒とし、双方の開時間の合計が５分
間となるまで蒸着を行なった後、何れも閉状態とし、約
１５００人の膜厚を有する本発明によるＰｃ膜を電荷発
生層として得た。Ｐｃ膜作製後は、第１電極及び第２電
極（５０６及び５０７）への通電を停止すると共に、真
空槽（５０１）内を充分に排気した。

リーク後、基板を真空槽（５０１）外へ取り出した。

以上のようにして得られたＰｃ膜につき、オージェ分析
を行なったところ、アルミニウムクロロフタロシアニン
クロライドの蒸着膜の膜厚は２７人並びにアルミナの蒸
着膜の膜厚は４７人であった。

電荷輸送層形成工程：次いで、ポリカーボネイト７重量部、テトラヒドロフラ
ン１０重量部、及び、４−ジエチルアミノベンズフルデ
ヒドージフェニルヒドラゾン７重量部よりなる塗液をデ
ィッピングコーティング法を用いて塗布し、乾燥後の膜
厚が１５μｍとなるようにして本発明感光体の電荷輸送
層を形成した。

特性評価結果：得られた感光体は、常用のカールソンプロセスにおいて
コロナ放電により少なくとも一６３０Ｖに初期帯電可能
であった。また、初期帯電電位から初期帯電電位の９０
％にまで暗減衰するのに要した時間は約１４秒であり、
これらのことから、実用宅充分な帯電性能を有すること
が確認された。また、初期帯電後、白色光を用いて半減
電位にまで明減衰させたとこる必要とされた光量は１．
６ルツクス・秒であり、このことから好適な感度を有す
ることが確認された。また、初期帯電後、半導体レーザ
ー光を用いて半減電位にまで明減衰させたところ必要と
された光量ば５，８工ルグ／ｃｍ２であり、このことか
ら好適な長波長光感度を有することが確認された。また
、初期帯電後、白色光８０ルツクス・秒照射時の表面電
位を残留電位として測定したところ一７Ｖであり、好適
なイレース性能を有することが確認された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、実用上
好適な特性を有するものである。また、この感光体に対
して、常用のカールソンプロセスの中で作像して転写し
たところ、鮮明な画像が得られた。

比較例５電荷発生層形成工程において第１遮蔽板（５０８）と第
２遮蔽板（５０９）の開時間を調整し、アルミニウムク
ロロフタロシアニンクロライドの蒸着膜の膜厚を７００
人、並びに、アルミナの蒸着膜の膜厚を１００人とする
こと以外は、実施例３と同様にして積層膜を作製した。

特性評価結果：得られた積層膜につき、実施例３と同様の評価を行なっ
たところ、常用のカールソンプロセスにおいてコロナ方
父電により少なくとも一６３０Ｖに初期帯電可能であっ
た。しかし、初期帯電後、白色光及び半導体レーザー光
を用いて明減衰を試みたところ半減電位に達しなかった
。

以上より、本例に示した積層膜は実用上好適な特性を有
するものとはいえず、このことから本発明感光体の電荷
発生層においてはフタロシアニン系顔料の蒸着膜の膜厚
が高過ぎると好適な感度が得られなくなることが確認き
れる。

比較例６電荷発生層形成工程において第１遮蔽板（５０８）と第
２遮蔽板（５０９）の開時間を調整し、アルミニウムク
ロロフタロシアニンクロライドの蒸着膜の膜厚を５０人
、並びに、アルミナの蒸着膜の膜厚を７００人とするこ
と以外は、実施例３と同様にして積層膜を作製した。

特性評価結果：得られた積層膜につき、実施例３と同様の評価を行なっ
たところ、常用のカールソンプロセスにおいてコロナ放
電により少なくとも一６３０Ｖに初期帯電可能であった
。しｈル、初期帯電後、白色光及び半導体レーザー光を
用いて明減衰を試みたところ半減電位に達しなかった。

以上より、本例に示した積層膜は実用上好適な特性を有
するものとはいえず、このことから本発明感光体の電荷
発生層においては無機物質の蒸着膜の膜厚が高過ぎると
好適な感度が得られなくなることが確認される。

実施例４本発明に係わる感光体の製造装置を用いて、第けた本発
明感光体を作製した。

電荷発生層形成工程：実施例１と同様にして、本発明に係わる感光体の電荷発
生層を作製し、基板を真空槽外へ取り出した。

電荷輸送層形成工程：次いで、第１１図に示す本発明に係わる感光体のプラズ
マＣＶＤ法による電荷輸送層製造装置において、まず、
反応装置（７３３）の内部を１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程度の高
真空にした後、第１乃至第３調節弁（７０７乃至７０９
）を解放し、第１タンク（７０１）より水素ガス、第２
タンク（７０１）よりエチレンガス、及び、第３タンク
（７０３）よりシランガスを各々出力圧１．○Ｋｇ／ｃ
ｍ２の下で第１乃至第３流量制御器（７１３乃至７１５
）内へ流入させた。流量制御器の目盛を調整して、水素
ガスの流量を２００ｓｅｃｍ、エチレンガスの流量を１
２０ｓｅｃｍ、及び、シランガス（７）流ｆｆｉｅ１４
０ｓｃｃｍとなるように設定して、途中混合器（７３１
）を介して、主管（７３２）より反応室（７３３）内へ
流入した。各々の流量が安定した後に、反応室（７３３
）内の圧力が１、ＩＴｏｒｒとなるように圧力調節弁（
７４５）を調整した。一方、Ｐｃ膜が設けられ、第９図
に示す本発明に係わる感光体の電荷発生層製造装置より
移送されてきた基板（７５２）は、予め１１０℃に加熱
しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、予め接
続選択スイッチ（７４４）により接続しておいた高周波
電源（７３９）を投入し、電力印加電極（７３６）に２
００Ｗａｔｔの電力を周波数１３．５６ＭＨｚの下で印
加して約５時間プラズマ重合反応を行ない、基板（７５
２）上に厚き１５μｍの炭素含有水素化アモルファスシ
リコン膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、
電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内
を充分に排気した。

特性評価結果：得られた感光体は、常用のカールソンプロセスにおいて
コロナ放電により少なくとも一６３０Ｖに初期帯電可能
であった。また、初期帯電電位から初期帯電電位の９０
％にまで暗減衰するのに要した時間は約１８秒であり、
これらのことから、実用上充分な帯電性能を有すること
が確認された。また、初期帯電後、白色光を用いて半減
電位にまで明減衰させたところ必要とされた光量は２．
３ルツクス・秒であり、このことから好適な感度を有す
ることが確認された。また、初期帯電後、半導体レーザ
ー光を用いて半減電位にまで明減衰させたところ必要と
された光量は１０．４工ルグ／Ｃｍ２であり、このこと
から好適な長波長光感度を有することが確認された。ま
た、初期帯電後、白色光８ｏルツクス・秒照射時の表面
電位を残留電位として測定したところ一５Ｖであり、好
適なイレース性能を有することが１ｉ＊ｉ＝された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、実用上
好適な特性を有するものである。また、この感光体をミ
ノルタ製複写機ＥＰ４７０Ｚに搭載し作像して転写した
ところ、鮮明な画像が得られた。また、この感光体の表
面硬度を、ＪＩＳ−に−５４００規格に基づいて測定し
たところ、７Ｈ以上の硬度が観測され、実用的な感光体
として好適な表面性能を有することが確認された。さら
に、この感光体について耐久試験を行なったところ、Ａ
４紙４０万枚の耐刷試験後も、好適な画像が得られた。

比較例７実施例４において電荷輸送層だけを作製した。

特性評価結果：得られた炭素含有水素化アモルファスシリコン膜につき
、実施例４と同様の評価を行なったところ、常用のカー
ルソンプロセスにおいてコロナ放電により少なくとも一
６３０Ｖの初期帯電が可能であった。しかし、初期帯電
後、白色光或は半導体レーザー光を用いて明減衰を試み
たところ、電位減衰は全く観測されなかワな。

以上より、本例に示した炭素含有水素化アモルファスシ
リコン膜は、それだけでは光導電性を有さないことが確
認される。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第７図は本発明感光体の構成を示す図面、第
８図乃至第９図は本発明に係わる感光体の電荷発生層形
成装置を示す図面、第１０図乃至第１１図は本発明に係
わる感光体のプラズマＣＶＤ法による電荷輸送層形成装
置を示す図面、及び、第１２図乃至第１３図は可視吸収
特性を示す図面である。第１図　　第２図第３図　　　第４図第５図　　　第６図＄７図第３図ＯＡ収イ丞放（ｘ　ｆ０５Ｃ汎−り吸収係数（ｘ／θ５７．い−リ

Claims

【特許請求の範囲】

導電性基板上に電荷発生層と電荷輸送層とを積層してな
る機能分離型感光体において、該電荷発生層がフタロシ
アニン系顔料の真空蒸着膜と無機物質の真空蒸着膜とを
交互に積層してなることを特徴とする感光体。