JPH01133086A

JPH01133086A - 有機感光体の使用方法

Info

Publication number: JPH01133086A
Application number: JP29447987A
Authority: JP
Inventors: Kenji Masaki; 賢治正木; Mochikiyo Osawa; 大澤　以清
Original assignee: Minolta Co Ltd
Current assignee: Minolta Co Ltd
Priority date: 1987-11-18
Filing date: 1987-11-18
Publication date: 1989-05-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は有機感光体の使用方法に関する。

従来技術電子写真感光体としては、その成膜性、無公害性、軽量
性等の有利さを生かした有機感光体が知られている。　
有機感光体は、導電性基板上に厚さ約１５〜約２０μ屑
の光導電層が形成される。

光導電層は光電荷発生物質あるいは電荷輸送物質を適当
な結着樹脂に分散させた単層型感光層あるいは積層型感
光層として構成されていることが多い。

しかし、そのような有機感光体は、その表面硬度が５Ｂ
程度と柔らかく、実際の複写機内で使用すると現像剤、
転写紙、クリーニング部材等との接触摩擦に゛より、Ａ
４規格紙１万枚につき約１〜２、μｌの削れが生じる。

従って、有機感光体では３〜１０万枚程度の複写で膜厚
が半減し、帯電電位の低下による画像濃度の低下等が生
じ、良好な画像を得ることはできない。

他にもペーパージャムあるいはその復帰の際の人為操作
による傷の発生等も重なって、有機感光体の耐久性は、
経験的には高々５万枚程度でしかない。

そこで、有機感光体はその表面に保護層を形成し高硬度
化され耐久性の改善が為されるべきであるとの提案が成
されている。

しかし、表面保護層として硬度の高い膜を設けると削れ
が防止され寿命が延びる反面、繰り返し帯電使用される
ことにより、表面保護層がオゾン劣化し、高湿時画像流
れの問題が発生する。

発明が解決しようとする問題点本発明は耐久性、オゾン劣化の問題点を解消し、初期の
感光体特性を長期にわたって維持可能な感光体の使用方
法を提供することを目的とする。

問題点を解決するための手段すなわち、本発明は表面の鉛筆硬度が１１以上の有機感
光体を１万枚実写につき７〜２００人の割合で削りなが
ら使用することを特徴とする有機感光体の使用方法に関
する。

本発明は、導電性基板上に有機感光層および表面硬度が
鉛筆硬度で表してＨ以上である表面保護層を有する感光
体の使用に有用である。

感光層は自体公知の有機系感光層を導電性基板上に設け
たものであり、感光層の構成は、電荷発生層と電荷輸送
層とを積層してなる機能分離型構成であってもよいし、
電荷発生材料と電荷輸送材料とを結着材中に分散してな
るバインダー型構成であってもよいし、これら以外の構
成であってもよい。

導電性基板は、少なくとも最表面が導電性を有する素材
であればよく、また、形状も円筒形、可撓性ベルト状、
平板状等、任意の形態を採ることができる。

有機系感光層の作製に用いられる材料としては、電荷発
生に寄与ずろ光導電性材料として、例えば、フタロシア
ニン系顔料、アゾ系顔料、ペリレン系顔料等が用いられ
、電荷輸送に寄与する電荷輸送性材料として、例えば、
トリフェニルメタン化合物、トリフェニルアミン化合物
、ヒドラゾン化合物、スヂリル化合物、ピラゾリン化合
物、オキザゾール化合物、オキサジアゾール化合物等が
用いられ、これらを分散塗布せしめるための結着材料と
して、例えば、ポリエステル、ポリビニルブチラール、
ポリカーボネート、ボリアリレート、スチレンアクリル
等の樹脂が用いられる。

表面保護層は、（イ）有機化合物のプラズマＣ■Ｄによ
る非晶質炭化水素、（ロ）無機物質のスパッタリング膜
あるいは蒸着膜、（ハ）熱硬化性樹脂膜あるいは紫外線
硬化樹脂膜として形成可能であり、鉛筆硬度１１以上に
形成する。

特に、鉛筆硬度１−［以上への形成容易性の点から有機
化合物のプラズマＣＶＤ法で表面保護層を設けることが
好ましい。

なお、本発明において、鉛筆硬度は、ＪＩＳ−に−５４
００規格「鉛筆引っかき試験」により測定した硬度記号
で表わすものとする。

本発明は、鉛筆硬度Ｈ以上の硬度の表面保護層を１万枚
実写につき７〜２００人、好ましくは１０〜８０人、よ
り好ましくは１５〜２５人の割合で削りながら使用する
。

本発明により、感光体の表面を削りながら使用するのは
、使用時、時にマイナス帯電性での使用時に発生するオ
ゾン劣化層を取り除くためである。

オゾン劣化層を除去するという関点からは表面保護層を
有しない有機感光体にも適用可能と考えられるが、実際
に前記した割合で削れを制御することは、表面がやわら
かすぎるため不可能である。

係る観点から、表面保護層が必要であり、かつ表面保護
層の硬度はＨ以上が必要である。

削れの調整は、クリーナーブレードの圧接力、圧接角あ
るいは材質、現像剤の材質、現像器、スリーブ回転数、
マグネットローラー回転数、または転写紙の突入速度、
突入角あるいは材質等を適宜選定することにより行ない
うる。

削れの調整が７人／１万枚より小さいと、オゾン劣化層
の除去が不充分となり、本発明の目的を達成することが
できない。２００人／１万枚より多いと、表面保護層の
膜厚減少が著しく耐久性が必ずしも充分得られない。

削れ量は表面粗さ計等により測定可能である。

第１図および第２図は本発明の好ましい表面保護膜を形
成するためのグロー放電分解装置の一例を示す図である
。第１図は平行平板型１’−ＣＶＤ装置、第２図は円筒
型Ｐ−ＣＶＤ装置を示す。

まず、第１図を用いて説明する。

第１図中（７０１）〜（７０（３）に常温において気相
状態にある原料化合物およびキャリアガスを密封した第
１ないし第６タンクで、各々のタンクは第１ないし第６
調節弁（７０７）〜（７１２）と第１ないし第６流量制
御器（７１３）〜（７１８）に接続されている。

キャリアガスとしては水素ガス、アルゴンガス、ヘリウ
ムガス等を用いることができる。

図中（７１９）〜（７２１）は常温において液相または
固相状態にある原料化合物を封入した第１ないし第３容
器で、各々の容器は気化のため、第１ないし第３加熱２
ｉ（７２２）〜（７２４）により与熱可能であり、さら
に各々の容器は第７ないし第９凋節弁（７２５）〜（７
２７）と第７ないし第９流量制御器（７２８）〜（７３
０）に接続されている。

これらのガスは混合器（７３１）で混合された後、主管
（７３２）を介して反応室（７３３）に送り込まれる。

途中の配管は、常温において液相または固相状態にあっ
た原料化合物が気化したガスが、途中で凝結しないよう
に、適宜配置された配管加熱器（７３４）により、与熱
可能とされている。

反応室内には接地電極（７３５）と電力印加電極（７３
６）が対向して設置され、各々の電極は電極加熱器（７
３７）により与熱可能とされている。

電力印加電極（７３６）には、高周波電力用整合器（７
３８）を介して高周波電源（７３９）、低周波電力用整
合器（７４０）を介して低周波電源（７４１）、ローパ
スフィルタ（７４２）を介して直流電源（７４３）が接
続されており、接続選択スイッチ（７４４）により周波
数の異なる電力、例えば、周波数１０ＫＨｚないしｌ０
００ＫＨｚの低周波電力、周波数１３．５（ｉＭＨｚの
高周波電力等、が印加可能とされている。さらに、直流
電力を重畳することも可能である。

反応室（７３３）内の圧力は圧力制御弁（７４５）によ
り調整可能であり、反応室（７３３）内の減圧は、排気
系選択弁（７４６）を介して、拡散ポンプ（７４７）、
油回転ポンプ（７４８）、あるいは、冷却除外装置（７
４９）、メカニカルブースターポンプ（７５０）、油回
転ポンプ（７４８）により行なイつれる。

排ガスについては、さらに適当な除外装置（７５３）に
より安全無害化した後、大気中に排気される。

これら排気系配管についても、常温において液相または
固相状態にあった原料化合物が気化したガスが、途中で
凝結しないように、適宜配置された配管加熱器（７３４
）により、与熱可能とされている。

反応室（７３３）も同様の理由から反応室加熱器（７５
１）により与熱可能とされ、内部に配された電極上に基
板（７５２）が設置される。

これらの加熱器類は、使用される原料ガスの性質に応じ
て配するか否かを選定すればよいが、特に、原料ガスと
して常圧下での沸点が一５０℃ないし＋１５℃の有機化
合物を用いた場合においては不要となる場合が多く、製
造装置の簡素化が可能となり好ましい。

一般に、沸点が一５０℃より低い有機化合物を原料ガス
として用いた場合には、反応室（７３３）内部での微粉
状重合物の発生を防止するために、沸点が＋１５℃より
高い有機化合物を原料ガスとして用いた場合には、各種
配管内での凝結防止のために、それぞれ上述の如き各種
加熱器を配することが望ましい。

第１図において基板（７５２）は接地電極（７３５）に
固定して配されているが、電力印加電極（７３６）に固
定して配されても良く、さらに双方に配されても良い。

第２図に示した装置も基本的には第１図に示した装置と
同様であり、反応室（７３３）内の形態が基板（７５２
）が円筒形であることに応じて変更されているものであ
る。基板（７５２）は接地電極（７３５）を兼ね、電力
印加電極（７３６）および電極加熱２５（７３７）共に
円筒形をなしている。基板は駆動モーター（７５４）に
より、回転可能とされている。

以上の構成において、感光体製造に供する反応室は、拡
散ポンプにより予めｌｏ−４ないし１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程
度までに減圧し、真空度の確認と装置内部に吸着したガ
スの脱離を行なう。

同時に電極加熱器により、電極並びに電極に固定して配
された基板を所定の温度まで昇温する。

基板としては導電性基板上に自体公知の有機系感光層を
設けた感光体を用いる。

このとき、有機系感光層の熱変性を防止するために、基
板温度は、約１００℃以下に温度設定する事が好ましい
。

次いで、第１ないし第６タンクおよび第１ないし第３容
器から原料ガスを第１ないし第９流量制御器を用いて定
流量化しながら反応室内に導入し、圧力調節弁により反
応室内を概ね０．０５Ｔｏｒｒないし５．０Ｔｏｒｒ程
度の減圧状態に保つ。

ガス流量か安定化した後、接続選択スイッチにより、例
えば低周波電源を選択し、電力印加電極に低周波電力を
投入する。

両電極間には放電が開始され、時間と共に基板上に固相
の非晶質水素化炭素膜が形成される。膜堆積速度は、Ｉ
Ｏ人／分ないし３μＩＩｌ／分、好ましくは１００人／
分ないし１１ｔｔｔ／分、さらに好ましくは５００人／
分ないし５０００人／分であることが望ましい。膜堆積
速度が１０人／分より低い場合には生産性の面で好まし
くない。膜堆積速度が３μＩＩｌ／分より高い場合には
膜荒れが発生しやすく、必ずしも均質な膜が得られると
は限らなくなり好ましくない。

所定の膜厚に達したところで放電を停止し、本発明の使
用方法に適した感光体の保護層を得る。

膜厚は０．０１〜５μｍ１好ましくは０．０５〜２μｍ
１より好ましくは０．１〜１μｍ程度とすればよい。

本発明の使用方法に適した表面保護層には、さらに周期
律表第■族原子、カルコゲン原子等を添加して感光層と
の高い接岩性を付与することも可能である。

本発明の使用方法に適した表面保護層には、さらに周期
律表第■族原子、周期律表第１ＩＩ族原子等を添加して
高い帯電能を付与することら可能である。

本発明の使用方法に適した表面保護層においては、作製
時の不可避不純物の量が５原子％以下、好ましくは３原
子％以下、より好ましくはＩ原子％以下であることが望
ましく、不可避不純物のｆｉｔがこの範囲内であれば本
発明における使用方法に適した表面保護層の高い耐久性
を好適に保証することができる。

以上のようにして作製された本発明による使用方法に適
した感光体の表面保護層は、明確なるＸ線回折ピークを
有さないことから結晶ではなく、また、炭素と水素の結
合に基づく赤外吸収を有することから炭素並びに水素を
構成原子として含み、従って非晶質水素化炭素膜である
。

以下、本発明の実施例を示す。

有機系感光層Ａの作製ジスアゾ顔料としてクロロジアンブルー（ＣＤＢ）１重
量部、ポリエステル樹脂（東洋紡社製Ｖ−２００月ｆｆ
１ｆｆｉ部、及び、シクロヘキサノン１００重量部の混
合液をサンドブライングーで１３時間分散した。この分
散液を直径８０×長さ３３０ｍ１１の円筒状アルミニウ
ム基板上にディッピングにより乾燥後の膜厚が０．３μ
ｍとなるように塗布し、乾燥して電荷発生層を形成した
。

次いで、４−ジエヂルアミノベンズアルデヒドージフェ
ニルヒドラゾン（Ｄ　Ｅ　Ｈ）　１重量部、及び１、　
ポリカーボネイト（奇人化成社製に−１３００）１重量
部をＴＨＦ６重量部に溶解させ、この溶液を電荷発生層
上に乾燥後膜厚が１５μｍとなるように塗布し、乾燥さ
Ｕ・て電荷輸送層を形成し、有機系感光層Ａを得た。

比較例１得られた有機系感光ｆ：！ＩＡを常用のカールソンプロ
セスの中でコロナ放電を用いて一６００Ｖに初期帯電（
以下ｖＯと称する）し、表面電位を半減するのに必要と
される光ｆｆ１（以下、Ｅｌ／２と称する）を測定した
ところ、２，０ルツクス・秒、残留電位（以下Ｖｒと称
する）は−５Ｖであった。また、ＪＩＳ−に−５４００
規格による鉛筆硬度を測定したところ、約５Ｂの表面硬
度を有していた。さらに、実際の複写機（ミノルタカメ
ラ社”ＪＪ　Ｅ　Ｐ４７０Ｚ）に搭載してΔ４複写紙１
万枚の耐刷試験を行なったところ約２．０μｍの膜厚減
少が観察された。

この結果から、静電特性には優れるものの、耐久性には
乏しい事が理解された。

表１はこの結果をまとめて示したものである。

電荷輸送層形成用ポリカーボネイトをメチルメタクリレ
ートＰＭＭＡ（三菱レーヨン社製Ｂ１１−８５）に代え
る事以外は有機系感光層Ａと同様にして有機系感光層Ｂ
を作製した。

比較例２得られた有機系感光層Ｂについて実施例１と同様の評価
を行ない、その結果を表１に示した。

有機系感光層Ｃの作製ポリカーボネイトをボリアリレート（ユニチカ社製Ｕ−
４０００）に代える事以外は有機系感光層Ａと同様にし
て有機系感光層Ｃを作製した。

比較例３得られた有機系感光Ｆ！ＪＣについて実施例１と同様の
評価を行ない、その結果を表１に示した。

この結果から、静電特性には優れるものの、耐久性に乏
しい事が理解された。

有機系感光層りの作製ポリカーボネイトをポリエステル（東洋紡社製Ｖ−２０
０）に代える事以外は有機系感光層Ａと同様にして有機
系感光層りを作製した。

比較例４得られた有機系感光、１ｉ５Ｄについて実施例１と同様
の評価を行ない、その結果を表１に示した。

有機系感光層Ｅの作製特殊α型銅フタロシアニン（東洋インキ社製）２５重量
部、アクリルメラミン熱硬化型樹脂（大日本インキ社製
　Ａ−４０５とスーパーベッカミンＪ　８２０の混合物
）５０重量部、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
ジフェニルヒドラゾン２５重量部、有機溶剤（キシレン
７重量部とブタノール３重量部の混合物）５００重量部
の混合液をボールミルで１０時間粉砕分散した。この分
散液を直径８０Ｘ長さ３３０ｍｍの円筒状のアルミニウ
ム基板上にディッピングにより乾燥、焼き付は後の膜厚
が１５μｍとなるように塗布し、１５０℃で１時間焼き
付けて、有機系感光ｆｌＥを得た。

比較例５得られた有機系感光層Ｅについて実施例Ｉと同様の評価
を行ない、その結果を表１に示した。。

ｆ子機系感光層Ｆの作製下記構造式［Ｉコ；で示されるジスアゾ化合物２ｆｆｌｆｆｉ部、ポリエス
テル樹脂（東洋紡社製Ｖ−５００）１重量部、メチルエ
チルケトン１００重量部をボールミルで、２４時間分散
した。この分散液を直径８０×長さ３３０ｍｍの円筒状
アルミニウム基板上にディッピングにより乾燥後の膜厚
が３０００人となるように塗布し、電荷発生層を形成し
た。

次いで、この電荷発生層の上に、下記（ａ造式［■］；
に示されるヒドラゾン化合物１０重量部、ポリカーボネ
ート樹脂（奇人化成社製に−１３００）１０重量部をテ
トラヒドロフラン８０重ｎ部に溶解さ仕た塗布液を乾燥
後の膜厚が２０μｍとなるように塗布、乾燥して電荷輸
送層を形成し、有機系感光層Ｆを得た。

比較例６得られた有機系感光層Ｆについて実施例Ｉと同様の評価
を行ない、その結果を表１に示した。

この結果から、静電特性には優れろものの、耐久性には
乏しい事が理解された。

有機系感光層Ｇの作製下記＃１′／を造式［ＩＩＴコ［１１１］で示されるジスアゾ化合物２重量部、ポリエステル樹脂
（東洋紡社製Ｖ−５００）１重量部、メチルエチルケト
ン１００重量部をボールミルで、２４時間分散した。こ
の分散液を直径８ｏ×長さ３３０ｍ１１の円筒状アルミ
ニウム基板上にディッピングにより乾燥後の膜厚が２５
００人となるように塗布し、電荷発生層を形成した。

次いで、この電荷発生層の上に、下記構造式［■］；で
示されるヒドラゾン化合物１０Ｉ［ｒｆｆｉ部、ポリア
クリレート樹脂（ユニチカ社製Ｕ−４０００）Ｉ　０重
量部をテトラヒドロフラン８５重量部に溶解させた塗布
液を乾燥後の膜厚が２０μｍとなるように塗布、乾燥し
て電荷輸送層を形成し、ａ機系感光８Ｇを得た。

比較例７得られた有機系感光層Ｇについて実施例１と同様の評価
を行ない、その結果を表１に示した。

この結果から、静電特性には優れるらのの、耐久性には
乏しい事が理解された。

下記構造式［Ｖ］：［Ｖ］で示されるジスアゾ化合物２重量部、ポリエステル樹脂
（東洋紡社製Ｖ−５００）１重量部、メチルエチルケト
ン１００重量部をボールミルで、２４時間分散した。こ
の分散液を直径８０×長さ３３０ｆｆｌ口の円筒状アル
ミニウム基板上にディッピングにより乾燥後の膜厚が３
０００人となるように塗布し、電荷発生層を形成した。

次いで、この電荷発生層の上に、下記構造式［■］；で
示されるヒドラゾン化合物１０重量部、メヂルメタクリ
レート樹脂（三菱レーヨン社製ｒ３Ｒ−８５）ｌＯ重ｆ
ｆ１部をテトラヒドロフラン８０重量部に溶解させた塗
布液を乾燥後の膜厚が２０μｍとなるように塗布、乾燥
して電荷輸送層を形成し、有機系感光層［−１を得た。

比較例８得られた有機系感光ｆｆＨについて実施例１と同様の評
価を行ない、その結果を表１に示した。

有機系感光層■の作製チタニルフタロシアニン（ＴｉＯＰｃ）を抵抗加熱法を
用いてボート温度４００℃ないし５００℃、真空度１０
−′ないし！０゛６のもとて真空蒸看し、厚さ２５００
人のＴｉ０Ｐｃ蒸若膜を電荷発生層として形成した。

次いで、特開昭６２−３０２５５号公報記載の構造式［
Ｉ２〕に示されろｐ、ｐ−ビスジエチルアミノテトラフ
ェニルブタジェン１重量部、及び、ポリカーボネイト（
音大化成ｔ１：製に−１３００）１重量部をＴ　）［Ｆ
　６重量部に溶解させ、この溶液を電荷発生唐土に乾燥
後膜厚り月５μｍとなるように塗布し、乾燥させて電荷
輸送層を形成し、有機系感光層１を得た。

比較例９得られた有機系感光層１を常用のカールソンプロセスの
中でコロナ放電を用いてＶｏを一６００Ｖに設定し、発
光波長７８０ｒ＋ｍの半導体レーザー先を用いてＥｌ／
２を測定したところ、４．９ｃｒｇ／ｃｍ！、Ｖｒは一
５Ｖであった。また、ＪｒＳ−に−５４００規格による
鉛筆硬度を測定したところ、約５Ｂの表面硬度を有して
いた。さらに、実際の複写機（ミノルタカメラ社製ＥＰ
４７０Ｚの光学系を半導体レーザーのポリゴンミラース
キャンニング方式に改造したもの）に搭載してＡ４複写
紙１万枚の耐刷試験を行なったところ約２．０μｍの膜
Ｐｙ−減少が観察された。

表１にこの結果をまとめて示した。ただし、露光源とし
て半導体レーザー先を使用したことを示すために、Ｅ　
ｌ／２の値は［ｅｒｇ／ｃｍ’］の単位で＊印を付けて
示した。

表　　１（＊印は半導体レーザー光によるデータ［Ｃ・ｒｇ／ｃ
ｍ’］）（膜Ｆ’！、紘少は１万枚耐刷による評価）表
面保護層αの作製第２図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部をＩ　Ｏ−”Ｔｏｒｒ程度の高真
空にした後、第１および第２調節弁（７０７および７０
８）を解放し、第１タンク（７０１）よりキャリアガス
として水素ガスおよび第２タンク（７０２）より原料炭
化水素ガスとしてブタジェンガスを各々出力圧１ｋｇ／
ａｍ’の下で第１および第２流量制御器（７１３および
７１４）内へ流入させた。そして各流量制御器の目盛を
調整して、水素ガスの流ｍを３００　ｓｅｃｍおよびブ
タジェンガスの流量を６０　ＳＣＣｍ、となるように設
定して、途中混合器（７３１）を介して主管（７３２）
より反応室（７３３）内へ流入した。各々の流量が安定
した後に、反応室（７３３）内の圧力が２．０Ｔｏｒｒ
となるように圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、
導電性基板（７５２）としては、直径８０×長さ３３０
ｍｍの円筒形アルミニウム基板上に有機感光層Ａ〜■の
何れかを形成した感光層を用い、予め、基板を５０℃に
加熱しておき、ガス流量および圧力か安定した状態で、
あらかじめ接続選択スイッチ（７４４）により接続して
おいた低周波電源（７４１）を投入し、電力印加電極（
７３６）に８０Ｗａｔｔの電力を周波数２００Ｋｆ４ｚ
の下で印加して約２分［１■プラズマ重合反応を行ない
、有機感光層上に厚さ０．２μｍの非晶質水素化炭素膜
を表面保護層として形成した。

成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室’（７３３）内を充分に排気した。

得られた表面保護層αの表面硬度はＪ　Ｉｓ−に−５４
００規格で、約３Ｈであった。

感光層の種類によってはＪ　Ｉｓ−に−５４００規格の
試験実施時において基板と感光居間が剥離し、正しい測
定値が得られないものもあったが、その場合には、同様
の成膜をガラス基板に行なったものにつき硬度測定を行
なった。ガラス基板上の膜硬度と感光層上の膜硬度は、
両者共成膜したサンプルについてはよく一致した。

表面呆４ΔＬへ１裂下記条件；低周波電力；１６０Ｗ成膜時間；　１分３０秒とした以外は、表面保護層αの作製と同様に表面保護色
βを作製した。

膜厚０．２μｍ１硬度４　Ｎであった。

表面保護色　の作製下記条件；低周波電力の周波数；３０ＫＨｚ低周波電力；１００Ｗ原料炭化水素ガス；プロピレン基板温度；７０℃ 反応室内圧力；１．０Ｔｏｒｒ成膜時間；２分間とした以外は、表面保護層αの作製と同様に表面保護層
γを作製した。

膜厚０．２μｍ１便度５　Ｈであった。

表面保護層δの作製下記条件；原料炭化水素ガス；スチレン反応室内圧；０．２５Ｔｏｒｒ成膜時間；３０秒とした以外は、表面保護層αの作製と同様に表面保護層
δを作製した。

膜厚０．２μｍ１硬度２Ｈであった。

表面保護層εの作製高周波スパッタリングの常法を用い、下記条件；雰囲気
；Ａｒガス圧力；０　、　ｌ　Ｔｏｒｒ電力周波数；１３．５０ＭＩＩｚターゲット；Ｓｈｏｗの元で、５ｉＯｚスパツタリング膜を０．２μｍの膜厚
で形成した。表面硬度はＩ−［であった。

比値感光層Ａ〜■、保護層α〜εを表２に示したごとく組み
合わＵ・て感光体を作製し、比較例！〜っで用いた複写
機において、クリーニングブレードの圧接角と圧接力を
調整し、その他の条件、使用材料は比較例Ｉと同様にし
て、削れ量を調整しなから耐刷試験を行なった。圧接力
は０　、５　ｇ／ｃｍ〜２５ｇ／ａｍの間とした。圧接
角は感光体ドラム表面における圧接点での法線に対し、
−３０゛〜＋１５０゛とした。

結果を表２に示す。

なお表中の評価項目は以下のことを意味する。

削れｍ：オングストローム／Ａ４紙１万枚コピーＸＣ：
クリーニング不良発生Ｘ８：耐刷試験８万枚以内で感光層膜厚半減（画像濃度
低下）ｘ１２：耐刷試験Ｉ２万枚以内で感光層膜厚半減（画像
濃度低下）ｘｌｏ：耐刷試験１０万枚以内で高湿時画像流れが全面
に発生 △１５：耐刷試耐刷試験１０万画像良好△３０：耐刷試
耐刷試験１０万画像良好○　　：耐刷試験５０万枚以上
画像良好ム　　：耐刷試験１５万枚で高湿時画像流れが
一部発生 △　　：耐刷試験３０万枚で高湿時画像流れが一部発生発明の効果本発明によると耐久性向上の目的に設けられた高硬度表
面保護層のオゾン劣化の影響を低減することができ、耐
久性のさらなる向上、および耐刷後耐湿性の改心をなし
得た。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、表面保護層を形成するための装
置の一例を示す図である。図中の記号は以下の通りである。（７０１）〜（７０６）・・・タンク（７０７）〜（７１２）・・・調節弁（７２５）〜（７２７）・・・調節弁（７１３）〜（７１８）・・・流量制御器（７２８）〜
（７３０）・・流量制御器（７１９）〜（７’２１）・
・・容器（７２２）〜（７２４）・・・加熱器（７３１）・・・混合器（７３２）・・・主管（７３３）・・・反応室（７３４）・・・配管加熱器（７３５）・・・接地電極（７３６）・・・電力印加電極（７３７）・・・電極加熱器（７３８）・・・高周波電力用整合器（７３９）・・・高周波電源（７４０）・・・低周波電力用整合器（７４１）・・・低周波電源（７４２）・・・ローパスフィルタ（７４３）・・・直流電源（７４４）・・・接続選択スイッチ（７４５）・・・圧力調節弁、（７４６）・・・排気系選択弁（７４７）・・・拡散ポンプ（７４８）・・・油回転ポンプ（７４９）・・・冷却除外装置（７５０）・・・メカニカルブースターポンプ（７５１
）・・・反応室加熱器（７５２）・・・基板（７５３）・・・除外装置（７５４）・・・駆動モータ

Claims

【特許請求の範囲】

１、表面の鉛筆硬度がＨ以上の有機感光体を１万枚実写
につき７〜２００Åの割合で削りながら使用することを
特徴とする有機感光体の使用方法。