JPH01225959A - 感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、表面保護層を設けた感光体、特に静電特性、
耐久性に優れた感光体に関する。

従来の技術 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、感光体にも様々な材料が開発され実用化さ
れてきた。中でも近年、これまで用いられてきたセレン
、セレン砒素、セレンテルル、硫化カドミウム、或は、
酸化亜鉛等の感光体に比べて衛生面に優れ、しかも高感
度を有する事から、有機系感光体の発展が著しい。

一般に、有機系感光層の作製に用いられる材料としては
、電荷発生に寄与する光導電性材料として、例えば、フ
タロシアニン系顔料、アゾ系顔料、ペリレン系顔料（チ
アピリリウム染料）等が用いられ、電荷輸送に寄与する
電荷輸送性材料として、例えば、トリフェニルメタン化
合物、トリフェニルアミン化合物、ヒドラゾン化合物、
スチリル化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合
物、オキサジアゾール化合物等が用いられ、これらを分
散塗布せしめるための結着材料として、例えば、ポリエ
ステル、ポリビニルブチラール、ポリカーボネイト、ボ
リアリレート、スチレンアクリル等の樹脂が用いられる
。

しかしながら、これらの材料を用いて作製された有機系
感光層は何れも表面硬度が低く、通常ＪＩＳ−に一５４
００規格による鉛筆硬度にして、高々５Ｂ乃至Ｂ程度の
硬度を有するに過ぎない。

従って、この様な感光層をそのまま感光体とじて使用す
ると、複写機内での実使用においては、転写紙、クリー
ニング部材、現像剤等との摩擦による表面摩耗により、
あるいは、ペーパージャム時及びその復帰の際の人為的
操作等により苛酷な表面接触をしばしば受け、表面に傷
を受けやすい。

この傷は複写画像上に所謂白抜けとして現れ、画像品位
を著しく低減し、感光体寿命を短（する。

さらに、前記表面摩耗は感光層を徐々に削り取るため感
光層膜厚が低下し、ひいては所望の帯電電位が得られな
くなり、感光体寿命を短か（する。

このような欠点を解消するためには、有機系感光層の表
面に保護層を設け、複写機内での接触部材、あるいは、
人為的接触に対する耐摩耗性を改善する方法が有効であ
る。

しかしながら、有機系感光層表面を保護層で被覆するに
は、無作為な膜材料及び成膜手法を用いる事はできず、
次の如き必要項目の全てを満足する膜を用いる必要があ
り、膜材料並びにその成膜手法には、創意工夫が必要と
される。

第一に、可視光透過率が高く有機系感光層への入射光量
が充分に確保でき、該感光層が本来有する優れた感度を
損なわない膜である事が必要とされる。第二に、複写機
内での実使用において、表面に傷を受けない硬膜である
事か必要とされる。

第三に、有機系感光層との接着性に優れ、複写機内での
実使用において、機械的接触、あるいは、温湿度の変化
等により剥離しない膜である事が必要とされる。第四に
、無害である事が必要とされる。第五に、有機系感光層
との電気的整合性に優れ、残留電位の発生、あるいは、
腹数枚複写時に前の画像が次の画像にポジまたはネガ像
として現れる所謂メモリー現像の発生、さらには、不整
合界面での電荷の横流れによる所謂画像流れの発生に寄
与しない膜である事が必要とされる。換言すれば、有機
系感光層との電気的整合性に優れた表面保護層である事
が必要とされる。第六に、複写機が実使用される環境下
において、特に、高温高湿条件下において、画像品位を
損なわず、所謂画像流れを発生しない膜である事が必要
とされる。

さらに、前記有機系感光層材料においては、耐熱性に乏
しい化合物が殆どであり、保護膜形成時に高温加熱状態
を経る事ができない。例えば、熱硬化性樹脂を塗布し、
加熱硬化すれば、３Ｈ乃至５Ｈ程度の硬膜が得られるが
、加熱処理により感光層が変性し、好適な感度が得られ
なくなる。従って、有機系感光層材料の種類によっても
異なるが、保護膜形成温度は常温が最も好ましく、僅か
に加熱するにしても、その最高温度は高々１００℃まで
に抑える必要がある。

このような見地から、有機系感光体の表面保護層に関し
ては幾つかの膜材料、並ひに、その成膜手法が開示され
、電子写真においては重要な技術分野となっている。

一つの手法に、塗布法がある。例えば、特開昭５３−２
３６３６号公報には、有機系を始め種々の感光層上に、
特定の珪素化合物を塗布し硬化させた絶縁層を設けた感
光体が開示されている。特開昭５４−１７７３２号公報
には、フタロシアニン光導電体を樹脂中に分散した感光
層表面に、ニトロセルロースを主成分トスルオーバーコ
ート層（表面保護層）を塗布乾燥により設けた感光体が
開示されている。

特開昭５７−８９７６４号公報には、ポリウレタン樹脂
を始めとする樹脂を、有機系を始め種々の感光層上に、
塗布硬化させた感光体が開示されている。

この技術は有機系感光体の表面に再度有機化合物を塗布
し硬化する事により前記問題点を解決しようとするする
ものである。

特開昭５８−１０５２３４号公報には、電荷輸送物質を
含有させた表面保護層を有する感光体が開示されている
。この保護層は、電荷輸送物質を含有する樹脂液を有機
感光層上に塗布乾燥することにより形成され、有機感光
層における電荷輸送物質のイオン化ポテンシャル（α（
ｅＶ））とするとき、保護層におけるキャリア輸送物質
のイオン化ポテンシャルの値がα＋Ｑ、５ｅＶ以下であ
ることを特徴とする感光体を開示する。この技術は、本
発明が開示しようとする感光体の表面保護層の構成材料
が全く異なるし、また、保護層の硬度が小さい。表面保
護層として形成した場合においては、２Ｈ乃至３Ｈ程度
の鉛筆硬度が得られるに過ぎず、表面硬度は必ずしも充
分とはいえない。

別の手法として、特開昭５７−８９７６５号公報には、
有機系感光層上に、金属酸化物もしくは金属ハロケン化
物の真空蒸着膜を表面保護層として形成した感光体か開
示されている。

一般に、真空蒸着法により表面保護層として形成した場
合においても、２Ｈ乃至３Ｈ程度の鉛筆硬度が得られる
に過ぎず、表面硬度は必ずしも充分とはいえない。

また一方、プラズマ有機重合膜自体は古くより知られて
おり、例えばジエン（Ｍ、　Ｓ　ｈｅｎ）及びベル（Ａ
、　ｔ、　Ｂ　ｅｌｌ）らにより、１９７３年発行のジ
ャーナル・オブ・アプライド・ポリマー・サイエンス（
Ｊ　ｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｏｌｙｍ
ｅｒ　５ｃｉｅｎｃｅ）第１７巻の８８５〜８９２頁に
おいて、あらゆる有機化合物のガスから作製され得る事
が、また、同著者らにより、１９７９年アメリカンケミ
カルソサエティー（Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａ
ｌ　５ｏｃｉｅｔｙ）発行によるプラズマポリマライゼ
ーション（Ｐｌａｓｍａ　Ｐ。

ｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）の中でもその成膜性が論じ
られている。しかしながら、その応用については言及さ
れていない。

感光体への具体的な応用例としては、例えば、特開昭５
９−２１４８５９号公報に、アモルファスシリコン感光
体の表面に保護層として有機炭化水素モノマーをプロズ
マ重合させて５μｍ程度の膜を形成させる技術が開示さ
れている。特開昭６０　６１７６１号公報には、アモル
ファスシリコン感光体の表面保護層として、５００人〜
２μｍのダイヤモンド状炭素薄膜を設けた感光体が開示
され、透光性の面から膜厚２μｍ以下が好ましいとされ
ている。特開昭６０−２４９１１５号公報には、０．０
５〜５μｍ程度の無定形炭素または硬質炭素膜をアモル
ファスシリコン感光体の表面保護層として用いる技術が
開示され、膜厚が５μｍを越えると感光体活性に悪影響
が及ぶとされている。特開昭６１−９４０５６号公報に
は、アモルファスシリコンの表面に保護層として、疎水
性に優れたアモルファスカーボン膜を用いたアモルファ
スシリコン感光体が開示されている。

これらの開示は、何れも、高硬度ではあるが、耐湿性に
乏しく所謂画像流れを発生しやすいアモルファスシリコ
ン感光体表面を、炭素系の膜で被覆し、高湿時の画像品
位を改善しようとするものである。また、無機系感光体
であるアモルファスシリコン感光体は、元来、耐熱性に
富むため、高温において膜形成を行なうものである。従
って、本発明とは、本質的に異なる。

また、特開昭５０−２０７２８号公報には、ポリビニル
カルバソールセレン系感光体の表面に保護層としてグロ
ー放電重合によるポリマー膜を０９１〜１μｍ設けた感
光体が開示されている。特開昭５１−４６１３０号公報
には、ポリビニルカルバゾール系電子写真感光体の表面
にグロー放電重合を行なってｏ、ｏｏｉ〜３μｍのポリ
マー膜を形成せしめた電子写真感光体か開示されている
。

これらの開示は、何れも、液体現像法を採用する場合の
耐溶剤性の向上、もしくは、帯電極性の調整を目的とす
るものであり、高硬度化による有機系感光体の耐摩耗性
の改善については、組成並びに成膜手法を始め、全（言
及されておらず、本発明とは本質的に異なる。

本発明は、これらの開示とは本質的に異なる材料組成に
より、前述の必要項目を全て満足しながら、前記問題点
を解決するものである。

本発明者らは、表面硬度の改善による長寿命型有機感光
体を検討する中で、グロー放電法により形成されるプラ
ズマ有機重合膜が、透光性、並びに、硬度に選れ、表面
保護層として有効で有る事に加え、該プラズマ有機重合
膜のイオン化ポテンシャル（Ｉ　ｐ＋）と感光層のイオ
ン化ポテンシャル（Ｉ９２）の差を＋ｐ、　　ＩＩ）２
≧０．１（ｅＶ）に調整することで良好な静電及び画像
特性が得られることも見い出した。

そして、該プラズマ有機重合膜の形成を１００°Ｃ以下
の低温において行なう事により、有機系感光層の変性を
伴う事なく成膜し得る事を見出した。

本発明は、これらの新たなる知見を用いる事により、有
機系感光層に好適な表面保護層を設け、耐摩耗性に優れ
、長寿命化された有機系感光体を提供するものである。

発明が解決しようとする課題 本発明は、従来の有機系感光層が有する本質的な問題点
、即ち、感光層表面が低硬度であるため耐摩耗性に乏し
く、寿命が短かい点を解決するために、表面保護層を設
けた新規有機系感光体に関する。さらに、本発明は、無
作為な保護膜の形成においては往々にして阻害される、
次の如き必要項目を充分に満足し得る表面保護層を有す
る、新規有機系感光体に関する。

第一に、可視光透過率が高く有機系感光層への入射光量
が充分に確保でき、該感光層が本来有する優れた感度を
損なわない表面保護層である事が必要とされる。第二に
、複写機内での実使用において、表面に傷を受けない高
硬度を有する表面保護層である事が必要とされる。第三
に、有機系感光層との接着性に優れ、複写機内での実使
用において、機械的接触、あるいは、温湿度の変化等に
より剥離しない表面保護層である事が必要とされる。第
四に、無害な表面保護層である事が必要とされる。第五
に、有機系感光層との電気的整合性に優れ、残留電位の
発生、あるいは、複数枚複写時に前の画像が次の画像に
ポジまたはネガ像として現れる所謂メモリー現象の発生
、さらには、不整合界面での電荷の横流れによる所謂画
像流れの発生に寄与しない表面保護層である事か必要と
される。換言すれば、有機系感光層との電気的整合性に
優れた表面保護層である事が必要とされる。

第六に、複写機が実使用される環境下において、特に、
高温高湿条件下において、画像品位を損なわず、所謂画
像流れを発生しない表面保護層である事が必要とされる
。さらに、有機系感光層材料においては、耐熱性に乏し
い化合物が殆どであり、保護膜形成時に高温加熱状態を
経る事ができない事から、常温乃至１００°Ｃにおいて
、表面保護層を形成する必要がある。

本発明は、以上を解決し得る感光体を提供するものであ
る。

課題を解決するための手段 即ち、本発明は少なくとも、導電性基板上に有機系感光
層および表面保護層をこの順に有する正帯電感光体にお
いて、該表面保護層が非晶質炭素膜からなり、該非晶質
炭素膜が有機系感光層のイオン化ポテンシャルより０，
１ｅＶ以上大きいイオン化ポテンシャルを有することを
特徴とする正帯電感光体に関する。

本発明においては、非晶質炭素膜はグロー放電法により
プラズマ重合で形成される（以下、本発明によるグロー
放電プラズマ重合膜による非晶質炭素膜をａ−Ｃ膜とい
う）。ａ−Ｃ膜は高度に架橋分枝した有機重合膜であり
、グラファイト構造や擬ダイヤモンド膜構造を取る場合
もあり、非常に硬度のある膜として得られる。ａ−Ｃ膜
を形成するためのガスとして、原料ガスとしては炭化水
素ガスが用いられる。キャリアガスとしては一般に常用
される水素ガス或はアルゴンガス等の無機系ガスが用い
られる。

該炭化水素ガスの相状態は常温常圧において必ずしも気
相で有る必要は無く、加熱或は減圧等により溶融、蒸発
、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固相
でも使用可能である。該炭化水素としては、例えば、飽
和炭化水素、不飽和炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族
炭化水素等が用いられる。

使用可能な炭化水素には種類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソブタン
、インペンタン、ネオペンタン、イソヘキサン、ネオヘ
キサン、ジメチルブタン、メチルヘキサン、エチルペン
タン、ジメチルペンタン、トリブタン、メチルへブタン
、ジメチルヘキサン、トリメチルペンタン、イソナノン
等が用いられる。不飽和炭化水素としては、例えば、エ
チレン、プロピレン、イソブチレン、フテン、ペンテン
、メチルブテン、ヘキセン、テトラメチルエチレン、ヘ
プテン、オクテン、アレン、メチルアレン、ブタジェン
、ペンタジェン、ヘキサジエン、シクロペンタジェン、
オシメン、アロシメン、ミルセン、ヘキサトリエン、ア
セチレン、ジアセチレン、メチルアセチレン、ブチル、
ペンチン、ヘキシン、ヘプチン、オクチン等が用いられ
る。脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン
、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シ
クロへブタン、シクロオクタン、・シクロプロペン、シ
クロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロ
ヘプテン、シクロオクテン、リモネン、テルビルン、フ
エランドレン、シルベストレン、ツエン、カレン、ピネ
ン、ボルニレン、カンフエン、フェンチェン、シクロフ
ェンチミン、トリシクレン、ピサボレン、ジンギベレン
、クルクメン、フムレン、カジネンセスキベニヘン、セ
リネン、カリオフィレン、サンタレン、セドレン、カン
ホレン、フィロクラデン、ボドカルプレン、ミレン等が
用いられる。芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、ヘミメリテン、プソイドクメ
ン、メシチレン、フレニテン、インジュレン、ジュレン
、ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチ
ルベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ビ
フェニル、テルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェ
ニルメタン、ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフ
タリン、テトラリン、アントラセン、フェナントレン等
が用いられる。これらの炭化水素は混合して使用しても
よい。

本発明におけるａ−Ｃ膜中に含まれる水素原子の量は、
炭素原子と水素原子の総量に対して概ね３０乃至６０原
子％程度である。

本発明におけるａ−Ｃ膜中に含まれる水素原子の量は、
成膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化し、水素
量が低くなる場合としては、例えば、基板温度を高くす
る、圧力を低くする、原料炭化水素ガスの希釈率を低く
する、水素含有率の低い原料ガスを用いる、印加電力を
高くする、交番電界の周波数を低くする、交番電界に重
畳せしめた直流電界強度を高くする等の場合か挙げられ
る。

またａ”−Ｃ膜のイオン化ポテンシャルはプラズマ重合
条件、原料化合物、添加物質、基板温度等により変化さ
せることができる。イオン化ポテンシャルは印加電力を
小さくする、原料ガス流量を大きくする、基板温度を下
げる、圧力を高くする、電気陰性度の高い原子、分子、
化合物（特にハロゲン原子および■族原子が好ましい）
を添加すること等により大きくなり、逆にすれば小さく
なる。

ただし基板温度および添加物質によって最も顕著に変化
する。

本発明における有機系感光層の表面保護層としてのａ−
Ｃ膜の膜厚は、概ね０．２乃至５μｍが好適である。膜
厚が０．２μｍより薄い場合には、表面硬度が下地であ
る有機系感光層の低硬度の影響を受けやす（なり、好適
な耐久性が確保できない。

また、膜厚が５μｍより厚い場合には、必ずしも好適な
可視光透過率が確保できるとは限らず、有機系感光層が
本来有する高感度性能を損なう。

本発明における原料ガスミーＣ膜を形成する過程として
は、原料ガスが、直流、低周波、高周波、或はマイクロ
波等を用いた所謂プラズマ法により生成されるプラズマ
状態を用いて形成される。

前述したようにハロゲン原子を含有させた場合、ａ−Ｃ
膜のイオン化ポテンシャルは大きくなる傾向にあり、第
■族元素を含有させた場合も大きくなる傾向がある。

ハロゲン元素、第■族元素をａ−Ｃ膜中に含有させるに
は、これらの元素を含む適当なガス状化合物を炭化水素
ガスと共にプラズマ状態にして成膜すればよい。

少なくともハロゲン原子を含む分子としては、例えば、
Ｆｔ、ＨＦ、ＨＣｌ２、ＣＦ、、ＣＣｌ２４、Ｃ３Ｆ８
、ＣｓＦｅ、ＣＦ、ＣＨ７、ＣＦＨＣＦＨ等を用いるこ
とができる。

少なくとも周期律表第■族元素を含む分子としては、例
えば、ＰＨ，、ＰＦ３、ＰＦ５、ＰＣｌ３．Ｆ。

ＰＣＲ，Ｆ３、ＰＣ（３、ＰＢｒｓ、Ｐ　Ｏ（ＯＣＨ、
）、、ｐ　（ｃ　ｔＨ３）３、ｐｏｃＱ、、ＡｓＨ，、
Ａ　ｓ　ＣＱ　３、ＡｓＢｒ３、ＡｓＦ３、ＡｓＦ　３
、ＡｓＣ１！３、Ｓ　ｂ　Ｈ３、ＳｂＦ３．５ｂＣＩ２
３、Ｓ　ｂ（ＯＣ、Ｈ５）、等を用いることができる。

ａ−Ｃ膜中に含まれる上記へテロ原子の量は、プラズマ
ＣＶＤ反応に用いるヘテロ原子を含む分子の量を増減こ
とにより調整することができる。

表面保護層の下に形成される有機感光層は、電荷発生能
、電荷輸送機能を兼ねそなえた単層感光層、またはそれ
らの機能を分離した機能分離型の感光層であってもよい
。機能分離型の場合、感光体の帯電性との関係で導電性
基板上に電荷輸送層および電荷発生層を順次積層した構
成が好ましい。

電荷発生能を有する電荷発生物質として用いられるもの
としては、ビスアゾ系顔料、トリアリールメタン系染料
、チアジン系染料、オキサジン系染料、キサンチン系染
料、シアニン系色素、スチリル系色素、ピリリウム系染
料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、インジゴ系顔料
、ペリレン系顔料、多環キノン系顔料、ビスベンズイミ
ダゾール系顔料、インダスロン系顔料、スクアリリウム
系顔料、フタロシアニン系顔料等の有機物質があげられ
る。

これ以外も、光を吸収し極めて高い効率で電荷担体を発
生する材料であれば、いずれの材料であっても使用する
ことができる。

特に、フタロシアニン系顔料はレーザープリンタＬＥＤ
プリンタとして有用であり、フタロシアニン系顔料とし
ては、それ自体公知のフタロシアニンおよびその誘導体
いずれでも使用でき、具体的には、銅、銀、ベリリウム
、マグネシウム、カルシウム、ガリウム、亜鉛、カドミ
ウム、バリウム、水銀、アルミニウム、インジウム、ラ
ンタン、ネオジム、す７　＋）ラム、ユーロピウム、カ
ドリニウム、ジスプロシウム、ホルミウム、ナトリウム
、リチウム、イッテルビウム、ルテチウム、チタン、錫
、ハフニウム、鉛、トリウム、バナジウム、アンチモン
、クロモ、モリブデン、ウラン、マンガン、鉄、コバル
ト、ニッケル、ロジウム、パラジウム、オスミウムおよ
び白金等である。またフタロシアニンの中心核として金
属原子ではなく、３価以上の原子価を有するハロゲン化
金属であってもよい。さらに、銅−４−アミノフタロシ
アニン、鉄ポリハロフタロシアニン、コバルトへキサフ
ェニルフタロシアニンやテトラアゾフタロシアニン、テ
トラメチルフタロシアニン、ジアルキルアミノフタロシ
アニン等の無金属フタロシアニンの誘導体などが使用で
きる。これらは単独または混合して使用できる。

フタロシアニン分子中のベンゼン核の水素原子かニトロ
基、シアノ基、ハロゲン原子、スルホン基およびカルボ
キンル基からなる群から選ばれた少な（とも一種の電子
吸引性基で置換されたフタロシアニン誘導体と、フタロ
シアニンおよび前記フタロシアニン化合物から選ばれる
非置換フタロシアニン化合物の少なくとも一種とを、そ
れらと塩を形成しうる無機酸と混合し、水または塩基性
物質によって析出させることによって得られるフタロシ
アニン系光導電性材料組成物を使用することもできる。

この場合、電子吸引性基置換フタロシアニン誘導体は、
−分子中の置換基の数が１〜１６個の任意のものを使用
でき、またその電子吸引性基置換フタロシアニン誘導体
と他の非置換フタロシアニン化合物との組成割合は、前
者の置換基の数かその組成物中の単位フタロシアニン１
分子当り０．００１〜２個、好ましくは、０．００２〜
１個になるようにするのが好ましい。前記フタロシアニ
ン系光導電性材料組成物を製造する際使用されるフタロ
シアニン化合物と塩を形成しうる無機酸としては、硫酸
、オルトリン酸、クロロスルホン酸、塩酸、ヨウ化水素
酸、フッ化水素酸、臭化水素酸等が挙げられる。

前記光導電性材料のうち、本発明の目的達成のため特に
好適なものとしては、無金属フタロシアニン、銅フタロ
シアニン及びその誘導体、例エバ、核電子吸引性基置換
誘導体があげられる。

上記フタロシアニン顔料は、電荷輸送材料および／また
は酸化防止剤で被覆または吸着処理されていてもよい。

前述の種々の電荷発生物質は、塗布法、蒸着法、イオン
ブレーティング法、Ｐ−ＣＶＤ法、クラスターイオンビ
ーム法等で単層型感光層あるいは機能分離型の電荷発生
層中に含有される。

塗布法は、適当な電荷発生物質を電気絶縁性の結着樹脂
を溶解した樹脂液に分散あるいは溶解させた塗布液を塗
布乾燥する方法である。

本発明における電気絶縁性の結着剤樹脂としては、電気
絶縁性であるそれ自体公知の熱可塑性樹脂あるいは熱硬
化性樹脂や光硬化性樹脂や光導電性樹脂等結着剤の全て
を使用出来る。

適当な結着剤樹脂の例は、これに限定されるものではな
いが、飽和ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリ
ル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、イオン架橋オ
レフィン共重合体（アイオノマー）、スチレンーブタジ
エンブロソク共重合体、ポリカーボネート、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、セルロースエステル、ポリイミ
ド等の熱可塑性結着剤：エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
シリコーン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、キシ
レン樹脂、アルキ２ド樹脂、熱硬化性アクリル樹脂等の
熱硬化性結着剤：光硬化性樹脂：ポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン
等の光導電性樹脂である。

これらの電気絶縁性樹脂は単独で測定してｌＸ１０１４
Ω・ｃｍ以上の体積抵抗を有することが望ましい。

電荷輸送能を有する電荷輸送材料としては、−数的に知
られているヒドラゾン系、オキサジアゾール系、トリフ
ェニルメタン系、ピラゾリン系、スチリル系等の化合物
を使用することが出来る。

その中でも特にフタロシアニン系顔料に対して下記−数
式［１］で示されるヒドラゾン化合物が好適である。

Ｒ１Ｒ。

１　　　　／ Ａ千〇＝Ｎ　　Ｎ　　　　　）ｎ　　　　　［１コ＼ Ｒ３ ［式中、Ｒ１は水素またはメチル基、Ｒ２およびＲ３は
、アルキル基、アラルキル基または置換基を有してもよ
いアリール基、置換基を有してもよい縮合多環式基、Ａ
は置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、又は、芳香
族複素環基、ｎは１または２の数を表わす。Ｒ，、Ｒ３
は両者合して環を形成してもよい。］ 、これらの化合物については、例えば特開昭５４−１５
０１２８号公報、特開昭５５−４６７６０号公報、特開
昭５５−１５４９５５号公報、特開昭５５−５２０６３
号公報等に記載されている。

また、電荷輸送材料としてはそれ自体高分子であるポリ
ビニルカルバゾールや、ポリビニルアントラセン等であ
ってもよい。フタロシアニン系光導電性材料で被覆する
ことにより、感度、繰り返し特性が改良され、なおかつ
耐オゾン性、耐刷性、耐湿性が改良される。

上記した単層型、機能分離型感光体とも、それらに使用
する電荷発生材および電荷輸送材の量、またはそれらの
各膜厚等は、従来適用されている公知の技術を使用する
ことができる。

第１図から第３図に本発明感光体の構成例を示した。

第１図および第２図は、導電性基体（１）上に単層型有
機系感光層（２）およびａ−Ｃ膜表面保護層（３）を設
けた構成例である。

第１図において有機系感光層（２）は電荷発生物質（４
）か結着樹脂中に分散された構成をしている。

かかる構成の場合有機系感光層のイオン化ポテンシャル
は、結着樹脂のイオン化ポテンシャルが大き過ぎるため
、電荷輸送物質の有するイオン化ポテンシャルが観測さ
れる。

第２図における有機系感光層（２）は、電荷発生物質（
４）に加えさらに電荷輸送物質（５）を含有する。かか
る感光層（２）の場合、イオン化ポテンシャルは、電荷
輸送物質（５）と電荷発生物質（４）とのイオンポテン
シャルの平均となる。

第３図は導電性基板（１）上に電荷輸送層（６）電荷発
生層（７）の２層からなる有機系感光層およびａ−Ｃ膜
表面保護層（８）を順次形成した機能分離型感光体の構
成例を示す電荷発生層（７）は樹脂分散型であってもよ
いし、蒸着型であってもよい。

かかる構成の場合、有機系感光層のイオン化ポテンシャ
ルは、電荷発生層（７）を構成する、電荷発生物質（４
）のイオン化ポテンシャルをいう。

本発明においては、ａ−Ｃ膜表面保護層（３）のイオン
化ポテンシャルが有機系感光層の有するイオン化ポテン
シャルより０．１ｅＶ以上、好ましくは０，２ｅＶ以上
大きいときに帯電時電荷が剰やすく、繰り返し使用して
も残留電位の上昇等が発生せず、良好な静電特性を有す
る感光体が得られる。

その差が０．１ｅＶより小さいと帯電時、電荷保持、帯
電能が低下するとともに残留電位の上昇を招く。

表面保護層と有機系感光層の上記イオン化ポテンシャル
の関係は、前述したようにａ−Ｃ膜の製造条件を種々変
化させることにより、あるいは、電荷輸送物質および電
荷発生物質等の種類、量等を適宜選定することにより行
なえる。

なお、イオン化ポテンシャルは、外部光電効果法等によ
り測定でき、本発明は、表面分析装置ＡＣ−１（理研計
器社製）により求めた値で表現した。

第４図または第５図は本発明に係わる感光体の表面保護
層、即ち、ａ−Ｃ膜を形成するための製造装置を示し、
図中（７０１）〜（７０６）は常温において気相状態に
ある原料及びキャリアガスを密封した第１乃至第６タン
クで、各々のタンクは第１乃至第６調節弁（７０７）〜
（７１２）の第１乃至第６流量制御器（７１３）〜（７
１８）に接続されている。図中（７１９）〜（７２１）
は常温において液相または固相状態にある原料を封入し
た第１乃至第３容器で、各々の容器は気化のため、第１
乃至第３温調器（７２２）〜（７２４）により与熱可能
であり、さらに各々の容器は第７乃至第９調節弁く７２
５）〜（７２７）と第７乃至第９流量制御器（７２８）
〜（７３０）に接続されている。これらのガスは混合器
（７３１）で混合された後、主管（７３２）を介して反
応室（７３３）に送り込まれる。途中の配管は、常温に
おいて液相または固相状態にあった原料化合物が気化し
たガスが、途中で凝結しないように、適宜配置された配
管加熱器（７３４）により、与熱可能とされている。反
応室内には接地電極（７３５）と電力印加電極（７３６
）が対向して設置され、各々の電極は電極加熱器（７３
７）により与熱可能とされている。電力印加電極（７３
６）には、高周波電力用整合器（７３８）を介して高周
波電源を（７３９）、低周波電力用整合器（７４０）を
介して低周波電源（７４１）、ローパスフィルタ（７４
２）を介して直流電源（７４３）が接続されており、接
続選択スイッチ（７４４）により周波数の異なる電力が
印加可能とされている。反応室（７３３）内の圧力は圧
力制御弁（７４５）により調整可能であり、反応室（７
３３）内の減圧は、排気系選択弁（７４６）を介して、
拡散ポンプ（７４７）、油回転ポンプ（７４８）、或は
、冷却除外装置（７４９）、メカニカルブースターポン
プ（７５０）、油回転ポンプ（７４８）により行なわれ
る。排ガスについては、さらに適当な除外装置（７５３
）により安全無害化した後、大気中に排気される。これ
ら排気系配管に就いても、常温において液相または固相
状態にあった原料化合物が気化したガスが、途中で凝結
しない様に、適宜配置された配管加熱器（７３４）によ
り与熱可能とされている。反応室（７３３）も同様の理
由から反応室加熱器（７５１）により与熱可能とされ、
内部に配された電極上には、予め有機系感光層が導電性
基板上に形成された基板（７５２）が設置される。第２
図において基板（７５２）は接地電極（７３５）に固定
して配されているが、電力印加電極（７３６）に固定し
て配されても良く、さらに双方に配されても良い。

第５図は本発明に係わる感光体の表面保護層、即ち、ａ
−Ｃ膜を形成するための製造装置の別の一形態を示し、
反応室（７３３）内部の形態以外は、第４図に示した本
発明に係わる製造装置と同様である。

第５図において、反応室（７３３）内部には、第４図に
おける接地電極（７３５）を兼ねた、予め有機系感光層
が導電性基体上に形成された円筒形の基板（７５２）が
設置され、内側には電極加熱器（７３３）が配されてい
る。基板（７５２）周囲には同じ（円筒形状をした電力
印加電極（７３６）が配され、外側には電極加熱器（７
３７）が配されている。

有機系感光層が形成されている基板（７５２）は、外部
より駆動モータ（７５４）を用いて自転可能となってい
る。

反応室は、拡散ポンプにより予め１０−４乃至１０−’
Ｔｏｒｒ程度にまで減圧し、真空度の確認と装置内部に
吸着したガスの脱着を行なう。同時に電極加熱器により
、電極並びに電極に固定して配された基板を、必要に応
じ、所定の温度まで昇温する。この時、有機系感光層の
熱変性を防止するために、基板温度は１００°Ｃ以下（
常温乃至１００’Ｃ）に温度設定される。次いで、第１
乃至第６タンク及び第１乃至第３容器から適宜炭化水素
並びにハロゲン化合物またはリン原子含有化合物よりな
る原料ガスを第１乃至第９流量制御器を用いて定流量化
しながら反応室内に導入し、圧力調節弁により反応室内
を一定の減圧状態に保つ。ガス流量が安定化した後、接
続選択スイッチにより、例えば高周波電源を選択し、電
力印加電極に高周波電力を投入する。両電極間には放電
が開始され、時間と共に基板上に固相の膜が形成される
。反応時間により膜厚を制御し、所定の膜厚に達したと
ころで放電を停止し、ａ−Ｃ膜を本発明による感光体の
表面保護層として得る。以上の過程により、本発明によ
る表面保護層を有する感光体を得る。

以下、実施例を挙げながら本発明を説明する。

まず、有機系感光層Ａ−Ｅの作製を行った。以下たて５
０　Ｘ横Ｘ厚さ３ｍｍの平板状アルミニウム基板上に形
成したものを補助記号ｐを用いて有機系感光層Ａｐ−Ｅ
ｐと称し、直径８０ｍｍｘ長さ３３０ｍｍの円筒状アル
ミニウム基板上に形成したものを補助記号ｄを用いてＡ
ｄ−Ｅｄと称する。

有機系感光層体Ａの作製 ２−ベンジルオキシ−４−ジエチルアミノベンズアルデ
ヒド−ジフェニルヒドラゾン５ｇおよびポリカーボネー
ト（音大化成社製に−１３００）５ｇを重量部をテトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）３０ｇに溶解させ、この溶液を
縦５０Ｘ横５０×厚さ３ｍｍの平板アルミニウム基板上
に乾燥後の膜厚が１５μｌとなるように塗布し、乾燥さ
せて電荷輸送層を形成した。

次に、フタロシアニン系顔料としてアルミクロルフタロ
シアニン１ｇ、ポリエステル樹脂（東洋紡社製Ｖ−２０
０）１９、およびシクロへキサノン９８９重量部の混合
液をサンドプライング−で１３時間分散した。この分散
液を電荷輸送層上にバーコーターを用いて乾燥後の膜厚
が３．０μｌとなるように塗布し、乾燥して電荷発生層
を形成し、有機系感光層Ａｐを得た。

同様の工程にて、ディッピングを用いて、直径８０ｍｍ
ｘ長さ３３０ｍｍの円筒状アルミニウム基板上に有機系
感光層Ａｄを形成した。

有機系感光層ＡｐおよびＡｄの電荷発生層のイオン化ポ
テンシャルは約５，１ｅＶであった。

比較例１ 得られた有機系感光層Ａｐを常用のカールソンプロセス
の中でコロナ放電を用いて＋６００ｖに初期帯電（以下
ＶＯと称する）し、表面電位を半減するのに必要とされ
る光量（以下、Ｅ１／２と称する）を測定したところ、
４．３１ｕｘ−ｓｅｃ、残留電位（以下Ｖｒと称する）
は＋４５Ｖであった。また、Ｊ　Ｉ　Ｓ−に−５４００
規格による鉛筆硬度を測定したところ、約４Ｂの表面硬
度を有していた。

また、得られた有機系感光層Ａｄについても同様の性能
が認められたが、有機系感光層Ａｄについてはさらに実
際の複写機（ミノルタカメラ社製ＥＰ４７０Ｚ）に搭載
して常温常湿の室内でＡ４腹写紙５千枚の耐刷試験を行
なったところ、約２μｌの膜厚減少が観察された。従っ
て、静電特性には優れるものの、耐久性には乏しいこと
か理解された。

結果を表２に示した。

有機系感光層体Ｂの作製 電荷輸送層材に使用した２−ベンジルオキシ−４−ジエ
チルアミノベンズアルデヒド−ジフェニルヒドラゾンに
代えてｐ−ジエチルアミ／ベンズアルデヒド−ジフェニ
ルヒドラゾンを使用した以外は有機系感光体層Ａｐ、Ａ
ｄと同様にして有機系感光層ＢｐおよびＢｄを作製した
。

得られた感光層のイオン化ポテンシャルは約５、ｌｅＶ
であった。

比較例２ 得られた有機系感光層ＢｐおよびＢｄについて比較例１
と同様の評価を行なった。

その結果を表２に示した。

有機系感光層Ｃの作製 電荷発生層形成用のクロロジンブルーをチタニルフタロ
シアニン（ＴｉＯＰｃ）を０．９５９に代える事態外は
有機系感光層Ｂｐ、Ｂｄと同様にして有機系感光層ｃｐ
およびＣｄを作製した。

得られた感光層の電荷発生層のイオン化ボテンンヤルは
約５．３ｅＶであった。

比較例３ 得られた有機系感光層ＣｐおよびＣｄについて比較例１
と同様の評価を行なった。

その結果を表２に示した。

また半導体レーザー（波長λ＝７８０ｎｍ）をレーサー
ビーム感度はＥ１／２は約１５ｅｒｇ／ｃｍ２であった
。

有機系感光層りの作製 電荷輸送層形成用の２−ベンジルオキシ−４−ジエチル
アミノベンズアルデヒド−ジフェニルヒドラゾンをｐ−
ジエチルアミノベンズアルデヒド−メチルフェニルヒド
ラゾンに代える以外は有機系感光層ｃｐ、ｃｃｉと同様
にして有機系感光層ＤｐおよびＤｄを作製した。

得られた感光層のイオン化ポテンシャルは約５．３ｅＶ
であった。

比較例４ 得られた有機系感光層ＤｐおよびＤｄについて比較例１
と同様の評価を行ない、その結果を表２に示した。

有機系感光体Ｅの作製 銅フタロシアニン４０重量部、ジニトロ銅フタロシアニ
ン０．５重量部を９８％濃硫酸５００重量部に充分撹拌
しながら溶解する。溶解した液を水３０００重量部にあ
け、銅フタロシアニン、ジニトロ銅フタロシアニンの組
成物を析出させた後、濾過、水洗いし、減圧下１２０°
Ｃで乾燥する。次に、得られた組成物１０重量部を酢酸
ブチル：セロソルブアセテート（１・１）１００重ｉ［
の有機溶剤とともに入れ、４８時間分散する。続いて熱
硬化性アクリル樹脂３２重量部（大日本インキ製アクリ
ディクＡ４０５）、メラミン樹脂８重量部（犬日本イン
キ社製；スパーベッカミンＪ８２０）を上記の分散溶剤
１０重量部とボールミルに入れ４時間混合分散した。得
られた分散溶液を有機系感光層Ａの作製で使用した平板
状および円筒状アルミニウム基板上に、乾燥後の膜厚が
１５μ肩になるように塗布乾燥して有機系単層感光層Ｅ
ｐおよびＥｄを作製した。

得られた感光層のイオン化ポテンシャルは５、２　ｅ　
Ｖであった。

比較例５ 得られた有機系感光層ＥｐおよびＥｄについて比較例１
と同様の評価を行ない、その結果を表２に示した。

この結果から、静電特性には優れるものの、耐久性には
乏しいことが理解された。

実施例１ 本発明にかかわる製造装置を用いて、第３図に示したご
とき、導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層、表面保護
層をこの順に設けた本発明感光体を作製した。

第５図に示すグロー放電分解装置において、反応装置（
７３３）の内部を１０−８Ｔｏｒｒ程度の高真空にした
後、第１、第２調節弁（７０７，７０８）を解放し、第
１タンク（７０１）より水素ガス、第２タンク（７０２
）よりブタジェンガスを、夫々出力圧１．０に９／ｃｍ
”の下で第１、第２流量制御器（７１３）、（７１４）
内へ流入させた。

そして、各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流
量を２０　ｓｅｃｍ、ブタジェンガスの流量を１００ｓ
ｅｃ＋ｕとなるように設定して、途中混合器（７３１）
を介して、主管（７３２）より反応室（７３３）内へ流
入した。

夫々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．８Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。

一方、基板（７５２）としては、有機系感光体Ａｄを用
いて常温のまま、ガス流量および圧力が安定した状態で
、予め接続選択スイッチ（７４４）により接続しておい
た高周波電源（７３９）を投入し、電力印加電極（７３
６）に７ＱＷａｔｔの電力を周波数２ＭＨｚの下で印加
して約４分間プラズマ重合反応を行ない、基板（７５２
）上に厚さ０．２５μ肩の非晶質炭化水素膜を表面保護
層として形成した。

成膜完了後は電力印加を停止し、調節弁を閉じ、。

反応室（７３３）内を充分に排気した後、真空を破り、
本発明感光体を取り出した。

以上のようにして得られた非晶質炭化水素膜につき有機
定量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は
炭素原子と水素原子の総量に対して４２原子％であった
。

また、非晶質炭素膜のイオン化ポテンシャルは５、８３
　ｅ　Ｖであった。

なお表１に上記非晶質炭素膜保護層の作製条件等をまと
めた。

評価 得られた感光体の表面について、鉛筆硬度をＪＩｓ−に
−５４００規格に基づいて測定したところ、約７Ｈであ
り、本発明による感光体の表面保護層により高硬度化さ
れることが理解された。

得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中でコロ
ナ放電を用いて＋６００■に帯電し、Ｅ１／２を測定し
たところ、４　、９１ｕＸ”５ｅｃｓ残留電位は４８Ｖ
であった。また帯電後暗中に５秒間放置後の初期表面電
位の減衰率（ＤＤＲ，）は７％であった。

得られた感光体を実際の複写機（ミノルタカメラ社製Ｅ
Ｐ４７０Ｚを十帯電用に改造したもの）に搭載して常温
常湿の室内で＋５，６ＫＶでコロナ帯電させたときの初
期表面電位（■。“）は５７０ｖであり、８０１ｕｘ−
ｓｅｃの光を照射したときの残留電位（Ｖｒ“）は＋３
０Ｖであった。

また常温常湿においてＡ４複写紙ｌＯ万枚の耐刷試験を
行なったところ、常時鮮明な画像が得られ膜厚減少はほ
とんど観察されなかった。このことは高温高湿下におい
ても同様であった。

さらに、常温常湿下で耐刷試験中４万、ｌＯ万枚複写後
のＶ。′およびＶｒ′　を測定したところ、ｖｏ“はそ
れぞれ＋５６５■、＋５６０Ｖであり、Ｖｒ“は＋３２
Ｖ、＋３３■であった。

結果を表２に示した。

実施例２ 本発明にかかわる製造装置を用いて、第３図に示したご
とき、導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層、表面保護
層をこの順に設けた本発明感光体を作製した。

第５図に示すグロー放電分解装置において、反応装置（
７３３）の内部を１０−６Ｔｏｒｒ程度の高真空にした
後、第１、第２および第７調節弁（７０７，７０８およ
び７２５）を解放し、第１タンク（７０１）より水素ガ
ス、第２タンク（７０２）よりホスフィンガス（水素で
１０％に希釈されたガス）を、夫々出力圧１．０ｋｇ／
ｃｍ”の下で、および第１容器（７１９）よりスチレン
ガスを第１温調器（７２２）温度４５°Ｃのもとて第１
、第２および第７流量制御器（７１３）、（７１４）お
よび（７２８）内へ流入させた。そして、各流量制御器
の目盛を調整して、水素ガスの流量を９０　ｓｃｃ＠、
ホスフィンガスの流量を３　Ｑ　ｓｃｃｍ、およびスチ
レンガスの流量を１８ｓｅｃｍとなるように設定して、
途中混合器（７３１）を介して、主管（７３２）より反
応室（７３３）内へ流入した。

夫々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．２８　Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５
）を調整した。

一方、基板（７５２）としては、有機系感光体Ｂｄを用
いてあらかじめ３５℃に加熱しておき、ガス流量および
圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（７４４
）により接続しておいた低周波電源（７４１）を投入し
、電力印加電極（７３６）に２００Ｗａｔｔの電力を周
波数１５０ＫＨｚの下で印加して約２分２０秒間プラズ
マ重合反応を行ない、基板（７５２）上に厚さ０．５μ
肩の非晶質炭化水素膜を表面保護層として形成した。

成膜完了後は電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室
（７３３）内を充分に排気した後、真空を破り、本発明
感光体を取り出した。

以上のようにして得られた非晶質炭化水素膜につき有機
定量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は
炭素原子と水素原子の総量に対して４６原子％、さらに
オージェ分析から、含有されるリン原子の量は全構成原
子に対し約１９原子％であった。

また、非晶質炭素膜のイオン化ポテンシャルは５．９２
ｅｖであった。

なお表１に上記非晶質炭素膜保護層の作製条件等をまと
めた。

以上のようにして得られた感光体を実施例１と同様の評
価を行い、結果を表２にまとめた。

実施例３ 本発明にかかわる製造装置を用いて、第３図に示したご
とき、導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層、表面保護
層をこの順に設けた本発明感光体を作製した。

第５図に示すグロー放電分解装置において、反応装置（
７３３）の内部をＩ　Ｏ−＠Ｔｏｒｒ程度の高真空にし
た後、第１、第２および第７調節弁（７０７，７０８お
よび７２５）を解放し、第１タンク（７０１）より水素
ガス、第２タンク（７０２）よりブタジェンガスを、夫
々出力圧１．０に９／ａｘ’の下で、および第１容器（
７１９）よりＩＨ，ＩＨ，５Ｈ−オクタフルオロペンチ
ルメタクリレートガスを第１温調器（７２２）温度１４
５°Ｃのもとて第１、第２および第７流量制御器（１，
３）、（７１４）および（７２８）内へ流入させた。そ
して、各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量
を２０Ｑ　ｓｃｃｍ、ブタジェンガスの流量を３０　ｓ
ｃｃｍ、およびｌＨ，ＩＨ，５Ｈ−オクタフルオロペン
チルメタクリレートガスの流量を４Ｑｓｃｃｍとなるよ
うに設定して、途中混合器（７３１）を介して、主管（
７３２）より反応室（７３３）内へ流入した。

夫々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．７Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。

一方、基板（７５２）としては、有機系感光体ｃｄを用
いてあらかじめ３００Ｃに加熱しておき、ガス流量およ
び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（７４
４）により接続しておいた低周波型！（７４１）を投入
し、電力印加電極（７３６）に２５０　Ｗａｔｔの電力
を周波数１２０ＫＨｚの下で印加して約３０秒間プラズ
マ重合反応を行ない、基板（７５２）上に厚さ０．３μ
肩の非晶質炭化水素膜を表面保護層として形成した。

成膜完了後は電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室
（７３３）内を充分に排気した後、真空を破り、本発明
感光体を取り出した。

以上のようにして得られた非晶質炭化水素膜につき有機
定量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は
炭素原子と水素原子の総量に対して３８原子％、さらに
オージェ分析から、含有されるフッ素原子の量は全構成
原子に対し約１８原子％であった。

また、非晶質炭素膜のイオン化ポテンシャルは５、７　
ｅ　Ｖであった。

なお表１に上記非晶質炭素膜保護層の作製条件等をまと
めた。

以上のようにして得られた感光体を実施例１と同様の評
価を行い、結果を表２にまとめた。

実施例４ 本発明にかかわる製造装置を用いて、第３図に示したご
とき、導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層、表面保護
層をこの順に設けた本発明感光体を作製した。

第５図に示すグロー放電分解装置において、反応装置（
７３３）の内部を１０−＠Ｔｏｒｒ程度の高真空にした
後、第１、第２および第７調節弁（７０７，７０８およ
び７２５）を解放し、第１タンク（７０１）より水素ガ
ス、第２タンク（７０２）よりホスフィンガス（水素で
１０％に希釈されたガス）を、夫々出力圧１．０ｋｇ／
ｃｘ”の下で、および第１容器（７１９）よりミルセン
ガスを第１温調器（７２２）温度１４５°Ｃのもとて第
１、第２および第７流量制御器（７１３）、（７１４）
および（７２８）内へ流入させた。そして、各流量制御
器の目盛を調整して、水素ガスの流量を４　Ｑ　ｓｃｃ
ｍ、ホスフィンガスの流量を２５ＣＣＩ１１％およびミ
ルセンガスの流量を１５ｓｅｃｍとなるように設定して
、途中混合器（７３１）を介して、主管（７３２）より
反応室（７３３）内へ流入した。

夫々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．２５　Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５
）を調整した。

一方、基板（７５２）としては、有機系感光体Ｄｄを用
いてあらかじめ３５℃に加熱しておき、ガス流量および
圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（７４４
）により接続しておいた低周波電源（７４１）を投入し
、電力印加電極（７３６）に１４０Ｗａｔｔの電力を周
波数８０ＫＨｚの下で印加して約２９秒間プラズマ重合
反応を行ない、基板（７５２）上に厚さ０．２μ肩の非
晶質炭化水素膜を表面保護層として形成した。

成膜完了後は電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室
（７３３）内を充分に排気した後、真空を破り、本発明
感光体を取り出した。

以上のようにして得られた非晶質炭化水素膜につき有機
定量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は
炭素原子と水素原子の総量に対して５２原子％、さらに
オージェ分析から、含有されるリン原子の里は全構成原
子に対し約１８００原子ｐｐｍあった。

また、非晶質炭素膜のイオン化ポテンシャルは５．８５
ｅｖであった。

なお表１に上記非晶質炭素膜保護層の作製条件等をまと
めた。

以上のようにして得られた感光体を実施例１と同様の評
価を行い、結果を表２にまとめた。

実施例５ 本発明にかかわる製造装置を用いて、第１図に示したご
とき、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順
に設けた本発明感光体を作製した。

第５図に示すグロー放電分解装置において、反応装置（
７３３）の内部を１０−”Ｔｏｒｒ程度の高真空にした
後、第１および第７調節弁（７０７，７２５）を解放し
、第１タンク（７０１）よりアルゴンガスを、出力圧１
．０に９／ｃｍ”の下で、および第１容器（７１９）よ
りジメチルシロキサン（東しシリコーン社製；０．６５
Ｃ３）ガスを第１温調器（７２２）温度１４５℃のもと
で、第１、第７流量制御器（７１３）、（７２８）内へ
流入させた。

そして、各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流
量を２００　ｓｅｃｍ、ジメチルシロキサンガスの流量
を３Ｑｓｃｃｍとなるように設定して、途中混合器（７
３１）を介して、主管（７３２）より反応室（７３３）
内へ流入した。

夫々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
がＱ、３Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整しな。

一方、基板（７５２）としては、有機系感光体Ｅｄを用
いて、常温のままで、ガス流量および圧力が安定した状
態で、予め接続選択スイッチ（７４４）により接続して
おいた低周波電源（７４１）を投入し、電力印加電極（
７３６）に１３０Ｗａｔｔの電力を周波数１５０ＫＨｚ
の下で印加して約３８秒間プラズマ重合反応を行ない、
基板（７５２）上に厚さ０．３μ肩の非晶質炭化水素膜
を表面保護層として形成した。

成膜完了後は電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室
（７３３）内を充分に排気した後、真空を破り、本発明
感光体を取り出した。

以上のようにして得られた非晶質炭化水素膜につき有機
定量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は
炭素原子と水素原子の総量に対して５３原子％であった
。

また、非晶質炭素膜のイオン化ポテンシャルは５．７１
ｅＶてあった。

なお表１に上記非晶質炭素膜保護層の作製条件等をまと
めた。

以上のようにして得られた感光体を実施例１と同様の評
価を行い、結果を表２にまとめた。

比較例６ 本発明にかかわる製造装置を用いて、第３図に示したご
とき、導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層、表面保護
層をこの順に設けた感光体を作製した。

第５図に示すグロー放電分解装置において、反応装置（
７３３）の内部を１０−’Ｔｏｒｒ程度の高真空にした
後、第１、第２、第３調節弁（７０７゜７０８．７０９
）を解放し、第１タンク（７０１）より水素ガス、第２
タンク（７０２）よりブタジェンガス、第３タンク（７
０３）よりシランガスを、夫々出力圧１０に９／ｃｍ″
の下で第１、第２、第３流量制御器（７１３）、（７１
４）、（７１５）内へ流入させた。そして、各流量制御
器の目盛を調整して、水素ガスの流量を２００　ｓｅｃ
ｍ、ブタジェンガスの流量を５　Ｑ　５ｃｃｒｏ、シラ
ンガスの流量を８０ｓｃｃｍとなるように設定して、途
中混合器（７３１）を介して、主管（７３２）より反応
室（７３３）内へ流入した。

夫々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．５Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。

一方、基板（７５２）としては、有機系感光体ｃｄを用
いてあらかじめ５０℃に加熱しておき、ガス流量および
圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（７４４
ンにより接続しておいた高周波電源（７３９）を投入し
、電力印加電極（７３６）に２００Ｗａｔｔの電力を周
波数２００ＫＨｚの下で印加して約１分１５秒間プラズ
マ重合反応を行ない、基板（７５２）上に厚さ０，３μ
ｌの非晶質炭化水素膜を表面保護層として形成した。

成膜完了後は電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室
（７３３）内を充分に排気した後、真空を破り、感光体
を取り出した。

以上のようにして得られた非晶質炭化水素膜につき有機
定量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は
炭素原子と水素原子の総量に対して２８．５原子％、さ
らにオージェ分析から含有されるケイ素原子の量は全構
成原子に対し約２３．８原子％であった。

また、非晶質炭素膜のイオン化ポテンシャルは５．３９
ｅＶであった。

なお表１に上記非晶質炭素膜保護層の作製条件等をまと
めた。

以上のようにして得られた感光体を実施例１と同様の評
価を行い、結果を表２にまとめた。

（以下、余白） 発明の効果 有機系感光層の上に、有機系感光層の有するイオン化ポ
テンシャルよりも０．１ｅＶ以上大きいイオン化ポテン
シャルを有する非晶質炭素膜表面保護層から構成される
感光体は帯電性に優れ、繰り返し使用しても残留電位の
上昇が起こらない。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は本発明感光体の模式的断面図を示す。 第４図および第５図は本発明に係わる感光体表面保護層
製造用装置の一例を示す。 図中の記号は以下の通りである。 （１）・・・導電性基体 （２）・・・有機系感光層 （３）・・・表面保護層 （４）・・・電荷発生物質 （５）・・・電荷輸送物質 （６）・・・電荷輸送層 （７）・・・電荷発生層 （７０１）〜（７０６）・・・タンク （７０７）〜（７１２）・・・調節弁 （７１３）〜（７１８＞・・・流量制御器（７２８）〜
（７３０）・・・流量制御器（７１９）〜（７２１）・
・・容器 （７２２）〜（７２４）・・・加熱器 （７３１）・・・混合器 （７３２）・・・主管 （７３３）・・・反応室 （７３４）・・・配管加熱器 （７３６）・・・電力印加電極 （７３７）・・・電極加熱器 （７３８）・・・高周波電力用整合器 （７３９）・・・高周波電源 （７４０）・・・低周波電力用整合器 （７４１）・・・低周波電源 （７４２）・・・ローパスフィルタ （７４３）・・・直流電源 （７４４）・・・接続選択スイッチ （７４５）・・・圧力調節弁 （７４６）・・・排気系選択弁 （７４７）・・・拡散ポンプ （７４８）・・・油回転ポンプ （７４９）・・冷却除外装置 （７５０）・・・メカニカルブースターポンプ（７５１
）・・反応室加熱器 （７５２）・・・基板 （７５３）・・・除外装置 特許出願人　ミノルタカメラ株式会社 代　理　人　弁理士　青　山　葆　ほか２名第１　回 第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、少なくとも、導電性基板上に有機系感光層および表
   面保護層をこの順に有する正帯電感光体において、該表
   面保護層が非晶質炭素膜からなり、該非晶質炭素膜が有
   機系感光層のイオン化ポテンシャルより０．１ｅＶ以上
   大きいイオン化ポテンシャルを有することを特徴とする
   正帯電感光体。