JPS6397963A - 感光体とその製造方法 - Google Patents

感光体とその製造方法

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JPS6397963A
JPS6397963A JP24508286A JP24508286A JPS6397963A JP S6397963 A JPS6397963 A JP S6397963A JP 24508286 A JP24508286 A JP 24508286A JP 24508286 A JP24508286 A JP 24508286A JP S6397963 A JPS6397963 A JP S6397963A
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大澤 以清
Shuji Iino
修司 飯野
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英雄 保富
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は有機系感光層上に表面保護層を形成してなる感
光体並びにその製造方法に関する。
従来の技術 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、感光体にも様々な材料が開発され実用化き
れてきた。中でも近年、これまで用いられてぎたセレン
、セレン砒素、セレンテルル、硫化カドミウム、或は、
酸化亜鉛等の感光体に比べて衛生面で優れ、しかも高感
度を有する事から、有機系感光体の発展が著しい。
一般に、有機系感光層の作製に用いられる材料としては
、電荷発生に寄与する光導電性材料として、例えば、フ
タロシアニン系顔料、アゾ系顔料、ペリレン系顔料等が
用いられ、電荷輸送に寄与する電荷輸送性材料として、
例えば、トリフェニルメタン化合物、ト、リフェニルア
ミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ピラ
ゾリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール
化合物等が用いられ、これらを分散塗布せしめるための
結着材料のとして、例えば、ポリエステル、ポリビニル
ブチラール、ポリカーボネイト、ボリアリレート、スチ
レンアクリル等の(54脂が用いられる。
しかしながら、これらの材料を用いて作製きれた有機系
感光層は何れも表面硬度が低く、通常JIS−に一54
00規格による鉛筆硬度にして、高々5B乃至4B程度
の硬度を有するに過ぎない。従って、この様な感光層を
そのまま感光体として使用すると、帯電能及び光感度面
で優れた性能を有するにも係わらず、複写機内での実使
用においては、転写紙、クリーニング部材、現性剤、等
との摩擦による表面摩耗により、あるいは、ペーパージ
ャム時及びその復帰の際の人為的操作等により苛酷な表
面接触をしばしば受け、表面に傷を受けやすい。この傷
は複写画像上に所謂白抜けとして現れ、画像品位を著し
く低減し、感光体寿命を短かくする。ざらに、前記表面
摩耗は感光層を徐々に削り取るため感光層膜厚が低下し
、ひいては所望の帯M電位が得られなくなり、感光体寿
命を短かくする。これらの感光層表面に対する摩耗作用
は、複写機の設計によっても変化するが、通常、有機系
感光層の寿命は、数万枚乃至高々10万枚の複写に耐え
得る程度のものであこのような欠点を解消するためには
、有機系感光層の表面に高硬度を有する保護層を設け、
複写機内での接触部材、あるいは、人為的接触に対する
耐摩耗性を改善する方法が有効である。
しかしながら、有機系感光層表面を保護層で被覆するに
は、無作為な膜材料及び成膜手法を用いる事はできず、
次の如き必要項目の全てを満足する膜を用いる必要があ
り、膜材料並びにその成膜手法には、創意工夫が必要と
される。
第一に、可視光透過率が高く有機系感光層への入射光量
が充分に確保でき、該感光層が本来有する優れた感度を
損なわない膜である事が必要とされる。第二に、複写機
内での実使用において、表面に傷を受けない硬膜である
事が必要とされる。
第三に、有機系感光層との接着性に優れ、複写機内での
実使用において、機械的接触、あるいは、温湿度の変化
等により剥離しない膜である事が必要とされる。第四に
、無害である事が必要とされる。第五に、有機系感光層
との電気的整合性に優れ、残留電位の発生、あるいは、
複数枚複写時に前の画像が次の画像にポジまたはネガ像
として現れる所謂メモリー現象の発生、ざらには、不整
合界面での電荷の横流れによる所謂画像流れの発生に寄
与しない膜である事が必要とされる。換言すれば、有機
系感光層との電気的整合性に優れた表面保護層である事
が必要とされる。第六に、複写機が実使用きれる環境下
において、特に、高温高湿条件下において、画像品位を
損なわず、所謂画像流れを発生しない膜である事が必要
とされる。
さらに、前記有機系感光層材料においては、耐熱性に乏
しい化合物が殆どであり、保護膜形成時に高温加熱状態
を経る事ができない。例えば、熱硬化性樹脂を塗布し、
加熱硬化すれば、3H乃至6H程度の硬膜が得られるが
、加熱処理により感光層が変性し、好適な感度が得られ
なくなる。従って、有機系感光層材料の種類によっても
異なるが、保護膜形成温度は常温が最も好ましく、僅か
に加熱するにしても、その最高温度は高々100℃まで
に抑える必要がある。
このような見地から、有機系感光体の表面保護層に関し
ては幾つかの膜材料、並びに、その成膜手法が開示きれ
、電子写真においては重要な技術分野となっている。
一つの手法に、塗布法がある。例えば、特開昭53−2
3636号公報には、有機系を始め種々の感光層上に、
特定の珪素化合物を塗布し硬化させた絶縁層を設けた感
光体が開示されている。特開昭54−17732号公報
には、フタロシアニン光導電体を樹脂中に分散した感光
層表面に、ニトロセルロースを主成分とするオーバーコ
ート層(表面保護層)を塗布乾燥により設けた感光体が
開示されている。特開昭57−89764号公報には、
ポリウレタン樹脂を始めとする樹脂を、有機系を始め種
々の感光層上に、塗布硬化させた感光体が開示されてい
る。
これらの開示は、有機系感光体の表面に再度有機化合物
を塗布し硬化する事により前記問題点を解決しようとす
るものである。
しかし、一般に、塗布法により有機系化合物を表面保護
層として形成した場合においては、2H乃至3H程度の
鉛工硬度が得られるに過ぎず、表面硬度は必ずしも充分
とはいえない。
別の手法として、特開昭57−89765号公報には、
有機系感光層上に、金属酸化物もしくは金属ハロゲン化
物の真空蒸着膜を表面保護層として形成した感光体が開
示されている。
この開示も、常温付近におけるオーバーコート膜形成手
法を用いて前記問題点を解決しようとする目的では、本
発明の意と同一であるが、材料組成及び成膜手法共に、
本発明とは本質的に異なる。また、一般に、真空蒸着法
により表面保護層として形成した場合においても、2H
乃至3H程度の鉛筆硬度が得られるに過ぎず、表面硬度
は必ずしも充分とはいえない。
また一方、プラズマ有機重合膜自体は古くより知られて
おり、例えばジエン(M、5hen)及びベル(A、t
、Bel l)らにより、1973年発行のジャーナル
・オブ・アプライド・ポリマー・サイエンス(Jour
nal  of  Applied  Polymer
  5cience)第17巻の885〜892頁にお
いて、あらゆる有機化合物のガスから作製され得る事が
、また、同著者らにより、1979年のアメリカンケミ
カルソサエティ  (Amer 1can  Chem
icat  5ociety)発行によるプラズマボリ
マライゼーション(Plasma  Polymer 
i zat i on)の中でもその成膜性が論じられ
ている。しかしながら、その応用については言及されて
いない。
感光体への具体的な応用例としては、例えば、特開昭5
9−214859号公報に、アモルファスシリコン感光
体の表面に保護層として有機炭化水素モノマーをプラズ
マ重合きせて5μm程度の膜を形成させる技術が開示さ
れている。特開昭60−61761号公報には、アモル
ファスシリコン感光体の表面保護層として、500人〜
2μmのダイヤモンド状炭素薄膜を設けた感光体が開示
され、透光性の面から膜厚は2μm以下が好ましいとき
れてている。特開昭60−249115号公報には、0
.05〜5μm程度の無定形炭素または硬質炭素膜をア
モルファスシリコン感光体の表面保護層として用いる技
術が開示され、膜厚が5μmを越えると感光体活性に悪
影響が及ぶとされている。特開昭61−94056号公
報には、アモルファスシリコンの表面に保護層として、
疎水性に優れたアモルファスカーボン膜を用いたアモル
ファスシリコン感光体が開示されている。
これらの開示は、何れも、高硬度ではあるが耐湿性に乏
しく所謂画像流れを発生しやすいアモルファスシリコン
感光体表面を、炭素系の膜で被覆し、高圓時の画像品位
を改善しようとするものである。また、無機系感光体で
あるアモルファスシリコン感光体は、元来、耐熱性に富
むため、高温において膜形成を行なうものである。従っ
て、本発明とは、本質的に異なる。
また、特開昭50−20728号公報には、ポリビニル
カルバゾール−セレン系感光体の表面に保護層としてグ
ロー放電重合によるポリマー膜を0.1〜1μm設けた
感光体が開示きれている。
特開昭51−46130号公報には、ポリビニルカルバ
ゾール系電子写真感光体の表面にグロー放電重合を行な
って06001〜3μmのポリマー膜を形成せしめた電
子写真感光板が開示されている。
これらの開示は、何れも、液体現像法を採用する場合の
耐溶剤性の向上、もしくは、帯電極性の調整を目的とし
たものであり、高硬度化による有機系感光体の耐摩耗性
の改善については、組成並びに成膜手法を始め、全く言
及されておらず、本発明とは本質的に異なる。
本発明は、これらの開示とは本質的に異なぢ材料組成に
より、前述の必要項目を全て満足しながら、前記問題点
を解決するものである。
本発明者らは、表面硬度の改善による長寿命型有機感光
体を検討する中で、グロー放電法により形成されるプラ
ズマ有機重合膜が、透光性、並びに、硬度に優れ、表面
保護層として有効で有る事を見出した。ざらに、該プラ
ズマ有81重合膜中にハロゲン原子を含有せしめる事に
より、接着性、電気的整合性、並びに、耐環境性に侵れ
た表面保護層が得られる事を見出した。そして、該プラ
ズマ有機重合膜の形成を100℃以下の低温において行
なう事により、有(幾系感光層の変性を伴う事なく成膜
し得る事を見出した。
本発明は、これらの新たなる知見を用いる事により、有
機系感光層に好適な表面保護層を設け、耐摩耗性に優れ
、長寿命化された有は系感光体とその製造方法を提供す
るものである。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、従来の有機系感光層が有する本質的な問題点
、即ち、感光層表面が低硬度であるため耐摩耗性に乏し
く、寿命が短かい点を解決するために、表面保護層を設
けた新規有機系感光体に関する。さらに、本発明は、無
作為な保護膜の形成においては往々にして阻害される、
次の如き必要項目を充分に満足し得る表面保護層を有す
る、新規有機系感光体とその製造方法に関する。
第一に、可視光透過率が高く有機系感光層への入射光量
が充分に確保でき、該感光層が本来有する優れた感度を
損なわない表面保護層である事が必要ときれる。第二に
、複写(浅内での実使用において、表面に傷を受けない
高硬度を有する表面保護層である事が必要とされる。第
三に、有(幾系感光層との接着性に優れ、複写機内での
実使用において、機械的接触、あるいは、温湿度の変化
等により剥離しない表面保護層である事が必要とされる
。第四に、無害な表面保護層である事が必要とされる。
第五に、有機系感光層との電気的整合性にほれ、残留電
位の発生、あるいは、複数枚複写時に前の画像が次の画
像にポジまたはネガ像として現れる所謂メモリー現象の
発生、さらには、不整合界面での電荷の横流れによる所
謂画像流れの発生に寄与しない表面保護層である事が必
要とされる。換言すれば、有機系感光層との電気的整合
性に優れた表面保護層である事が必要とされる。
第六に、複写機が実使用される環境下において、特に、
高温高湿条件下において、画像品位を損なわず、所謂画
像流れを発生しない表面保護層である事が必要とされる
。さらに、有機系感光層材料においては、耐熱性に乏し
い化合物が殆どであり、保護膜形成時に高温加熱状態を
経る事ができない事から、常温乃至100℃において、
表面保護層を形成する必要がある。
本発明は、以上を解決し得る感光体とその製造方法を提
供するものである。
問題点を解決するための手段 即ち、本発明は導電性基板上に有機系感光層と表面保護
層とをこの順に設けた有機系感光体において、該表面保
護層は、少なくともハロゲン原子を含有するプラズマ有
機重合膜である事を特徴とする感光体に関する(以下、
本発明によるハロゲン原子を含有するプラズマ有機重合
膜をa−C:X膜と称する)。ざらに、該プラズマ有機
重合膜は、基板温度100℃以下で形成される事を特徴
とする感光体のMU方法に関する。
本発明においては、グロー放電法によりa −C:X膜
を形成するためのガスとして、原料ガスとしては炭化水
素ガス及びハロゲン化合物ガスが用いられ、キャリアー
ガスとしては一般に常用されろ水素ガス或はアルゴンガ
ス等が用いられる。
該炭化水素ガスの相状態は常温常圧において必ずしも気
相で有る必要は無く、加熱或は減圧等により溶融、蒸発
、昇華等を経て気化しIJるものてあれば、液相でも固
相でも使用可能である。該炭化水素としては、例えば、
飽和炭化水素、不飽和炭化水素、脂環式炭化水素、芳香
族炭化水素、等が用いられる。
使用可能な炭化水素には種類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソブタン
、イソペンタン、ネオペンタン、イソヘキサン、ネオヘ
キサン、ジメチルブタン、メチルヘキサン、エチルペン
タン、ジメチルペンタン、トリブタン、メチルへブタン
、ジメチルヘキサン、トリメチルペンタン、イソナノン
、等が用いられる。不飽和炭化水素としては、例えば、
エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブテン、ペンテ
ン、メチルブテン、ヘキセン、テトラメチルエチレン、
ヘプテン、オクテン、アレン、メチルアレン、ブタジェ
ン、ペンタジェン、ヘキサジエン、シクロペンタジェン
、オシメン、アロシメン、ミルセン、ヘキサトリエン、
アセチレン、ジアセチレン、メチルアセチレン、ブチン
、ペンチン、ヘキシン、ヘプチン、オクチン等が用いら
れる。脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパ
ン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、
シクロへブタン、シクロオクタン、シクロプロペン、シ
クロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロ
ヘプテン、シクロオクテン、リモネン、テルビルン、フ
エランドレン、シルベストレン、ツエン、カレン、ピネ
ン、ポルニレン、カンフエン、フェンチェン、シクロブ
タンチエン、トリシクレン、ビサボレン、ジンギベレン
、クルクメン、フムレン、カジネンセスキベニヘン、セ
リネン、カリオフィレン、サンタレン、セドレン、カン
ホレン、フィロクラテン、ボドカルブレン、ミレン等が
泪いられる。芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、ヘミメリテン、プソイドクメ
ン、メシチレン、プレニテン、イソジュレン、ジュレン
、ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチ
ルベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ビ
フェニル、テルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェ
ニルメタン、ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフ
タリン、テトラリン、アントラセン、フェナントレン等
が用いられる。
本発明におけるa−C:X膜中に含まれる水素原子の量
は、炭素原子と水素原子の総量に対して概ね30乃至6
0原子%程度である。
本発明におけるa−C:X膜中に含まれる水素原子の量
は、成膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化し、
水素量が低くなる場合としては、例えば、基板温度を高
くする、圧力を低くする、原料炭化水素ガスの希釈率を
低くする、水素含有率の低い原料ガスを用いる、印加電
力を窩くする、交番電界の周波数を低くする、交番電界
に重畳せしめた直流電界強度を高くする、等の場合が挙
げられる。
本発明においては炭化水素ガスの他に、a−C:X1f
J中に少なくともハロゲン原子を添加するためにハロゲ
ン化合物ガスが使用きれる。ここでハロゲン原子とは、
弗素原子、塩素原子、臭素原子、及び沃素原子を云う。
該ハロゲン化合物ガスにおける相状態は常温常圧におい
て必ずしも気相で有る必要はなく、加熱或は減圧等によ
り溶融、蒸発、昇華等を経て気化し得るものであれば、
液相でも固相でも使用可能である。ハロゲン化合物とし
ては、例えば、弗素、塩素、臭素、沃素、弗化水素、弗
化塩素、弗化臭素、弗化沃素、塩化水素、塩化臭素、塩
化沃素、臭化水素、臭化沃素、沃化水素、等の無機化合
物、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルキル金属、ハ
ロゲン化アリール、ハロゲン化珪酸エステル、ハロゲン
化スチレン、ハロゲン化ポリメチレン、ハロゲン置換オ
ルガノシラン、へロホルム、等の有機化合物が用いられ
る。
ハロゲン化アルキルとしては、例えば、フッ化メチル、
塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、フッ化エチル
、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、フッ化プロ
ピル、塩化プロピル、臭化プロピル、ヨウ化プロピル、
フッ化ブチル、塩化ブチル、臭化ブチル、ヨウ化ブチル
、フッ化アミル、塩化アミル、臭化アミル、ヨウ化アミ
ル、フッ化ヘキシル、塩化ヘキシル、臭化ヘキシル、ヨ
ウ化ヘキシル、フッ化へブチル、塩化へブチル、臭化へ
ブチル、ヨウ化へブチル等が用いられる。ハロゲン化ア
ルキル金、萬としては、例えば、塩化ジメチルアルミニ
ウム、臭化ジメチルアルミニウム、塩化ジエチルアルミ
ニウム、ヨウ化ジエチルアルミニウム、二塩化メチルア
ルミニウム、三臭化メチルアルミニウム、ニョウ化エチ
ルアルミニウム、塩化トリメチルスズ、臭化トリメチル
スズ、ヨウ化トリメチルスズ、塩化トリエチルスズ、臭
化トリエチルスズ、二塩化ジメチルスズ、三臭化ジメチ
ルスズ、ニョウ化ジメチルスズ、二塩化ジエチルスズ、
三臭化ジエチルスズ、ニョウ化ジエチルスズ、三塩化メ
チルスズ、三臭化メチルスズ、三ヨウ化メチルスズ、三
臭化エチルスズ、等が用いられる。ハロゲン化アリール
としては、例えば、フルオルベンゼン、クロルベンゼン
、ブロムベンゼン、ヨードベンゼン、クロルトルエン、
ブロムトルエン、クロルナフタリン、ブロムナフタリン
、等が用いられる。ハロゲン化珪酸エステルとしては、
例えば、モノメトキシトリクロルシラン、ジメトキシジ
クロルシラン、トリメトキシモノクロルシラン、モノエ
トキシトリクロルシラン、ジェトキシジクロルシラン、
トリエトキシモノクロルシラン、モノアリロキシトリク
ロルシラン、ジアリロキシジクロルシラン、トリアリロ
キシモノクロルシラン、等が用いられる。
ハロゲン化スチレンとしては、例えば、クロルスチレン
、ブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン
、等が用いられる。ハロゲン化ポリメチレンとしては、
例えば、塩化メチレン、臭化メチレン、ヨウ化メチレン
、塩化エチレン、臭化エチレン、ヨウ化エチレン、塩化
トリメチレン、臭化トリメチレン、ヨウ化トリメチレン
、ジ塩化ブタン、ジ臭化ブタン、ショウ化ブタン、ジ塩
化ペンタン、ジ臭化ペンタン、ショウ化ペンタン、ジ塩
化ヘキサン、ジ臭化ヘキサン、ショウ化ヘキサン、ジ塩
化へブタン、ジ臭化へブタン、ショウ化へブタン、ジ塩
化オクタン、ジ臭化オクタン、ショウ化オクタン、ジ塩
化ノナン、ジ臭化ノナン、等が用いられる。ハロゲン置
換オルガノシランとしては、例えば、クロルメチルトリ
メチルシラン、ジクロルメチルトリメチルシラン、ビス
クロルメチルジメチルシラン、トリスクロルメチルメチ
ルシラン、クロルエチルトリエチルシラン、ジクロルエ
チルトリエチルシラン、ブロムメチルトリメチルシラン
、ヨードメチルトリメチルシラン、ビスヨードメチルジ
メチルシラン、クロルフェニルトリメチルシラン、ブロ
ムフェニルトリメチルシラン、クロルフェニルトリエチ
ルシラン、ブロムフェニルトリエチルシラン、ヨードフ
ェニルトリエチルシラン、等が用いられる。ハロホルム
としては、例えば、フルオロホルム、クロロホルム、ブ
ロモホルム、ヨードホルム、等が用いられる。
本発明において、表面保護層中に、ハロゲン原子が含ま
れない場合には、例えば、オージェ分析でハロゲン原子
が検出きれないような場合には、有機系感光層との電気
的不整合性から、残留電位の発生、或は、複数枚複写時
に前の画像が次の画像にポジまたはネガ像として現れる
所謂メモリー現象の発生、ざらには、不整合界面での電
荷の横流れによる所謂画像流れの発生、等を誘発しやす
い。また、有機系感光層との接着性に乏しくなり、複写
機内での実使用時における機械的な力、或は、温湿度の
変化により表面保護層の剥離が発生しやすくなる。前述
の電気的不整合性は、この接着性の乏しきに起因するも
のとも考えられる。
本発明において化学的修飾物質として含有されるハロゲ
ン原子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室への
前述のハロゲン化合物ガスの導入量を増減する事により
制i卸する事が可能である。
ハロゲン化合物ガスの導入量を増大させれば、本発明に
よるa−C:X膜中へのハロゲン原子の添加量を高くす
る事が可能であり、逆にハロゲン化金物の導入量を減少
させれば、本発明によるa−COX膜中へのハロゲン原
子の添加量を低くする事が可能である。
本発明において、そのハロゲン原子含有量は、0.1原
子%以上であればよく、最大含有量は特に制限はないが
表面保護層の構造及びグロー放電という製造面から必然
的に定まる。
本発明における有機系感光層の表面保護層としてのa−
C:X膜の膜厚は、概ね0.2乃至5μmが好適である
。膜厚が0.2μmより薄い場合には、表面硬度が下地
である有機系感光層の低硬度の影響を受けやすくなり、
好適な耐久性が確保できない。また、膜厚が5μmより
厚い場合には、必ずしも好適な可視光透過率が確保でき
るとは限らず、有機系感光層が本来有する高感度性能を
損なう。
本発明における原料ガスからa−C:X膜を形成する過
程としては、原料ガスが、直流、低周波、高周波、或は
マイクロ波等を用いた所謂プラズマ法により生成される
プラズマ状態を用いて形成される。
本発明に用いる有機系感光層は、塗布法もしくは真空蒸
着の常法に従って形成される。
第1図は、導電性基板(1)上に有機系感光層(2)及
び表面保護層(3)、即ちa−C:X層、をこの順に順
次積層した、本発明による感光体の構成を示したもので
ある。尚、上記感光層は電荷発生と電荷輸送を兼ねる一
層でもよく、両機能を分離した二層でもよい。
第2図は本発明に係わる感光体の表面保護層、即ち、a
−C:X膜を形成するための製造装置を示し、図中(2
01)〜(206)は常温において気相状態にある原料
及びキャリアガスを密封した第1乃至第6タンクで、各
々のタンクは第1乃至第6調節弁(207)〜(212
)と第1乃至第6流量制御器(213)〜(218)に
接続されている。図中(219)〜(221)は常温に
おいて液相または固相状態にある原料を封入した第1乃
至第3容器で、各々の容器は気化のため、第1乃至第3
温調器(222)〜(224)により与熱可能であり、
ざらに各々の容器は第7乃至第9調節弁(225)〜(
227)と慎7乃至第9流量制御器(228)〜(23
0)に接続されている。これらのガスは混合器(231
)で混合きれた後、主管(232)を介して反応室(2
33)に送り込まれる。途中の配管は、常温において液
相または固相状態にあった原料化合物が気化したガスが
、途中で凝結しないように、適宜配置された配管加熱器
(234)により、与熱可能とされている。反応室内に
は接地電極(235)と電力印加電極(236)が対向
して設置され、各々の電極は電極加熱器(237)によ
り与熱可能ときれている。電力印加電極(236)には
、高周波電力用整合器(238)を介して高周波電源(
239L低周波電力用整合器(240)を介して低周波
型a (241) 、ローパスフィルタ(242)を介
して直流電源(243)が接続されており、接続選択ス
イッチ(244)により周波数の異なる電力が印加可能
とされている。反応室(233)内の圧力は圧力制御弁
(245)により調整可能であり、反応室(233)内
の減圧は、排気系選択弁(246)を介して、拡散ポン
プ(247) 、油回転ポンプ(248) 、或は、冷
却除外装置(249) 、メカニカルブースターポンプ
(250) 、油回転ポンプ(248)により行なわれ
る。排ガスについては、ざらに適当な除外装置(253
)により安全無害化した後、大気中に排気される。これ
ら排気系配管に就いても、常温において液相または固相
状態にあった原料化合物が気化したガスが、途中で凝結
しない様に、適宜配置された配管加熱器(234)によ
り、与熱可能とされている。反応室(233)も同様の
理由から反応室加熱器(251)により与熱可能とされ
、内部に配された電極上には、予め有機系感光層が導電
性基体上に形成きれた基板(252)が、設置される。
第2図において基板(252)は接地電極(235)に
固定して配きれているが、電力印加電極(236)に固
定して配されても良く、ざらに双方に配きれても良い。
第3図は本発明に係わる感光体の表面保護層、即ち、a
−C:X膜を形成するための製造装置の別の一形態を示
し、反応室(333)内部の形態以外は、第2図に示し
た本発明に係わる製造装置と同様である。即ち、第2図
における200i台の図中番号を、第3図においては3
00番台に置き換えて解すればよい。
第3図において、反応室(333)内部には、第2図に
おける接地電極(235)を兼ねた、予め有機系感光層
が導電性基体上に形成された円筒形の基板(352)が
設置きれ、内側には電極加熱器(337)が配きれてい
る。基板(352)周囲には同じく円筒形状をした電力
印加電極(336)が配され、外側には電極加熱器(3
37)が配されている。有機系感光層が形成されている
基板(352)は、外部より駆動モータ(354)を用
いて自転可能となっている。
反応室は、拡散ポンプにより予め10−4乃至1O−6
Torr程度にまで減圧し、真空度の確認と装置内部に
吸着したガスの脱着を行なう。同時に電極加熱器により
、電極並びに電極に固定して配された基板を、必要に応
じ、所定の温度まで昇温する。この時、有(皮糸感光層
の熱変成を防止するために、基板温度は100℃以下(
常温乃至100℃)に温度設定される。次いで、第1乃
至第6タンク及び第1乃至第3容器から適宜炭化水素並
びにハロゲン化合物よりなる原料ガスを第1乃至第9流
量制御器を用いて定′tC量化しながら反応室内に導入
し、圧力調節弁により反応室内を一定の減圧状態に保つ
。ガス流量が安定化した後、接続選択スイッチにより、
例えば高周波電源を選択し、電力印加電極に高周波電力
を投入する。両電極間には放電が開始され、時間と共に
基板上に固相の膜が形成される。反応時間により膜厚を
制御し、所定の膜厚に達したところで放電を停止し、a
−C:X膜を本発明による感光体の表面保護層として得
る。このa−C:X膜は、本発明により生成したハロゲ
ン原子を含有するプラズマ有機重合膜である。以上の過
程により、本発明による表面保護層を有する感光体を得
る。
以下、実施例を挙げながら、本発明を説明すまず、有機
系感光層A−Dの作製を行なった。
以下、樅50×横50×厚き3mmの平板状アルミニウ
ム基板上に形成したしたものを補助記号pを用いて有機
系感光層Ap−Dpと称し、直径80mmX長き330
mmの円筒状アルミニウム基板上に形成したものを補助
記号dを用いて有機系感光層Ad−Ddと称する。
有機系感光層Aの作製 ジスアゾ顔料としてクロロジアンブルー(CDB)Ig
、ポリエステル樹脂(東洋紡社製V−200)Ig、及
び、シクロへキサノン98gの混合液をサンドブライン
ダ−で13時間分散した。
この分散液を樅50X横50×厚さ3mmの平板状アル
ミニウム基板上にバーコーターを用いて乾燥後の膜厚が
0.3μmとなるように塗布し、乾燥して電荷発生層を
形成した。
次いで、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−ジフェ
ニルヒドラゾン(DEH)5g、及び、ポリカーボネイ
ト(量大化成社製に一130○)5gをTHF30gに
溶解させ、この溶液を電荷発生層上に乾燥後膜厚が15
μPとなるように塗布し、乾燥させて電荷輸送層を形成
し、有機系感光層Apを得た。
同様の工程にて、ディッピングを用いて、直径80mm
x長さ330mmの円筒状アルミニウム基板上に有機系
感光層Adを形成した。
比較例1 得られた有機系感光層Apを常用のカールソンプロセス
の中でコロナ放電を用いて一600Vに帯電し、白色光
半減光景(以下、E1/2と称する)を測定したところ
、2.0ルツクス・秒、残留電位は5Vであった。また
、J IS−に−5400規格による鉛筆硬度を」り定
したところ、約5Bの表面硬度を有していた。
また、得られた有機系感光層Adについても同様の性能
が認められたが、有機系感光層Adについてはざらに、
実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったところ、A
4複写紙約5千枚の耐刷試験にて1μmの膜厚減少が観
察された。従って、静電特性には潰れるものの、耐久性
には乏しい事が理Mざねた。
有機系感光層Bの作製 電荷輸送層形成用のポリカーボネイトをメチルメタクリ
レートPMMA(三菱レーヨン社製BR−85)に代え
る事以外は有機系感光層A p%Adと同様にして有機
系感光層Bp、Bdを作製した。
比較例2 得られた有機系感光NBpを常用のカールソンプロセス
の中でコロナ放電を用いて一600Vに市電し、E1/
2を測定したところ、6.2ルツクス・秒、残留電位は
12Vであった。また、JIS−に−5400規格によ
る鉛筆硬度を測定したところ、約Bの表面硬度を有して
いた。
また、得られた有機系感光層Bdについても同様の性能
が認められたが、有機系感光層Bdについてはざらに、
実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったところ、A
4ff1写紙約8千枚の耐刷試験にて1μmの膜厚減少
が11!察された。従って、静電特性には優れるものの
、耐久性には乏しし1事が理解された。
有機系感光層Cの作製 ポリカーボネイトをボリアリレート (ユニチカ社裂U
−4000)に代える事以外は有機系感光層、Ap、A
dと同様にして有機系感光層cpScdを作製した。
比較例3 得られた有機系感光層Cpを常用のカールソンプロセス
の中でコロナ放電を用いて一600Vに帯電し、E1/
2を測定したところ、2.3ルツクス・秒、残留電位は
8■てあった。また、JIS−に−5400規格による
鉛筆硬度を測定したところ、約5Bの表面硬度を有して
いた。
また、得られた有機系感光層Cdについても同様の性能
が認められたが、有機系感光層Cdについてはざらに、
実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったところ、A
4複写紙約4千枚の耐刷試験にて1μmの膜厚減少が観
察された。従って、静電特性には優れるものの、耐久性
には乏しい事が理解された。
宣」系感光層りの作製 ポリカーボネイトをポリエステル(東洋紡社製V−20
0)に代える事以外は有機系感光層Ap、Adと同様に
して有機系感光層Dp、Ddを作製した。
比較例4 得られた有機系感光層Dpを常用のカールソンプロセス
の中でコロナ放電を用いて一600■に帯電し、El/
2を測定したところ、2.2ルツクス・秒、残留電位は
7■であった。また、JIS−に−5400規格による
鉛筆硬度をとり定したところ、約5Bの表面硬度を有し
ていた。
また、得られた有機系感光層Ddについても同様の性能
が認められたが、有機系感光層Ddについてはざらに、
実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったところ、A
4複写紙約5千枚の耐刷試験にて1μmの膜厚減少が観
察された。従って、静電特性には優れるものの、耐久性
には乏しい事が理解された。
去旋刺上 本発明に係わる製造装置を用いて、第4図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。
第2図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(233)の内部を1O−6T○rr程度の高真空
にした後、第1、第2、及び第3調節弁(207,20
8、及び209)を解放し、第1タンク(201)より
水素ガス、第2タンク(202)よりエチレンガス、及
び第3タンク(203)より四弗化炭素ガスを各々出力
圧1゜0Kg/cm”の下で、第1、第2、及び第3流
量制御器(213,214、及び215)内へ流入させ
た。そして各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの
流量を40secm、エチレンガスの流量を30sec
m、及び四弗化炭素ガスの流量を30secmとなるよ
うに設定して、途中混合器(231)を介して、主管(
232)より反応室(233)内へ流入した。各々の流
量が安定した後に、反応室(233)内の圧力が0.5
T○rrとなるように圧力調節弁(245)を調整した
。一方、基板(252)としては、有機系感光層A p
を用いて、予め100℃に加熱しておき、ガス流量及び
圧力か安定した状態で、予め接続選択スイッチ(244
)により接続しておいた高周波電源(239)を投入し
、電力印加電極(236)に200Wattの電力を周
波数13.56MHzの下で印加して約10分間プラズ
マ重合反応を行ない、基板(252)上に厚ざ0.32
μmのac:Xiを電荷輸送層として形成した。
成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室(233)内を充分に排気した後、真空を破り本発明
感光体を取り出した。
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して約47原子%、ざらに
オージェ分析から、含有されるハロゲン原子、即ち、弗
素原子の量は全構成原子に対し約1.8原子%であった
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一600Vに帯電し、El、/2
を測定したところ、2.1ルツクス・秒、残留電位は6
Vであった。この事から、本発明感光体は、有機系感光
層が本来有する優れた感度性能を損わない表面保護層を
有する感光体である事が理解された。また、J IS−
に−5400規格による鉛筆硬度を測定したところ、7
H以上の表面硬度を有しており、表面硬度が著しく改善
される事が理解された。
実施例2 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。
第3図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
袋ff1(333)の内部をl 0−6To r r程
度の高真空にした後、第1、第2、及び第3調節弁(3
07,308、及び309)を解放し、第1タンク(3
01)より水素ガス、第2タンク(302)よりエチレ
ンガス、及び第3タンク(303)より四弗化炭素ガス
を各々出力圧1゜0Kg/cm2の下で、第1、第2、
及び第3流量制御器(313,314、及び315)内
へ流入きせた。そして各流量制御器の目盛をFA整して
、水素ガスの流量を120secm、エチレンガスの流
量を90secm、及び四弗化炭素ガスの流量を65s
ecmとなるように設定して、途中混合器(331)を
介して、主管(332)より反応室(333)内へ流入
した。各々の流量が安定した後に、反応室(333)内
の圧力が0.8Torrとなるように圧力調節弁(34
5)を調整した。一方、基板(352)としては、有機
系感光層Adを用いて、予め75℃に加熱しておき、ガ
ス流量及び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッ
チ(344)により接続しておいた高周波電源(339
)を投入し、電力印加電極(336)に250Watt
の電力を周波数13.56MHzの下で印加して約5分
間プラズマ重合反応を行ない、基板(352)上に厚ざ
0.2μmのa−C:X膜を電荷輸送層として形成した
。成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反
応室(333)内を充分に排気した後、真空を破り、本
発明感光体を取り出した。
以上のようにして得られたac:Xll1にっきCHN
定量分析を行なったところ、含有きれる水素原子の量は
炭素原子と水素原子のP3量に対して約32原子%、ざ
らにオージェ分析から、含有きれるハロゲン金属原子、
即ち、弗素原子の量は全構成原子に対し約2.3原子%
であった。
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一600■に帯電し、E1/2を
測定したところ、2.Oルックス・秒、残留電位は8V
であった。この事から、本発明感光体は、有機系感光層
が本来有する優れた感度性能を損わない表面保護層を有
する感光体である事が理解された。また、J IS−に
−540o規格による鉛筆硬度を測定したところ、約7
Hの表面硬度を有しており、表面硬度が著しく改善され
る事が理解きれた。
また、この本発明感光体を、実際の複写機に搭載して耐
刷試験を行なったところ、A4′F!1.写紙約1o万
枚の複写においても、常時鮮明な画像が得られ、膜厚減
少は観察されず、耐久性に優れる事が理gきれた。また
、常温常湿時及び高温高湿時においても、所謂画像流れ
は観察されず、有機系感光層と表面保護層との電気的整
合性に優れ、かつ、耐環境性に優れた感光体である事が
理解された。ざらに、1o万枚の耐刷試験後も表面保護
層の剥離は認められず、有機系感光層と表面保護層との
接着性に優れた感光体である事が理解された。
実施例3 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。
第2図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(233)の内部を1O−6Torr程度の高真空
にした後、第1、第2、及び第7調節弁(207,20
8、及び225)を解放し、第1タンク(201)より
水素ガス、第2タンク(202)より四弗化炭素ガスを
各々出力圧1゜OKg/Cm2の下で、及び、第1容器
(219)よりスチレンガスを第1温調器(222)u
度35℃の下で、第1、第2、及び第7流量制御器(2
13,214、及び228)内へ流入きせた。そして各
流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を40s
ecm、四弗化炭素ガスの流量を25 CCm %及び
スチレンガスの流量を10105eとなるように設定し
て、途中混合器(231)を介して、主管(232)よ
り反応室(233)内へ流入した。各々の流量が安定し
た後に、反応室(233)内の圧力が0.257orr
となるように圧力調節弁(245)を調整した。一方、
基板(252)としては、有機系感光層Bpを用いて、
予め40℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定し
た状態で、予め接続選択スイッチ(24,4)により接
続しておいた低周波電源(241)を投入し、電力印加
電極(236)に120Wattの電力を周波数100
KH2の下で印加して約45秒間プラズマ重合反応を行
ない、基板(252)上に厚さ0.5μmのa−C:X
膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印
加を停止し、調節弁を閉じ、反応室(233)内を充分
に排気した後、真空を破り、本発明感光体を取り出した
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して約41原子%、ざらに
オージェ分析から、含有されるハロゲン原子、即ち、弗
素原子の量は全構成原子に対し約0.1原子%であった
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一600Vに帯電し、E1/2を
測定したところ、6.4ルツクス・秒、残留電位は11
Vであった。この事から、本発明感光体は、有機系感光
層が本来有する優れた感度性能を損わない表面保護層を
有する感光体である事が理解された。また、J I S
−に−5400規格による鉛筆硬度を」り定したところ
、約7Hの表面硬度を有しており、表面硬度が著しく改
善される事が理解された。
実施例4 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。
第3図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(333)の内部を10−”To r r程度の高
真空にした後、第1、第2、及び第7調節弁(307,
308、及び325)を解放し、第1タンク(301)
より水素ガス、第2タンク(302)より四弗化炭素ガ
スを各々出力圧1゜OKg/cm2の下で、及び、第1
容器(319)よりスチレンガスを第1温調器(322
)温度45℃の下で、第1、第2、及び第7流量制御器
(313,314、及び328)内へ流入させた。そし
て各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を9
0secm、四弗化炭素ガスの流量を30secm、及
びスチレンガスの流量を18secmとなるように設定
して、途中混合器(331)を介して、主管(332)
より反応室(333)内へ流入した。各々の流量が安定
した後に、反応室(333)内の圧力が0.28T。
rrとなるように圧力調節弁(345)を調整した。一
方、基板(352)としては、有機系感光層Bdを用い
て、予め35℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安
定した状態で、予め接続選択スイッチ(344)により
接続しておいた低周波電源(341)を投入し、電力印
加電極(336)に200Wattの電力を周波数15
0KH2の下で印加して約50秒間プラズマ重合反応を
行ない、基板(352)上に厚き1μmのa −C:x
膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印
加を停止し、調節弁を閉じ、反応室(333)内を充分
に排気した後、真空を破り、本発明感光体を取り出した
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の旦は炭
素原子と水素原子の総量に対して約46原子%、ざらに
オージェ分析から、含有されるハロゲン原子、即ち、弗
素原子の量は全構成原子に対し約1゜1原子%であった
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一600■に帯電し、El/2を
測定したところ、6.4ルツクス・秒、残留電位は12
Vであった。この事から、本発明感光体は、有機系感光
層が本来有する侵れた感度性能を損わない表面保護層を
有する感光体である事が理解された。また、J I S
−に−5400規格による鉛筆硬度を」]j定したとこ
ろ、7H以上の表面硬度を有しており、表面硬度が著し
く改善される事が理解された。
また、この本発明感光体を、実際の複写機に搭載して耐
刷試験を行なったところ、A4複写紙約10万枚の複写
においても、常時鮮明な画像が得られ、膜厚減少は観察
きれず、耐久性に優れる事が理解きれた。また、常温常
湿時及び高温高湿時においても、所謂画像流れは観察さ
れず、有機系感光層と表面保護層との電気的整合性に優
れ、かつ、耐環境性に優れた感光体である事が理解され
た。ざらに、10万枚の耐刷試験後も表面保護層の剥離
は認められず、有機系感光層と表面保護層との接着性に
優れた感光体である事が理解された。
実施例5 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。
第2図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(233)の内部を10−6To r r程度の高
真空にした後、第1、第2、及び第7調節弁(207,
2,08、及び225)を解放し、第1タンク(201
)より水素ガス、第2タンク(202)よりブタジェン
ガスを各々出力圧1゜0Kg/cm2の下で、及び、第
1容器(219)よりLH,LH,5H−オクタフルオ
ロペンチルメタクリレートガスを第1温調器(222)
温度120℃の下で、第1、第2、及び第7流量制御器
(213,214、及び228)内へ流入させた。そし
て各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を6
0secm、ブタジェンガスの流量を60secm、及
びLH,LH,5H−オクタフルオロペンチルメタクリ
レートガスの流量を25scamとなるように設定して
、途中混合器(231)を介して、主管(232)より
反応室(233)内へ流入した。各々の流量が安定した
後に、反応室(233)内の圧力が0.5Torrとな
るように圧力調節弁(245)を調整した。一方、基板
(252)としては、有機系感光F+Cpを用いて、予
め45℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した
状態で、予め接続選択スイッチ(244)により接続し
ておいた低周波電源(239)を投入し、電力印加電極
(236)に100Wattの電力を周波数100KH
2の下で印加して約25秒間プラズマ重合反応を行ない
、基板(252)上に厚き0.7μmのa−C:X膜を
電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印加を
停止し、調節弁を閉じ、反応室(233)内を充分に排
気した後、真空を破り、本発明感光体を取り出した。
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して約36原子%、ざらに
オージェ分析から、含有されるハロゲン原子、即ち、弗
素原子の量は全構成原子に対し約19原子%であった。
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一600Vに帯電し、El/2を
測定したところ、2.5ルツクス・秒、残留電位はIO
Vであった。この事がら、本発明感光体は、有機系感光
層が本来有する優れた感度性能を損わない表面保護層を
有する感光体である事が理解された。また、JIS−に
−5400規格による鉛筆硬度をト11定したところ、
7H以上の表面硬度を有しており、表面硬度が著しく改
善きれる事が理解された。
実施例6 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如と
、導電性基板、有(次系感光層、表面保護層をこの順に
設けた本発明感光体を作製した。
第3図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(333)の内部を1O−6Torr程度の高真空
にした後、第1、第2、及び第7調節弁(307,30
8、及び325)を解放し、第1タンク(301)より
水素ガス、第2タンク(302)よりブタジェンガスを
各々出力圧1゜0Kg/cm2の下で、及び、第1容器
(319)よりLH,LH,5H−オクタフルオロペン
チルメタクリレートガスを第1温調器(222)温度1
45℃の下で、第1、第2、及び第7流量制御器(21
3,214、及び228)内へ流入させた。そして各流
量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を200s
ecm、ブタジェンガスの流量を30secm、及びL
H,IH,5H−オクタフルオロペンチルメタクリレー
トガスの流量を40secmとなるように設定して、途
中混合器(331)を介して、主管(332)より反応
室(333)内へ流入した。各々の流量が安定した後に
、反応室(333)内の圧力が0.7T。
rrとなるように圧力調節弁(345)を調整した。一
方、基板(352)としては、有(夷系感光層Cdを用
いて、予め30℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が
安定した状態で、予め接続選択スイッチ(344)によ
り接続しておいた低周波電源(341)を投入し、電力
印加電極(336)に250Wattの電力を周波数1
20KH2の下で印加して約30秒間プラズマ重合反応
を行ない、基板(252)上に厚ざ2.1μmのa−C
:X膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電
力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室(333)内を
充分に排気した後、真空を破り、本発明感光体を取り出
した。
以上のようにして得られたa−C:X膜にっきCHN定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して約38原子%、ざらに
オージェ分析から、含有されるハロゲン原子、即ち、弗
素原子の量は全構成原子に対し約23原子%であった。
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一600■に帯電し、El/2を
測定したところ、2.3ルツクス・秒、残留電位は9V
であった。この事から、本発明感光体は、有機系感光層
が本来有する優れた感度性能を損わない表面保護層を有
する感光体である事が理解された。また、J IS−に
−54oO規格による鉛箪硬度を測定したところ、7H
以上の表面硬度を有しており、表面硬度が著しく改善さ
れる事が理解された。
また、この本発明感光体を、実際の複写機に搭載して耐
刷試験を行なったところ、A4B写紙約10万枚の複写
においても、常時鮮明な画像が得られ、膜厚減少は観察
されず、耐久性に優れる事が理解された。また、常温常
温時及び高温高湿時においても、所謂画像流れは観察き
れず、有機系感光層と表面保護層との電気的整合性に優
れ、かつ、用環境性に優れた感光体である事が理解され
た。ざらに、1O万枚の耐刷試験後も表面保護層の′I
XIJ離は認められず、有機系感光層と表面保護層との
接着性に優れた感光体である事が理解された。
実施例ヱ 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。
第2図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(233)の内部を1O−6Torr程度の高真空
にした後、第1、第2、及び第7調節弁(207,20
8、及び225)を解放し、第1タンク(201)より
水素ガス、第2タンク(202)より塩素ガスを各々出
力圧1.0Kg70m2の下で、及び、第1容器(21
9)よりミルセンガスを第1温調器(222)温度14
5℃の下で、第1、第2、及び第7流量制御器(213
,214、及び228)内へ流入させた。そして各流量
制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を40sec
m、塩素ガスの流量を2secml及びミルセンガスの
流量を15secmとなるように設定して、途中混合器
(231)を介して、主管(232)より反応室(23
3)内へ流入した。各々の流量が安定した後に、反応室
(233)内の圧力が0.23Torrとなるように圧
力調節弁(245)を調整した。一方、基板(252)
としては、有機系感光層Dpを用いて、常温のままで、
ガス流量及び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイ
ッチ(244)により接続しておいた低周波電源(24
1)を投入し、電力印加電極(236)に150Wat
tの電力を周波数80KHzの下で印加して約20秒間
プラズマ重合反応を行ない、基板(252)上に厚さ0
.2μmのa−C:X膜を電荷輸送層として形成した。
成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室(233)内を充分に排気した後、真空を破り、本発
明感光体を取り出した。
以上のようにして得られたa−C:XiにつきCHN定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して約56原子%、きらに
オージェ分析から、含有されるハロゲン原子、即ち、塩
素原子の量己よ全構成原子に対し約3原子%であった。
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一600■に帯電し、E1/2を
と(I定したところ、2.3ルツクス・秒、残留電位は
7■であった。この事から、本発明感光体は、有機系感
光層が本来有する優れた感度性能を損わない表面保護層
を有する感光体である事が理解された。また、J IS
−に−54Q○規格による鉛筆硬度を測定したところ、
7H以上の表面硬度を有しており、表面硬度が著しく改
善される事が理解きれた。
去旅伝旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。
第3図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(333)の内部を10−6To r r程度の高
真空にした後、第1、第2、及び第7調節弁(307,
308、及び325)を解放し、第1タンク(301)
よりアルゴンガス、第2タンク(302)より塩素ガス
を各々出力圧1.0Kg/cm2の下で、及び、第1容
器(319)よりミルセンガスを第1温調器(322)
温度145℃の下で、第1、第2、及び第7流量制御器
(313,314、及び328)内へ流入させた。そし
て各流量制譚器の目盛を調整して、アルゴンガスの流量
を40secm、塩素ガスの流量を8secms及びミ
ルセンガスの流量を30secmとなるように設定して
、途中混合器(331)を介して、主管(332)より
反応室(333)内へ流入した。各々の流量が安定した
後に、反応室(333)内の圧力が0.25Torrと
なるように圧力調節弁(345)を調整した。一方、基
板(352)としては、有機系感光層Ddを用いて、常
温のままで、ガス流量及び圧力が安定した状態で、予め
接続選択スイッチ(344)により接続しておいた低周
波電源(341)を投入し、電力印加電tM(336)
に130Wattの電力を周波数150KHzの下で印
加して約20秒間プラズマ重合反応を行ない、基板(3
52)上に厚ざ0.3μmのa−C:X膜を電荷輸送層
として形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し、調
節弁を閉じ、反応室(333)内を充分に排気した後、
真空を破り、本発明感光体を取り出した。
以上のようにして得られたa−C:X膜につきCHN定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して約55原子%、ざらに
オージェ分析から、含有されるハロゲン金属原子、即ち
、塩素原子の量は全構成原子に対し約2.8原子%であ
った。
特性: 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一60o■に帯電し、E1/2を
測定したところ、2.2ルツクス・秒、残留電位は8V
であった。この事から、本発明感光体は、有機系感光層
が本来有する儂れた感度性能を損わない表面保護層を有
する感光体である事が理解された。また1、JIS−に
−5400規格による鉛筆硬度を測定したところ、7H
以上の表面硬度を有しており、表面硬度が著しく改善さ
れる事が理解された。
また、この本発明感光体を、実際の複写機に搭載して耐
刷試験を行なったところ、A4複写紙約10万枚の複写
においても、常時鮮明な画像が得られ、膜厚減少は観察
されず、耐久性に優れる事が理解された。また、常温常
湿時及び高温高湿時においても、所謂画像流れは観察き
れず、有機系感光層と表面保護層との電気的整合性に優
れ、かつ、耐環境性に優れた感光体である事が理解きれ
た。ざらに、10万枚の耐刷試験後も表面保護層の剥離
は認められず、有機系感光層と表面保護層との接着性に
優れt4.光体である事が理解きれた。
比鷲勿互 四弗化炭素ガスを導入しない事以外は、実施例2と同様
にして感光体を作製した。得られた感光体の表面層をオ
ージェ分析により元素分析を行なったところ、弗素原子
は検出されなかっt:。
この感光体を複写機に搭載し、実写を試みたところ、表
面層が、複写機内部材との接触により、感光体全面にわ
たり剥離した。
この事から、本発明における、ハロゲン原子添加による
接着性確保の効果が理解される。
比較例6 四弗化炭素ガスを導入しない事以外は、実施例4と同様
にして感光体を作製した。得られた感光体の表面層をオ
ージェ分析により元素分析を行なったところ、弗素原子
は検出されなかった。
この感光体を複写機に搭載し、実写を試みたところ、所
謂画像流れ状態の画像しか得られず、有機系感光層と表
面保護層との電気的整合性に乏しい事が?I!察された
この事から、本発明における、ハロゲン原子添加による
電気的整合性確保の効果が理Mされる。
比較例7 基板温度を150℃とする事以外は、実施例3と同様に
して感光体を作製した。得られた感光体のE1/2をト
り定したところ、30ルツクス・秒以上の光量を必要と
し、感光体感度が著しく損なわれる事か認められた。
この事から、本発明において基板温度が100℃以下で
感光体作製が行なわれる事の効果が理解される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明感光体の構成を示す図面、第2図乃至第
3図は本発明に係わる感光体の製造装置を示す図面であ
る。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)導電性基板上に有機系感光層とその上に表面保護
    層とを設けた有機系感光体において、該表面保護層は、
    少なくともハロゲン原子を含有するプラズマ有機重合膜
    であることを特徴とする感光体。
  2. (2)導電性基板上に、有機系感光層を形成する工程と
    、該感光層上にグロー放電法により該導電性基板の温度
    を100℃以下に保った状態で少なくともハロゲン原子
    を含有するプラズマ有機重合膜からなる表面保護層を形
    成する工程とを含むことを特徴とする感光体の製造方法
JP61245082A 1986-10-14 1986-10-14 感光体とその製造方法 Expired - Lifetime JPH07122757B2 (ja)

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DE3751651T DE3751651T2 (de) 1986-10-14 1987-10-13 Elektrophotographisches lichtempfindliches Element, das einen Überzug enthält
US07/107,541 US4882256A (en) 1986-10-14 1987-10-13 Photosensitive member having an overcoat layer comprising amorphous carbon
EP87114939A EP0264104B1 (en) 1986-10-14 1987-10-13 Electrophotographic photosensitive member having an overcoat layer

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57105744A (en) * 1980-12-23 1982-07-01 Canon Inc Photoconductive member
JPS59113447A (ja) * 1982-12-20 1984-06-30 Canon Inc 電子写真用光導電部材
JPS6388560A (ja) * 1986-10-02 1988-04-19 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体の製造方法

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JPS57105744A (en) * 1980-12-23 1982-07-01 Canon Inc Photoconductive member
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JPS6388560A (ja) * 1986-10-02 1988-04-19 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体の製造方法

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