JPS6397961A - 感光体とその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 童泉よ五利里分野 本発明は有機系感光層上に表面保護層を形成してなる感
光体とその製造方法に一関する。

従来Ω扶逝 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、感光体にも様々な材料が開発され実用化き
れてきた。中でも近年、これまで用いられてきたセレン
、セレン砒素、セレンテルル、硫化カドミウム、或は、
酸化亜鉛等の感光体に比べて衛生面で優れ、しかも高感
度を有する事から、有機系感光体の発展が著しい。

一般に、有機系感光層の作製に用いられる材料としては
、電荷発生に寄与する光導電性材料として、例えば、フ
タロシアニン系顔料、アゾ系顔料、ペリレン系顔料等が
用いられ、電荷輸送に寄与する電荷輸送性材料として、
例えば、トリフェニルメタン化合物、トリフェニルアミ
ン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ピラゾ
リン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化
合物等が用いられ、これらを分散塗布せしめるための結
着材料のとして、例えば、ポリエステル、ポリビニルブ
チラール、ポリカーボネイト、ボリアリレート、スチレ
ンアクリル等の樹脂が用いられる。

しかしながら、これらの材料を用いて作製きれた有機系
感光層は何れも表面硬度が低く、通常ＪＩＳ−に一５４
００規格による１９Ｍ硬度にして、高々５Ｂ乃至４Ｂ程
度の硬度を有するに過ぎない。従って、この様な感光層
をそのまま感光体として使用すると、帯電能及び光感度
面で優れた性能を有するにも係わらず、複写機内での実
使用においては、転写紙、クリーニング部材、現像剤、
等との摩擦による表面摩耗により、あるいは、ベーパー
ジャム時及びその復帰の際の人為的操作等により苛酷な
表面接触をしばしば受け、表面に傷を受けやすい。この
傷は複写画像上に所謂白抜けとして現れ、画像品位を著
しく低減し、感光体寿命を短かくする。ざらに、前記表
面摩耗は感光層を徐々に削り取るため感光層膜厚が低下
し、ひいては所望の帯電電位が得られなくなり、感光体
寿命を短かくする。これらの感光層表面に対する摩耗作
用は、複写機の設計によっても変化するが、通常、有機
系感光層の寿命は、数万枚乃至高々１０万枚の複写に耐
え得る程度のものである。

このような欠点をＭ消するためには、有機系感光層の表
面に高硬度を有する保護層を設け、複写機内での接触部
材、あるいは、人為的接触に対する耐摩耗性を改善する
方法が有効である。

しかしながら、有機系感光層表面を保護層で被覆するに
は、無作為な膜材料及び成膜手法を用いる事はできず、
次の如き必要項目の全てを満足する膜を用いる必要があ
り、膜材料並びにその成膜手法には、創意工夫が必要と
される。

第一に、可視光透過率が高く有機系感光層への入射光量
が充分に確保でき、該感光層が本来有する優れた感度を
損なわない膜である事が必要とされる。第二に、複写機
内での実使用において、表面に傷を受けない硬膜である
事が必要とされる。

第三に、有機系感光層との接着性に優れ、複写機内での
実使用において、機械的接触、あるいは、温湿度の変化
等により剥離しない膜である事が必要とされる。第四に
、無害である事が必要とされる。第五に、有機系感光層
との電気的整合性に優れ、残留電位の発生、あるいは、
複数枚複写時に前の画像が次の画像にポジまたはネガ像
として現れる所謂メモリー現象の発生、ざらには、不整
合界面での電荷の横流れによる所謂画像流れの発生に寄
与しない膜である事が必要とされる。換言すれば、有機
系感光層との電気的整合性に優れた表面保護層である事
が必要とされる。第六に、複写機が実使用される環境下
において、特に、高温高湿条件下において、画像品位を
損なわず、所謂画像流れを発生しない膜である事が必要
とされる。

ざらに、前記有機系感光層材料においては、耐熱性に乏
しい化合物が殆どであり、保護膜形成時に高温加熱状態
を経る事ができない。例えば、熱硬化性樹脂を塗布し、
加熱硬化すれば、３Ｈ乃至６Ｈ程度の硬膜が得られるが
、加熱処理により感光層が変性し、好適な感度が得られ
なくなる。従って、有機系感光層材料の種類によっても
異なるが、保護膜形成温度は常温が最も好ましく、僅か
に加熱するにしても、その最高温度は高々１００℃まで
に抑える必要がある。

このような見地から、有機系感光体の表面保護層に関し
ては幾つかの膜材料、並びに、その成膜手法が開示され
、電子写真においては重要な技術分野となっている。

一つの手法に、塗布法がある。例えば、特開昭５３−２
３６３６号公報には、有機系を始め種々の感光層上に、
特定の珪素化合物を塗布し硬化させた絶縁層を設けた感
光体が開示されている。特開昭５４−１７７３２号公報
には、フタロシアニン光導電体を樹脂中に分散した感光
層表面に、ニトロセルロースを主成分とするオーバーコ
ート層（表面保護層）を塗布乾燥により設けた感光体が
開示されている。特開昭５７−８９７６４号公報には、
ポリウレタン樹脂を始めとする樹脂を、有機系を始め種
々の感光層上に、塗布硬化させた感光体が開示されてい
る。

これらの開示は、有機系感光層の表面に再度有機化合物
を塗布し硬化する事により前記問題点を解決しようとす
るものである。

しかし、一般に、塗布法により有機系化合物を表面保護
層として形成した場合においては、２Ｈ乃至３Ｈ程度の
鉛筆硬度が得られるに過ぎず、表面硬度は必ずしも充分
とはいえない。

別の手法として、特開昭５７−８９７６５号公報には、
有機系感光層上に、金属酸化物もしくは金属ハロゲン化
物の真空蒸着膜を表面保護層として形成した感光体が開
示されている。

この開示も、常温付近におけるオーバーコート膜形成手
法を用いて前記問題点を解決しようとする目的では、本
発明の意と同一であるが、材料組成及び成膜手法共に、
本発明とは本質的に異なる。また、一般に、真空蒸着法
により表面保護層として形成した場合においても、２Ｈ
乃至３Ｈ程度の鉛筆硬度が得られるに過ぎず、表面硬度
は必ずしも充分とは言えない。

また一方、プラズマ有機重合膜自体は古くより知られて
おり、例えばジエン（Ｍ、５ｈｅｎ）及びベル（Ａ、ｔ
、Ｂｅｌ　１）らにより、１９７３年発行のジャーナル
・オブ・アプライド・ポリマー・サイエンス（Ｊｏｕｒ
ｎａｌ　　ｏｆ　　Ａｐｐｌｉｅｄ　　Ｐｏｌｙｍｅｒ
　　５ｃｉｅｎｃｅ）第１７巻の８８５〜８９２頁にお
いて、あらゆる有機化合物のガスから作製され得る事が
、また、同著者らにより、１９７９年のアメリカンケミ
カルソサエティー　（Ａｍｅｒ　１ｃａｎ　　Ｃｈｅｍ
ｉｃａｌ　　５ｏｃｉｅｔｙ）発行によるプラズマボリ
マライゼーション（Ｐｌａｓｍａ　　Ｐｏｌｙｍｅｒ　
１ｚａｔ　１ｏｎ）の中でもその成膜性が論じられてい
る。しかしながら、その応用については言及されていな
い。

感光体への具体的な応用例としては、例えば、特開昭５
９−２１４８５９号公報に、アモルファスシリコン感光
体の表面に保護層として有機炭化水素モノマーをプラズ
マ重合きせて５μｍ程度の膜を形成きせる技術が開示さ
れている。特開昭６０−６１７６１号公報には、アモル
ファスシリコン感光体の表面保護層として、５００人〜
２μｍのダイヤモンド状炭素薄膜を設けた感光体が開示
され、透光性の面から膜厚は２μｍ以下が好ましいとさ
れてている。特開昭６０−２４９１１５号公報には、０
．０５〜５μｍ程度の無定形炭素または硬質炭素膜をア
モルファスシリコン感光体の表面保護層として用いる技
術が開示され、膜厚が５μｍを越えると感光体活性に悪
影響が及ぶとされている。特開昭６１−９４０５６号公
報には、アモルファスシリコンの表面に保護層として、
疎水性に優れたアモルファスカーボン膜を用いたアモル
ファスシリコン感光体が開示されている。

これらの開示は、何れも、高硬度ではあるが耐湿性に乏
しく所謂画像流れを発生しゃすいアモルファスシリコン
感光体表面を、炭素系の膜で被覆し、高温時の画像品位
を改善しようとするものである。また、無機系感光体で
あるアモルファスシリコン感光体は、元来、耐熱性に富
むため、高温において膜形成を行なうものである。従っ
て、本発明とは、本質的に異なる。

また、特開昭５０−２０７２８号公報には、ポリビニル
カルバゾール−セレン系感光体の表面に保護層としてグ
ロー放電重合によるポリマー膜を０．１〜１μｍ設けた
感光体が開示されている。

ｆ１Ｍ昭５１−４６１３０号公報には、ポリビニルカル
バゾール系電子写真感光体の表面にグロー放電重合を行
なって０．００１〜３μｍのポリマー膜を形成せしめた
電子写真感光板が開示されている。

これらの開示は、何れも、液体現像法を採用する場合の
耐溶剤性の向上、もしくは、帯電極性の調整を目的とし
たものであり、高硬度化による有機系感光体の耐摩耗性
の改善については、組成並びに成膜手法を始め、全く言
及されておらず、本発明とは本質的に異なる。

本発明は、これらの開示とは本質的に異なる材料組成に
より、前述の必要項目を全て満足しながら、前記問題点
を解決するものである。

本発明者らは、表面硬度の改善による長寿命型有機感光
体を検討する中で、グロー放電法により形成されるプラ
ズマ有機重合膜が、透光性、並びに、硬度にほれ、表面
保護層として有効で有る事を見出した。ざらに、該プラ
ズマ有機重合膜中に窒素原子を含有せしめる事により４
、接着性、電気的整合性、並びに、耐環境性に漬れた表
面保護層が得られる事を見出した。そして、該プラズマ
有機重合膜の形成を１００℃以下の低温において行なう
事により、有機系感光層の変性を伴う事なく成膜し得る
事を見出した。

本発明は、これらの新たなる知見を用いる事により、有
機系感光層に好適な表面保護層を設け、耐摩耗性に優れ
、長寿命化された有機系感光体とその製造方法を提供す
るものである。

発明が解決しようとする問題点 本発明は、従来の有機系感光層が有する本質的な問題点
、即ち、感光層表面が低硬度であるため耐摩耗性に乏し
く、寿命か短かい点を解決するために、表面保護層を設
けた新規有機系感光体に関する。ざらに、本発明は、無
作為な保護膜の形成においては往々にして阻害きれる、
次の如き必要項目を充分に満足し得る表面保護層を有す
る、新規有機系感光体とその製造方法に関する。

第一に、可視光透過率が高く有機系感光層への入射光量
が充分竪確保でき、該感光層が本来有する優れた感度を
損なわない表面保護層である事が必要とされる。第二に
、複写機内での実使用において、表面に傷を受けない高
硬度を有する表面保護層である事が必要とされる。第三
に、有機系感光層との接着性に優れ、複写機内での実使
用において、機械的接触、あるいは、温湿度の変化等に
より剥離しない表面保護層である事が必要とされる。第
四に、無害な表面保護層である事が必要とされる。第五
に、有機系感光層との電気的整合性に優れ、残留電位の
発生、あるいは、複数枚複写時に前の画像が次の画像に
ポジまたはネガ像として現れる所謂メモリー現象の発生
、ざらには、不整合界面での電荷の横流れによる所謂画
像流れの発生に寄与しない表面保護層である事が必要と
される。換言すれば、有機系感光層との電気的整合性に
優れた表面保護層である事が必要とされる。

第六に、複写機が実使用きれる環境下において、特に、
高温高湿条件下において、画像品位を損なわず、所謂画
像流れを発生しない表面保護層である事が必要ときれる
。ざらに、有機系感光層材料においては、耐熱性に乏し
い化合物が殆どであり、保護膜形成時に高温加熱状態を
経る事ができない事から、常温乃至１００℃において、
表面法ｉｆｆ層を形成する必要がある。

本発明は、以上を解決し得る感光体とその製造方法を提
供するものである。

４ｒ点を解決するための手段 即ち、本発明は導電性基板上に有機系感光層と表面保護
層とをこの順に設けた有機系感光体において、該表面保
護層は、少なくとも窒素原子を含有するプラズマ有機重
合膜である事を特徴とする感光体に関する（以下、本発
明による窒素原子を含有するプラズマ有機重合膜をａ−
Ｃ：Ｘ膜と称する）。ざらに、該プラズマ有機重合膜は
、基板温度１００℃以下で形成される事を特徴とする感
光体の製造方法に関する。

本発明においては、グロー放電法によりａ　−Ｃ：Ｘ膜
を形成するためのガスとして、原料ガスとしては炭化水
素ガス及び窒素化合物ガスが用いられ、キャリアーガス
としては一般に常用される水素ガス或はアルゴンガス等
が用いられる。

該炭化水素ガスの相状態は常温常圧において必ずしも気
相で有る必要は無く、加熱或は減圧等により溶融、蒸発
、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固相
ても使用可能である。該炭化水素としては、例えば、飽
和炭化水素、不飽和炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族
炭化水素、等が用いられる。

使用可能な炭化水素には種類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソブタン
、イソペンタン、ネオペンタン、イソヘキサン、ネオヘ
キサン、ジメチルブタン、メチルヘキサン、エチルペン
タン、ジメチルペンタン、トリブタン、メチルへブタン
、ジメチルヘキサン、トリメチルペンタン、イソナノン
、等が用いられる。不飽和炭化水素としては、例えば、
エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブテン、ペンテ
ン、メチルブテン、ヘキセン、テトラメチルエチレン、
ヘプテン、オクテン、アレン、メチルアレン、ブタジェ
ン、ペンタジェン、ヘキサジエン、シクロペンタジェン
、オシメン、アロシメン、ミルセン、ヘキサトリエン、
アセチレン、ジアセチレン、メチルアニリン、ブチン、
ペンチン、ヘキシン、ヘプチン、オクチン等が用いられ
る。脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン
、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シ
クロへブタン、シクロオクタン、シクロプロペン、シク
ロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘ
プテン、シクロオクテン、リモネン、テルビルン、フエ
ランドレン、シルベストレン、ツエン、カレン、ピネン
、ボルニレン、カンフエン、フエンチェン、シクロブタ
ンチエン、トリシクレン、ビサボレン、ジンギベレン、
クルクメン、フムレン、カジネンセスキベニヘン、セリ
ネン、カリオフィレン、サンタレン、セドレン、カンホ
レン、フィロクラデン、ボドカルブレン、ミレン等が用
いられる。芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン
、トルエン、キシレン、ヘミメンテン、プソイドクメン
、メシチレン、プレニテン、イソジュレン、ジュレン、
ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチル
ベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ビフ
ェニル、テルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェニ
ルメタン、ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフタ
リン、テトラリン、アントラセン、フェナントレン等が
用いられる。

本発明におけるａ−Ｃ：Ｘ膜中に含まれる水素原子の量
は、炭素原子と水素原子の総量に対して概ね３０乃至６
０原子％程度である。

本発明におけるａ−Ｃ：Ｘ膜中に含まれる水素原子の量
は、成膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化し、
水素量が低くなる場合としては、例えば、基板温度を高
くする、圧力を低くする、原料炭化水素ガスの希釈率を
低くする、水素含有率の低い原料ガスを用いる、印加電
力を高くする、交番電界の周波数を低くする、交番電界
に重畳せしめた直流電界強度を高くする、等の場合が挙
げられる。

本発明においては炭化水素ガスの他に、ａ　−Ｃ′Ｘ膜
中に少なくとも窒素原子を添加するために窒素化合物ガ
スが使用きれる。該窒素化合物ガスにおける相状態は常
温常圧において必ずしも気相で有る必要は無く、加熱或
は減圧等により溶融、蒸発、昇華等を経て気化し得るも
のであれば、液相でも同相でも使用可能である。窒素化
合物としては、例えば、窒素、アンモニア、−酸化窒素
、二酸化窒素、三酸化二窒素、五酸化二窒素、三酸化窒
素、等の無機化合物、アミノ基（−ＮＨ２）　、シアノ
基（−ＣＮ）　、ニトロ基（−ＮＯ３）、ニトロソ基（
−Ｎｏ）　、イソシアン酸エステル結合（−ＮＧＯ）　
、イソチオシアン酸エステル結合（−ＮＣＳ）　、アブ
チオエーテル結合（−Ｎ＝ＮＳ−）　、ペプチド結合（
−ＣＯＮＨ−）、窒素を含む複素環、等の官能基或は結
合を有する有機化合物が用いられる。アミノ基を有する
有機化合物としては、例えば、メチルアミン、エチルア
ミン、プロピルアミン、ブチルアミン、アミルアミン、
ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、セ
チルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロ
ピルアミン、ジブチルアミン、シアミルアミン、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
トリアミルアミン、トリアミルアミン、アリルアミン、
ジアリルアミン、トリアリルアミン、シクロプロピルア
ミン、シクロブチルアミン、シクロペンチルアミン、シ
クロヘキシルアミン、アニリン、メチルアニリン、ジメ
チルアニリン、エチルアニリン、ジエチルアニリン、ト
ルイジン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、トリベ
ンジルアミン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン
、ナフチルアミン、エチレンジアミン、トリメチレンジ
アミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジア
ミン、ヘキサメチレンジアミン、ジアミノヘプタン、ジ
アミノオクタン、フェニレンジアミン、等が用いられる
。シアン基を有する有機化合物としては、例えば、アセ
トニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、バレ
ロニトリル、カプロニトリル、エナントニトリル、カプ
リロニトリル、フェラルゴンニトリル、カブリニトリル
、ラウロニトリル、パルミトニトリル、ステアロニトリ
ル、クロトンニトリル、マロンニトリル、ステアロニト
リル、ダルタルニトリル、アジポニトリル、ベンゾニト
リル、トルニトリル、シアン化ベンジルケイ皮酸ニトリ
ル、ナフトニトリル、シアンピリジン、等が用いられる
。ニトロ基を有する有機化合物としては、例えば、ニト
ロベンゼン、ニトロトルエン、ニトロキシシリン、ニト
ロナフタリン、等が用いられる。　ニトロソ基を有する
有機化合物としては、例えば、ニトロソベンゼン、ニト
ロソトルエン、ニトロソナフタリン、ニトロソクレゾー
ル、等が用いられる。イソシアン酸エステル結合を有す
る有機化合物としては、例えば、イソシアン酸メチル、
イソシアン酸エチル、イソシアン酸プロピル、イソシア
ン酸ブチル、イソシアン酸フェニル、イソシアン酸ナフ
チル、等が用いられる。イソチオシアン酸エステル結合
を有する有機化合物としては、例えば、イソチオシアン
酸メチル、イソチオシアン酸エチル、イソチオシアン酸
プロピル、イソチオシアン酸ブヂル、イソチオシアン酸
アミル、イソチオシアン酸アリル、イソチオシアン酸ア
ミル、イソチオシアン酸アミル、等が用いられる。アゾ
チオエーテル結合を有する有機化合物としては、例えば
、ベンゼンジアゾチオフェニルエーテル、クロルベンゼ
ンジアゾチオフェニルエーテル、ブロムベンゼンジアゾ
チオフェニルエーテル、ニトロベンゼンジアゾチオフェ
ニルエーテル、フェニルジアゾメルカプトナフタリン、
メトキシフェニルジアゾメルカプトナフタリン、ベンゼ
ンジアゾチオグリコール酸、ブロムベンゼンジアゾチオ
グリコール酸、ニトロベンゼンジアゾチオグリコール酸
、等が用いられる。ペプチド結合を有する有機化合物と
しては、例えば、グリセログロベブチド、グリセロイド
ペプチド、等が用いられる。複素環化合物としては、ビ
ロール、ビロリン、ピロリジン、オキサゾール、チアゾ
ール、イミダゾール、イミダシリン、イミダゾリジン、
ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾリジン、トリアゾール
、テトラゾール、ピリジン、ピペリジン、オキサジン、
モルホリン、チアジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラ
ジン、ピペラジン、トリアジン、インドール、インドリ
ン、ベンゾオキサゾール、インダゾール、ベンゾイミダ
ゾール、キノリン、シンノリン、フタラジン、フタロシ
アニン、キナゾリン、キンキサリン、カルバゾール、ア
クリジン、フエナントリジン、フェナジン、フェノキサ
ジン、インドリジン、キノリジン、キヌクリジン、ナフ
チリジン、プリン、プテリジン、アジリジン、アゼピン
、オキサジアジン、ジチアジン、ベンゾキノリン、イミ
ダゾチアゾール、等が用いられる。

本発明において、表面保護層中に、窒素原子が含まれな
い場合には、例えば、オージェ分析で窒素原子が検出さ
れないような場合には、有機系感光層との電気的不整合
性から、残留電位の発生、或は、複数枚複写時に前の画
像が次の画像にポジまたはネガ像として現れる所謂メモ
リー現象の発生、ざらには、不整合界面での電荷の横流
れによる所謂画偉流れの発生、等を誘発しやすい。また
、有機系感光層との接着性に乏しくなり、複写機内での
実使用時における機械的な力、或は、温湿度の変化によ
り表面保護層の剥離が発生しやすくなる。前述の電気的
不整合性は、この接着性の乏しきに起因するものとも考
えられる。

本発明において化学的修飾物質として含有きれる窒素原
子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室への前述
の窒素化合物ガスの導入量を増減する事により制御する
事が可能である。窒素化合物ガスの導入量を増大させれ
ば、本発明によるａ−Ｃ：Ｘ膜中への窒素原子の添加量
を高くする事が可能であり、逆に窒素化合物の導入量を
減少させれば、本発明によるａ−Ｃ：Ｘ膜中への窒素原
子の添加量を低くする事が可能である。

本発明において、その窒素原子含有量は、０゜１原子％
以上であればよく、最大含有量は特に制限はないが表面
保護層の構造及びグロー放電という製造面から必然的に
定まる。

本発明における有機系感光層の表面保護層として（７）
ａ　−Ｃ：　Ｘ′ＦＡノ膜厚は、概ね０．２乃至５μｍ
が好適である。膜厚が０．２μｍより薄い場合には、表
面硬度が下地である有機系感光層の低硬度の影響を受け
やすくなり、好適な耐久性が確保できない。また、膜厚
が５μｍより厚い場合には、必ずしも好適な可視光透過
率が確保できるとは限らず、有機系感光層が本来有する
高感度性能を損なう。

本発明における原料ガスからａ−Ｃ：Ｘ膜を形成する過
程としては、原料ガスが、直流、低周波、高周波、或は
マイクロ波等を用いた所謂プラズマ法により生成される
プラズマ状態を用いて形成される。

本発明に用いる有機系感光層は、塗布法もしくは真空蒸
着の常法に従って形成される。

第１図は、導電性基板（１）上に有機系感光層（２）及
び表面保護層（３）、即ちａ−ＣｊＸ層、をこの順に類
火積層した、本発明による感光体の構成を示したもので
ある。尚、上記感光層は電荷発生と電荷輸送とを兼ねる
一層でもよ（、両機能を分離した二層でもよい。

第２図は本発明に係わる感光体の表面保護層、即ち、ａ
−Ｃ：Ｘ膜を形成するための製造装置を示し、図中（２
０１）〜（２０６）は常温において気相状態にある原で
４及びキャリアガスを密封した第１乃至第６タンクで、
各々のタンクは第１乃至第６調節弁（２０７）〜（２１
２）と第１乃至第６流量制御器（２１３）〜（２１８）
に接続されている。図中（２１９）〜（２２１）は常温
において液相または同相状態にある原料を封入した第１
乃至第３容器で、各々の容器は気化のため、第１乃至第
３温調器（２２２）〜（２２４）により与熱可能であり
、ざらに各々の容器は第７乃至第９調節弁（２２５）〜
（２２７）と第７乃至第９流量制ｉ卸器（２２８）〜（
２３０）に接続されている。これらのガスは混合器（２
３１）で混合された後、主管（２３２）を介して反応室
（２３３）に送り込まれる。途中の配管は、常温におい
て液相または固相状態にあった原料化合物が気化したガ
スが、途中で凝結しないように、適宜配置された配管加
熱器（２３４）により、与熱可能とされている。反応室
内には接地電極（２３５）と電力印加電極（２３６）が
対向して設置され、各々の電極は電極加熱器（２３７）
により与熱可能とされている。電力印加電極（２３６）
には、高周波電力用整合器（２３８）を介して高周波電
源（２３９）、低周波電力用整合器（２４０）を介して
低周波電源（２４１）、ローパスフィルタ（２，！２）
を介して直流電源（２４３）が接続きれており、接続選
択スイッチ（２４４）により周波数の異なる電力が印加
可能ときれている。反応室（２３３）内の圧力は圧力制
御弁（２４５）により調整可能であり、反応室（２３３
）内の減圧は、排気系選択弁（２４６）を介して、拡散
ポンプ（２４７）　、油回転ポンプ（２４８）　、或は
、冷却除外装置（２４９）　、メカニカルブースターポ
ンプ（２５０）、油回転ポンプ（２４８）により行なわ
れる。排ガスについては、ざらに適当な除外装置（２５
３）により安全無害化した後、大気中に排気される。こ
れら排気系配管に就いても、常温において液相または固
相状態にあった原料化合物が気化したガスが、途中で凝
結しない襟に、適宜配置きれた配管加熱器（２３４）に
より、与熱可能ときれている。反応室（２３３）も同様
の理由から反応室加熱器（２５１）により与熱可能とさ
れ、内部に配された電極上には、予め有機系感光層が導
電性基体上に形成された基板（２５２）が、設置される
。第２図において基板（２５２）は接地Ｎ極（２３５）
に固定して配きれているが、電力印加電極（２３６）に
固定して配きれても良く、ざらに双方に配されても良い
。

第３図は本発明に係わる感光体の表面保護層、即ち、ａ
−Ｃ：Ｘ膜を形成するための製造装置の別の一形態を示
し、反応室（３３３）内部の形態以外は、第２図に示し
た本発明に係わる製造装置と同様である。即ち、第２図
における２００番台の図中番号を、第３図においては３
００番台に置き換えて解すればよい。

第３図において、反応室（３３３）内部には、第２図に
おける接地電極（２３５）を兼ねた、予め有機系感光層
が導電性基体上に形成された円筒形の基板（３５２）が
設置され、内側には電極加熱器（３３７）が配されてい
る。基板（３５２）周囲には同じく円筒形状をした電力
印加電極（３３６）が配され、外側には電極加熱器（３
３７）が配きれている。有機系感光層が形成されている
基板（３５２）は、外部より駆動モータ（３５４）を用
いて自転可能となっている。

反応室は、拡散ポンプにより予め１０−４乃至１Ｏ−６
Ｔｏｒｒ程度にまで減圧し、真空度の確認と装置内部に
吸着したガスの脱着を行なう。同時に電１厨加熱器によ
り、電極並びに電極に固定して配された基板を、必要に
応じ、所定の温度まで昇温する。この時、有機系感光層
の熱変成を防止するために、基板温度は１００℃以下（
常温乃至１００℃）に温度設定される。次いで、第１乃
至第６タンク及び第１乃至第３容器から適宜炭化水素並
びに窒素化合物よりなる原料ガスを第１乃至第９流量制
御器を用いて定流量化しながら反応室内に導入し、圧力
調節弁により反応室内を一定の減圧状態に保つ。ガス流
量が安定化した後、接続選択スイッチにより、例えば高
周波電源を選択し、電力印加電極に高周波電力を投入す
る。両電極間には放電が開始きれ、時間と共に基板上に
固相の膜が形成される。反応時間により膜厚を制御し、
所定の膜厚に達したところで放電を停止し、ａ−ＣＯＸ
膜を本発明による感光体の表面保護層として得る。この
ａ−Ｃ：Ｘ膜は、本発明により生成した窒素原子を含有
するプラズマ有機重合膜である。以上の過程により、本
発明による表面保護層を有する感光体を得る。

以下、実施例を挙げながら、本発明を説明する。

まず、有機系感光層Ａ−Ｄの作製を行なった。

以下、Ｍ５０Ｘ横５０×厚き３ｍｍの平板状アルミニウ
ム基板上に形成したしたものを補助記号ｐを用いて有機
系感光層Ａｐ−ｏｐと称し、直径８０ｍｍＸ長き３３０
ｍｍの円筒状アルミニウム基板上に形成したものを補助
記号ｄを用いて有機系感光層Ａｃ１−Ｄｄと称する。

立皿玉盟光豆ΔΩ作製 ジスアゾ顔料としてクロロジアンブルー（ＣＤＢ）Ｉｇ
、ポリエステル樹脂（東洋紡社製Ｖ−２００）１ｇ１及
び、シクロへキサノン９８ｇの混合液をサンドブライン
グーで１３時間分散した。

この分散液をｈａｓｏｘ横５０Ｘ厚ざ３ｍｍの平板状ア
ルミニウム基板上にバーコーターを用いて乾燥後の膜厚
が０．３μｍとなるように塗布し、乾燥して電荷発生層
を形成した。

次いで、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−ジフェ
ニルヒドラゾン（ＤＥＨ）５ｇ、及び、ポリカーボネイ
ト（量大化成社製に−１３００）５ｇをＴＨＦ３０ｇに
溶解させ、この溶液を電荷発生層上に乾燥後膜厚が１５
μｍとなるように塗布し、乾燥させて電荷輸送層を形成
し、有機系感光層Ａｐを得た。

同様の工程にて、ディッピングを用いて、直径８０ｍｍ
Ｘ長さ３３０ｍｍの円筒状アルミニウム基板上に有機系
感光層Ａｄを形成した。

比較皿上 得られた有機系感光層Ａｐを常用のカールソンプロセス
の中でコロナ放電を用いて−６００Ｖ　Ｌ、：帯電し、
白色光半減光量（以下、Ｅ１／２と称する）を測定した
ところ、２．０ルツクス・秒、残留電位は５Ｖであっ？
：、＊ｔ：、ＪＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度
を測定したところ、約５Ｂの表面硬度を有していた。

また、得られた有機系感光層Ａｄについても同様の性能
が認められたが、有機系感光層Ａｄについてはざらに、
実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったところ、Ａ
４複写紙約５千枚の耐刷試験にて１μｍの膜厚減少が観
察された。従って、静電特性には優れるものの、耐久性
には乏しい事が理解された。

直坦系歴光晟旦Ω作公 電荷輸送層形成用のポリカーボネイトをメチルメククリ
レートＰＭＭＡ　（三菱レーヨン社製ＢＲ−８５）に代
える１以外は有機系感光層Ａｐ１Ａｄと同様にして有機
系感光層ＢｐＳＢｄを作製した。

比較例２ 得られた有機系感光層Ｂｐを常用のカールソンプロセス
の中でコロナ放電を用いて一６００Ｖに帯電し、Ｅｌ／
２をト１定したところ、６．２ルツクス・秒、残留電位
は１２Ｖであった。また、ＪＩＳ−に−５４００規格に
よる鉛筆硬度を測定したところ、約Ｂの表面硬度を有し
ていた。

また、得られた有機系感光層Ｂｄについても同様の性能
が認められたが、有機系感光層Ｂｄについてはざらに、
実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったところ、Ａ
４複写紙約８千枚の耐刷試験にて１μｍの膜厚減少が観
察された。従って、静電特性には優れるものの、耐久性
には乏しい事が理解きれた。

有機系感光層Ｃの作製 ポリカーボネイトをボリアリレート（ユニチカ社製Ｕ−
４０００）に代える事以外は有機系感光層Ａｐｉ　Ａｄ
と同様にして有機系感光層Ｃｐ、Ｃｄを作製した。

比較例３ 得られた有機系感光層ｃｐを常用のカールソンプロセス
の中でコロナ放電を用いて一６００Ｖに帯電し、Ｅ１／
２を′Ｌ！１り定したところ、２．３ルツクス・秒、残
留電位は８■であった。また１、Ｊ　ＩＳ−に−５４０
０規格による鉛筆硬度を」り定したところ、約５Ｂの表
面硬度を有していた。

また、得られた有機系感光層Ｃｄについても同様の性能
が認められたが、有機系感光層Ｃｄについてはさらに、
実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったところ、Ａ
４複写紙約４千枚の耐刷試験にて１μｍの膜厚減少が観
察された。従って、静電特性には優れるものの、耐久性
には乏しい事が理解された。

有機系感光層りの作製 ポリカーボネイトをポリエステル（東洋紡社製Ｖ−２０
０）に代える事以外は有機系感光層Ａｐ、Ａｄと同様に
して有機系感光層ｏｐ、Ｄｄを作製した。

比較例４ 得られた有機系感光ＦＤｐを常用のカールソンプロセス
の中でコロナ放電を用いて一６００Ｖに帯電し、Ｅｌ／
２をとり定したところ、２．２ルツクス・秒、残留電位
は７Ｖであった。また、ＪＩＳ−に−５４００規格によ
る？Ｇ筆硬度を測定したところ、約５Ｂの表面硬度を有
していた。

また、得られた有機系感光層Ｄｄについても同様の性能
が認められたが、有機系感光層Ｄｄについてはざらに、
実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったところ、Ａ
４複写紙約５千枚の耐刷試験にて１μｍの膜厚減少が観
察きれた。従って、静電特性には優れるものの、耐久性
には乏しい事が理解された。

実施例１ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。

第２図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（２３３）の内部を１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程度の高真空
にした後、第１、第２、及び第３調節弁（２０７，２０
８、及び２０９）を解放し、第１タンク（２０１）より
水毒ガス、第２タンク（２０２）よりエチレンガス、及
び第３タンク（２０３）より窒米ガスを各々出力圧１．
０Ｋｇ／ｃｍ２の下で、第１、第２、及び第３流量制御
器（２１３，２１４、及び２１５）内へ流入させた。そ
して各流量制御語の目盛を調整して、水素ガスの流量を
４０ｓｅｃｍ１エチレンガスの流量を３０ｓｅｃｍ、及
び窒素ガスの流量を３０ｓｅｃｍとなるように設定して
、途中混合Ｍ（２３１）を介して、主管（２３２）より
反応室（２３３）内へ流入した。各々の流量が安定した
後に、反応室（２３３）内の圧力が０．５Ｔｏｒｒとな
るように圧力調節弁（２４５）を調整した。一方、基板
（２５２）としては、有機系感光層Ａｐを用いて、予め
１００℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した
状態で、予め接続選択スイッチ（２４４）により接続し
ておいた高周波電源（２３９）を投入し、電力印加電極
（２３６）に２００Ｗａｔｔの電力を周波数１３．５６
ＭＨｚの下で印加して約１０分間プラズマ重合反応を行
ない、基板（２５２）上に厚ｉ：０．３２μｍのａ−Ｃ
：Ｘ膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電
力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（２３３）内を
充分に排気した後、真空を破り本発明感光体を取り出し
た。

以上のようにして得られたａ−Ｃ：ＸＨ’ＡにつきＣＨ
Ｎ定量分析を行なったとこる、含有される水素原子の量
は炭素原子と水素原子の総量に対して約４７原子％、さ
らにオージェ分析から、含有される窒素原子の量は全構
成原子に対し約１，３原子％であった。

特性： 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一６００Ｖに帯電し、Ｅｌ／２を
測定したところ、２．１ルツクス・秒、残留電位は５Ｖ
てあった。この事から、本発明感光体は、有機系感光層
が本来有する憬れた感度性能を損わない表面保護層を有
する感光体である事が理解された。また、ＪＩＳ−に−
５４００規格による鉛筆硬度を測定したところ、７Ｈ以
上の表面硬度を有しており、表面硬度が著しく改善され
る事が理解きれた。

実施例２ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。

第３図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（３３３）の内部を１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程度の高真空
にした後、第１、第２、及び第３調節弁（３０７，３０
８、及び３０９）を解放し、第１タンク（３０１）より
水素ガス、第２タンク（３０２）よりエチレンガス、及
び第３タンク（３０３）より窒素ガスを各々出力圧１．
０Ｋｇ／ｃｍ２の下で、第１、第２、及び第３流量制御
器（３１３，３１４、及び３１５）内へ流入させた。そ
して各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を
１２０ｓｅｃｍｓエチレンガスの流量を９０ｓｅｃｍ１
及び窒素ガスの流量を６５ｓＣＣｍとなるように設定し
て、途中混合器（３３１）を介して、主管（３３２）よ
り反応室（３３３）内へ流入した。各々の流量が安定し
た後に、反応室（３３３）内の圧力が０．８Ｔｏｒｒと
なるように圧力調節弁（３４，５）を調整した。一方、
基板（３５２）としては、有機系感光層Ａｄを用いて、
予め７５℃に加熱しておぎ、ガス流量及び圧力が安定し
た状態で、予め接続選択スイッチ（３４４）により接続
しておいた高周波電源（３３９）を投入し、電力印加電
極（３３６）に２５０Ｗａｔｔの電力を周波数１３．５
６ＭＨｚの下で印加して約５分間プラズマ重合反応を行
ない、基板（３５２）上に厚さ０．２μｍのａ−ｃ：ｘ
ｇ＊を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力
印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（３３３）内を充
分に排気した後、真空を破り、本発明感光体を取り出し
た。

以上のようにして得られたａ−Ｃ：Ｘ膜にっきＣＨＮ定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して約３１原子％、さらに
オージェ分析から、含有される窒素原子の量は全構成原
子に対し約２．１原子％であった。

特性： 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一６００Ｖに帯電し、Ｅ１／２を
１（ｉｌｌ定したところ、２．０ルツクス・秒、残留電
位は７Ｖであった。この事から、本発明感光体は、有機
系感光層が本来有する優れた感度性能を損わない表面保
護層を有する感光体である事が理解された。また、Ｊ　
Ｉ　Ｓ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定したと
ころ、７Ｈ以上の表面硬度を有しており、表面硬度が著
しく改善される事が理解きれた。

また、この本発明感光体を、実際の複写機に搭載して耐
刷試験を行なったところ、Ａ４複写紙約１０万枚の複写
においても、常時、鮮明な画像が得られ、膜厚減少はＩ
ｔ！！察されず、耐久性に優れる事が理解された。また
、常温常湿時及び寓温高湿時においても、所謂画像流れ
は観察きれず、有機系感光層と表面保護層との電気的整
合性に優れ、かつ、耐環境性に優れた感光体である事が
理解された。ざらに、１Ｏ万枚の耐刷試験後も表面保護
層の剥離は認められず、有機系感光層と表面保護層との
接着性に優れた感光体である事が理解された。

実施例３ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。

第２図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（２３３）の内部を１０＝Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高真
空にした後、第１、第２、及び第７調節弁（２０７，２
０８、及び２２５）を解放し、第１タンク（２０１）よ
り水素ガス、第２タンク（２０２）より窒素ガスを各々
出力圧１．０Ｋｇ／ｃｍ２の下で、及び、第１容器（２
１９）よりスチレンガスを第１温調器（２２２）温度３
５℃の下で、第１、第２、及び第７流量制御器（２１３
，２１４、及び２２８）内へ流入させた。そして各流量
制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を４０ｓｅｃ
ｍ１窒素ガスの流量を３ｓｅｃｍ、及びスチレンガスの
流量を１０ｓ　ｅ　ｃｍとなるように設定して、途中混
合器（２３１）を介して、主管（２３２）より反応室（
２３３）内へ流入した。各々の流量が安定した後に、反
応室（２３３）内の圧力が０．２５Ｔｏｒｒとなるよう
に圧力調節弁（２４５）を調整した。一方、基板（２５
２）としては、有機系感光層Ｂｐを用いて、予め３５℃
に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、
予め接続選択スイッチ（２４４）により接続しておいた
低周波電源（２４１）を投入し、電力印加電極（２３６
）に１２０Ｗａｔｔの電力を周波数１００ＫＨｚの下で
印加して約４５秒間プラズマ重合反応を行ない、基板（
２５２）上に厚き０．５μｍのａ−Ｃ：Ｘ膜を電荷輸送
層として形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し、
調節弁を閉じ、反応室（２３３）内を充分に排気した後
、真空を破り、本発明感光体を取り出した。

以上のようにして得られたａ−Ｃ：Ｘ膜につきＣＨＮ定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して約４１原子％、ざらに
オージェ分析から、含有される窒素原子の量は全構成原
子に対し約０．１５原子％であった。

特性： 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一６００Ｖに帯電し、Ｅｌ／２を
測定したところ、６．２ルツクス・秒、残留電位は１１
■であった。この事から、本発明感光体は、有機系感光
層が本来有する優れた感度性能を損わない表面保護層を
有する感光体である事が理解された。また、ＪＩＳ−に
−５４００規格による鉛筆硬度を測定したところ、約７
Ｈの表面硬度を有しており、表面硬度が著しく改善きれ
る事が理解された。

衷旅斑生 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。

第３図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（３３３）の内部を１０”Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高真
空にした後、第１、第２、及び第７調節弁（３０７，３
０８、及び３２５）を解放し、第１タンク（３０１）よ
り水素ガス、第２タンク（３０２）より窒素ガスを各々
出力圧１．０Ｋｇ／ｃｍ２の下で、及び、第１容器（３
１９）よりスチレンガスを第１温調器（３２２）温度４
５℃の下で、第１、第２、及び第７流量制御器（３１３
，３１４、及び３２８）内へ流入きせた。そして各流量
制瀕器の目盛を調整して、水素ガスの流量を９０ｓｅｃ
ｍ、窒素ガスの流量を３０ｓｅｃｍ１及びスチレンガス
の流量を１８ｓｅｃｍとなるように設定して、途中混合
ｉＭ（３３１）を介して、主管（３３２）より反応室（
３３３）内へ流入した。各々の流量が安定した後に、反
応室（３３３）内の圧力が０．２８Ｔｏｒｒとなるよう
に圧力調節弁（３４５）を調整した。一方、基板（３５
２）としては、有機系感光ｉＢｄを用いて、常温のまま
で、ガス流量及び圧力が安定した状態で、予め接続選択
スイッチ（３４４）により接続しておいた低周波電源（
３４１）を投入し、電力印加電極（３３６）に２００Ｗ
ａｔｔの電力を周波数１５０ＫＨｚの下で印加して約５
０秒間プラズマ重合反応を行ない、基板（３５２）上に
厚ざ１μｍのａ−Ｃ：Ｘ膜を電荷輸送層として形成した
。成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反
応室（３３３）内を充分に排気した後、真空を破り、本
発明感光体を取り出した。

以上のようにして得られたａ−Ｃ：Ｘ膜にっきＣＨＮ定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して約４７原子％、ざらに
オージェ分析から、含有される窒素原子の量は全構成原
子に対し約１．４原子％であった。

特性： 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一６００Ｖに帯電し、Ｅｌ／２を
測定したところ、６．４ルツクス・秒、残留電位は１０
Ｖであった。この事がら、本発明感光体は、有機系感光
層が本来有する優れた感度性能を損わない表面保護層を
有する感光体である事が理解された。また、Ｊ　Ｉ　Ｓ
−に−５４００規（δによる鉛筆硬度を」１１定したと
ころ、７Ｈ以上の表面硬度を有しており、表面硬度が著
しく改善される事が理解された。

また、この本発明感光体を、実際の複写機に搭載して耐
刷試験を行なったところ、Ａ４複写紙約１０万枚の複写
においても、常時鮮明な画像が得られ、膜厚減少は観察
されず、耐久性に侵れる事が理解された。また、常温常
湿時及び高温高湿時においても、所謂画像流れは観察さ
れず、有機系感光層と表面保護層との電気的整合性に優
れ、かつ、耐環境性に優れた感光体である事が理解され
た。ざらに、１０万枚の耐刷試験後も表面保護層の剥離
は認められず、有機系感光層と表面保護層との接着性に
優れた感光体である事が理解きれた。

実施例５ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。

第２図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（２３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１、第２、及び第７調節弁（２０７，
２０８、及び２２５）を解放し、第４タンク（２０１）
より水素ガス、第２タンク（２０２）よりブタジェンガ
スを各々出力圧１゜○Ｋｇ／ｃｍ２の下で、及び、第１
容器（２１９）よりジエチルアミンガスを第１温調器（
２２２）温度４０℃の下で、第１、第２、及び第７流量
制御器（２１３，２１４、及び２２８）内へ流入させた
。そして各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流
量を６０ＳＣＣｍ、ブタジェンガスの流量を６０ｓｅｃ
ｍ、及びジエチルアミンガスの流量を２５ｓｅｃｍとな
るように設定して、途中混合器（２３１）を介して、主
管（２３２）より反応室（２３３）内へ流入した。各ノ
２の流量が安定した後に、反応室（２３３）内の圧力が
０．５Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（２４５）を調
整した。一方、基板（２５２）としては、有機系感光層
Ｃｐを用いて、予め４５℃に加熱しておき、ガス流量及
び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（２４
４，）により接続しておいた低周波電源（２３９）を投
入し、電力印加電極（２３６）に１００Ｗａｔｔの電力
を周波数１００ＫＨｚの下で印加して約２５秒間プラズ
マ重合反応を行ない、基板（２５２）上に厚さ０．５μ
ｍのａ−Ｃ：Ｘ膜を電荷輸送層として形成した。

成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室（２３３）内を充分に排気した後、真空を破り、本発
明感光体を取り出した。

以上のようにして得られたａ−Ｃ：Ｘ膜にっきＣＨＮ定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して約３６原子％、ざらに
オージェ分析から、含有される窒素原子の量は全構成原
子に対し約１８原子％であった。

特性： 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一６００Ｖに帯電Ｌ、Ｅｌ／２を
１ｆｉｊｌ定したところ、２．４ルックス・秒、残留電
位は１０■であった。この事から、本発明感光体は、有
機系感光層が本来有する優れた感度性能を損わない表面
保護層を有する感光体である事が理解きれた。また、Ｊ
ＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定したとこ
ろ、７Ｈ以上の表面硬度を有しており、表面硬度が著し
く改善される事が理解きれた。

実施例６ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。

第３図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（３３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１、第２、及び第７調節弁（３０７，
３０８、及び３２５）を解放し、第１タンク（３０１）
より水素ガス、第２タンク（３０２）よりブタジェンガ
スを各々出力圧１゜０Ｋｇ／ａｍ２の下で、及び、第１
容器（３１９）よりジエチルアミンガスを第１温調器（
２２２）温度４５℃の下で、第１、第２、及び第７流量
制御器（２１３，２１４、及び２２８）内へ流入させた
。そして各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流
量を２００Ｓ　ＣＣｒｌｌ　％ブタジェンガスの流量を
３０ｓｅｃｍ、及びジエチルアミンガスの流量を４０ｓ
ｅｃｍとなるように設定して、途中混合器（３３１）を
介して、主管（３３２）より反応室（３３３）内へ流入
した。各々の流量が安定した後に、反応室（３３３）内
の圧力が０゜７Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（３４
５）を調整した。一方、基板（３５２）としては、有機
系感光層Ｃｄを用いて、予め３０℃に加熱しておき、ガ
ス流量及び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッ
チ（３４４）により接続しておいた低周波電ｉ　（３４
１）を投入し、電力印加電極（３３６）に２５０Ｗａｔ
ｔの電力を周波数１２０ＫＨｚの下で印加して約３０秒
間プラズマ重合反応を行ない、基板（２５２）上に厚き
２．２μｍのａ　　Ｃ：ＸＨＡを電荷輸送層として形成
した。

成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室（３３３）内を充分に排気した後、真空を破り、本発
明感光体を取り出した。

以上のようにして得られたａ−Ｃ：Ｘ膜につきＣＨＮ定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して約３８原子％、ざらに
オージェ分析から、含有される窒素原子の量は全構成原
子に対し約２０原子％であった。

特性： 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一６００Ｖに帯電し、Ｅｌ／２を
測定したところ、２．３ルツクス・秒、残留電位は９■
であった。この事から、本発明感光体は、有機系感光層
が本来有する優れた感度性能を損わない表面保護層を有
する感光体である事が理解された。また、Ｊ　ＩＳ−に
−５４００規格による鉛筆硬度を測定したところ、７Ｈ
以上の表面硬度を有しており、表面硬度が著しく改善さ
れる事が理解きれた。

また、この本発明感光体を、実際の複写機に搭載して耐
刷試験を行なったところ、Ａ４複写紙約１０万枚の複写
においても、常時鮮明な画像が得られ、膜厚減少は観察
されず、耐久性に優れる事が理解された。また、常温常
湿時及び高温高温時においても、所謂画体流れはＨ察さ
れず、有機系感光層と表面保護層との電気的整合性に優
れ、かつ、耐環境性に優れた感光体である事が理解され
た。ざらに、１０万枚の耐刷試験後も表面保護層の剥離
は認められず、有機系感光層と表面保護層との接着性に
優れた感光体である事が理解きれた。

実施例７ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの頭に設
けた本発明感光体を作製した。

第２図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（２３３）の内部を１０−６Ｔ　ｏ　ｒ　ｒ程度の
高真空にした後、第１、第２、及び第７調節弁（２０７
，２０８、及び２２５）　を解放し、第１タンク（２０
１）より水素ガス、第２タンク（２０２）よりアンモニ
アガスを各々出力圧１゜ＯＫｇ／ａｍ２の下で、及び、
第１容！７（２１９）よりミルセンガスを第１扇調器（
２２２）温度１４５”Ｃの下て、第１、第２、及び第７
流量制１３ｉＩ器（２１３，２１４、及び２２８）内へ
流入きせた。そして各流量制御器の目盛を調整して、水
素ガスの流量を４０ｓｅｃｍ、アンモニアガスの流量を
０．５ｓｅｃｍｓ及びミルセンガスの流量を１５ｓｅｃ
ｍとなるように設定して、途中混合器（２３１）を介し
て、主管（２３２）より反応室（２３３）内へ流入した
。各々の流量が安定した後に、反応室（２３３）内の圧
力が０．２３Ｔ。

ｒｒとなるように圧力調節弁（２４５）を調整した。一
方、基板（２５２）としては、有機系感光層Ｄｐを用い
て、常温のままで、ガス流量及び圧力が安定した状態で
、予め接続選択スイッチ（２４４）により接続しておい
た低周波電源（２４１）を投入し、電力印加電極（２３
６）に１５０Ｗａｔｔの電力を周波数８０ＫＨｚの下で
印加して約２０秒間プラズマ重合反応を行ない、基板（
２５２）上に厚ざ０．２Ｌｔｍのａ−Ｃ：Ｘ膜を電荷輸
送層として形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し
、調節弁を閉じ、反応室（２３３）内を充分に排気した
後、真空を破り、本発明感光体を取り出した。

以上のようにして得られたａ−Ｃ：Ｘ膜にっきＣＨＮ定
量分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して約５６原子％、ざらに
オージェ分析から、含有される窒素原子の量は全構成原
子に対し約３原子％であった。

特性： 得られた本発明感光体を常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一６００Ｖに帯電し、Ｅ１／２を
測定したところ、２．３ルツクス・秒、残留電位は７■
であった。この事から、本発明感光体は、有機系感光層
が本来有する優れた感度性能を損わない表面保護層を有
する感光体である事が理解された。また、ＪＩＳ−に−
５４００規格による鉛筆硬度をＦ、１１定したところ、
７Ｈ以上の表面硬度を有しており、表面硬度が著しく改
善きれる事が理解きれた。

実流健旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示した如き
、導電性基板、有機系感光層、表面保護層をこの順に設
けた本発明感光体を作製した。

第３図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（３３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１、第２、及び第７調節弁（３０７，
３０８、及び３２５）を解放し、第１タンク（３０１）
よりアルゴンガス、第２タンク（３０２）より亜酸化窒
素ガスを各々出力圧１．０Ｋｇ／ａｍ２の下で、及び、
第１容器（３１９）よりミルセンガスを第１温調器（３
２２）温度１４５℃の下で、第１、第２、及び第７流里
制御器（３１３，３１４、及び３２８）内へ流入させた
。そして各流量制御器の目盛を調整して、アルゴンガス
の流量を４０ｓｅｃｍ、亜酸化窒素ガスの流量を８ｓｅ
ｃｍ、及びミルセンガスの流量を３０ｓｅｃｍとなるよ
うに設定して、途中混合器（３３１）を介して、主管（
３３２）より反応室（３３３）内へ流入した。各々の流
量が安定した後に、反応室（３３３）内の圧力が０．２
５Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（３４５）を調整し
た。一方、基板（３５２）としては、有機系感光層Ｄｄ
を用いて、常温のままで、ガス流量及び圧力が安定した
状態で、予め接続選択スイッチ（３４４）により接続し
ておいた低周波電源（３４１）を投入し、電力印加電極
（３３６）に１３０Ｗａｔｔの電力を周波数１５０ＫＨ
ｚの下で印加して約２０秒間プラズマ重合反応を行ない
、基板（３５２）上に厚き０．３μｍのａ−Ｃ：Ｘ膜を
電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印加を
停止し、調節弁を閉じ、反応室（３３３）内を充分に排
気した後、真空を破り、本発明感光体を取り出した。

以上のようにして得られたａ−Ｃ：ＸｖｃにつぎＣＨＮ
定景定板分析なったところ、含有される水素原子の量は
炭素原子と水素原子の総量に対して約５５原子％、ざら
にオージェ分析から、含有される窒素原子の量は全構成
原子に対し約１．８原子％てあった。

特性： 得られた本発明感光体毛常用のカールソンプロセスの中
でコロナ放電を用いて一６００Ｖに帯電し、Ｅ１／２を
測定したところ、２．２ルツクス・秒、残留電位は８ｖ
であった。この事から、本発明感光体は、有機系感光層
が本来有する優れた感度性能を損わない表面保護層を有
する感光体である事が理解されたつまた、Ｊ　ＩＳ−に
−５４００規格によるｔａ筆硬度を測定したところ、７
Ｈ以上の表面硬度を有しており、表面硬度が著しく改善
される事が理解された。

また、この水元ＦｉＡ感光体を、実際の複写機に搭載し
て耐刷試験を行なフたところ、Ａ４複写紙約１０万枚の
複写においても、常時鮮明な画像が得られ、膜厚減少は
観察されず、耐久性に優れる事が理解された。また、常
温常湿時及び高温高湿時においても、所謂画像流れは観
察きれず、有機系感光層と表面保護層との電気的整合性
に優れ、かつ、耐環境性に優れた感光体である事が理Ｍ
された。ざらに、１０万枚の耐刷試駆後も表面保護層の
剥離は認められず、有機系感光層と表面保護Ｊごとの接
着性に渣れた感光体である事が理解された。

比較例５ 窒素ガスを導入しない事以外は、実施例２と同様にして
感光体を作製した。得られた感光体の表面層をオージェ
分析により元素分析を行なったところ、窒素原子は検出
きれながった。

この感光体を複写機に搭載し、実写を試みたところ、表
面層が、複写機内部材との接触により、感光体全面にわ
たり剥離した。

この事から、本発明における、窒素原子添加による接着
性確保の効果が理解される。

比較例６ 窒素ガスを導入しない事以外は、実施例４と同様にして
感光体を作製した。得られた感光体の表面層をオージェ
分析により元素分析を行なったところ、窒素原子は検出
されなかった。

この感光体を複写機に搭載し、実写を試みたところ、所
謂画像流れ状態の画像しが得られず、有機系感光層と表
面保護層どの電気的整合性に乏しい事か観察きれた。

この事から、本発明における、窒素原子添加による電気
的整合性確保の効果が理解きれる。

比較例７ 基板温度を１５０℃とする事以外は、実施例３と同様に
して感光体を作製した。得られた感光体のＥ１／２を＆
＋１定したところ、３０ルツクス・秒以上の光量を必要
とし、感光体感度が著しく損なわれる事が認められた。

この事から、本発明において基板温度が１゜０℃以下で
感光体作製が行なわれる事の効果が理解される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明感光体の構成を示す図面、第２図乃至第
３図は本発明に係わる感光体の製造装置を示す図面であ
る。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）導電性基板上に有機系感光層とその上に表面保護
   層とを設けた有機系感光体において、該表面保護層は、
   少なくとも窒素原子を含有するプラズマ有機重合膜であ
   ることを特徴とする感光体。
2. （２）導電性基板上に、有機系感光層を形成する工程と
   、該感光層上にグロー放電法により該導電性基板の温度
   を１００℃以下に保った状態で少なくとも窒素原子を含
   有するプラズマ有機重合膜からなる表面保護層を形成す
   る工程とを含むことを特徴とする感光体の製造方法。