JPH01214891A - クリーナーブレード - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はクリーナーブレードに関する。

従来技術および課題 電子写真法において、感光体上の潜像に対して現像され
た現像剤は、転写部で普通紙に忠実に転写されることが
要求される。しかし、１００％の理想的な転写はほとん
ど不可能であるために、感光体上に残ったトナーを拭い
とるクリーニング工程が必要となる。

従来、クリーニング方法としてはブラシクリーニング、
ブレードクリーニング、ウェーブクリーニング等の種々
の方法が知られているが、複写装置の小を化、メインテ
ナンスの容易性等からブレードクリーニング方式が主流
を占めるにいたっている。

ブレードクリーニング方法は、ゴム状弾性重合体のシー
ト片を感光体表面に接触させて、感光体上の残留トナー
をシード斧のエツジ部を利用してかき落とす方法である
。

そのようなゴム状のシート片としては、通常シリコンゴ
ム、ウレタンゴム等の弾性重合体が使用されるが、それ
らの弾性重合体は、柔らかいために耐摩耗性が小さい。

そのため、耐久性が得られないばかりか、感光体やトナ
ーとの摩擦を介して、クリーナーブレードのエツジが削
れ、クリーニング不良が発生する。今日、画像の高精細
化、高品位化のために、トナーは小粒径化、球形化の傾
向にあり、クリー二ング不良がより大きな問題となる。

また、エツジ部分が削れ丸くなってしまうとりリーナー
ブレードと感光体の接触面積が増し、異音（鳴き）が発
生したり、クリーナーブレードの変形、まくれ等が生じ
たりする。

クリーナーブレードの摩耗にに起因する上記問題点を解
決する手段として、クリーナーブレードの先端に耐摩耗
性を付与する方法が提案されている（例えば特開昭６１
−２５５３７５号公報等）。

しかし、上記方法を用いても多少摩耗の進行が押さえら
れるものの、−度摩耗が始まると急激にクリーナーブレ
ードが劣化し、上記した問題が発生する。

発明が解決しようとする課題 本発明はクリーナーブレードのエツジ部の摩耗に起因す
るトナークリーニング不良、異音等が発生せず、長期使
用が可能なりリーナーブレードを提供することを目的と
する。

課題を解決するための手段 すなわち、本発明はゴム状弾性体を用いたシート状クリ
ーナーブレードにおいて、感光体に圧接するエツジ部を
含む面の一方が、有機化合物のプラズマ重合膜によって
被覆されていることを特徴とするクリーナーブレードに
関する。

クリーナーブレードとしては公知のものを使用すること
ができ、その−数的形状はシート状である。以下に詳述
する本発明の理解容易の為にクリーナーブレードのシー
ト状構造を代表的に直方体をもって第１図に表した。な
お、第１図は本発明によるプラズマ重合膜を被覆する前
の構造を示している。第１図に示したクリーナーブレー
ドは頂点ａｂｃｄａ’　ｂ’　ｃ’　ｄ’で示され辺ａ
ｂが辺ｄａより長い直方体のゴム状弾性体（１）により
構成されており、ゴム状弾性体（１）の長辺ａｂ、ある
いはｃｄ部分がエツジとして感光体に圧接され使用され
る。本発明においてはさらに簡単のために、辺ａｂがエ
ツジとして圧接され使用される場合に限って説明するも
のとする。辺ｃｄをエツジとして使用する場合において
も以下の説明により容易に類推適用可能である。

本発明のクリーナーブレードにおいては、感光体に圧接
するエツジ部を含む面の一方が有機化合物のプラズマ重
合膜によって被覆されている。

感光体に圧接するエツジ部を含む面とは第１図中漬点ａ
ｂｃｄで囲まれる面および頂点ａａ’ｂｂ’で囲まれる
面を言う。頂点ａｂｅｄで囲まれる面にプラズマ重合膜
を被服したときの、第１図におけるＸ−Ｙ軸にそった断
面図を第２図に示した。図中（２）がプラズマ重合膜を
表す。

頂点ａａ’ｂｂ’で囲まれる面にプラズマ重合膜を被服
したときの、第１図におけるＸ−Ｙ軸にそった断面図を
第３図に示した。

本発明のクリーナーブレードは第２図あるいは第３図中
の円で示したエツジ部分を感光体に圧接して使用する。

クリーナーブレードのゴム状弾性体の全面にではなく、
上記のようにクリーナーブレードの一つの面にプラズマ
重合膜を被覆することにより、エツジの先鋭度が長期間
保持可能となるので、トナーのクリーニング性が長期に
わたって保持され、また異音が発生することもない。す
なわち、クリーナーブレードと感光体の圧接点には、プ
ラズマ重合膜の被覆されている面とゴム状弾性体の面の
２面が接しており、プラズマ重合膜はゴム状弾性体より
硬質であるのでゴム状弾性体の方が速く摩耗し、プラズ
マ重合膜によりクリーナーブレードのエツジ部は鋭く保
たれるのである。

従って、トナー粒径の大小にかかわらず、トナーのクリ
ーニング性が良好である。

本発明に使用するゴム状弾性体としてはある程度の弾性
を有する弾性体材料、あるいは弾性を付与することので
きる公知の材料、例えばポリエチレン、ポリカーボネー
ト、ポリテトラフルオロエチレン、ポリ塩化フッ化エチ
レン、ポリプロピレン、ポリビニリデン、ポリへキサフ
ルオロプロピレン等の一般プラスチック、および天然ゴ
ム、ポリウレタン、ネオプレン、ポリスチレンブタジェ
ン、シリコンゴム等のゴム状物質が使用できる。

本発明は、前述したようにゴム状弾性体の一面上にプラ
ズマ重合膜を設ける（本明細書においてはプラズマ重合
膜を以下ｒａ−Ｃ膜」と称する）。

本発明においてはａ−Ｃ膜（２）は、ざらにａ−Ｃ膜の
高架橋層とａ−Ｃ膜の低架橋層からなる２層構成にして
もよい。この場合、低架橋層を高架橋層の下に設け、こ
の下層の低架橋層は圧力歪みを吸収するバッファー層と
して機能し、耐久性がさらに向上したものとなる。ａ−
Ｃ膜の架橋度は、グロー放電重合条件により種々選択す
ることができる。

本発明においては、グロー放電法によりａ−Ｃ膜を形成
するためのガスとしては、原料ガスとしての炭化水素ガ
ス及びドーピング用化合物ガスが用いられ、キャリアー
ガスとしては一般に常用される水素ガス、窒素ガス或は
アルゴン等不活性ガスが用いられる。

該炭化水素ガスの相状態は常温常圧において必ずしも気
相である必要は無く、加熱或は減圧等により溶融、蒸発
、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固相
でも使用可能である。該炭化水素としては、例えば、飽
和炭化水素、不飽和炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族
炭化水素等が用いられる。

使用可能な炭化水素には種類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソブタン
、インペンタン、ネオペンタン、インヘキサン、ネオヘ
キサン、ジメチルブタン、メチルヘキサン、エチルペン
クン、ジメチルペンタン、トリブタン、メチルへブタン
、ジメチルヘキサン、トリメチルペンタン、イソナノン
等が用いられる。不飽和炭化水素としては、例えば、エ
チレン、プロピレン、イソブチレン、ブテン、ペンテン
、メチルブテン、ヘキセン、テ、トラメチルエチレン、
ヘプテン、オクテン、アレン、メチルアレン、ブタジェ
ン、ペンタジェン、ヘキサジエン、シクロペンタジェン
、オシメン、アロシメン、ミルセン、ヘキサトリエン、
アセチレン、ジアセチレン、メチルアセチレン、ブチン
、ペンチン、ヘキシン、ヘプチン、オクチン等が用いら
れる。脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパ
ン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、
シクロへブタン、シクロオクタン、シクロプロペン、シ
クロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロ
ヘプテン、シクロオクテン、リモネン、テルビルン、フ
エランドレン、シルペストレン、ツエン、カレン、ピネ
ン、ボルニレン、カンフエン、フェンチェン、シクロブ
タンチエン、トリシクレン、ビサボレン、ジンギベレン
、クルクメン、フムレン、カジネンセスキベニヘン、セ
リネン、カリオフィレン、サンタレン、セドレン、カン
ホレン、フィロクラデン、ポドカルブレン、ミレン等が
用いられる。芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、ヘミメリテン、プソイドクメ
ン、メシチレン、プレニテン、イソジュレン、ジュレン
、ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチ
ルベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ビ
フェニノ呟テルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェ
ニルメタン、ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフ
タリン、テトラリン、アントラセン、フェナントレン等
が用いられる。

本発明におけるａ−Ｃ膜中に含まれる水素原子量は、炭
素原子と水素原子の総量に対して概ね２７乃至６０ｊｉ
（子％程度である。

本発明におけるａ−Ｃ膜中に含まれる水素原子の量は、
成膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化し、水素
量が低くなる場合としては、例えば、基板温度を高くす
る、圧力を低くする、原料炭化水素ガスの希釈率を低く
する、水素含有率の低い原料ガスを用いる、印加電力を
高くする、交番電界の周波数を低くする、交番電界に重
畳せしめた直流電界強度を高くする等の場合が挙げられ
る。

本発明におけるブレードクリーナーとしての被覆膜とし
てのａ−Ｃ膜の膜厚は、概ね０．２乃至５０μｍが好適
である。膜厚が０．２μｍより薄い場合には、ａ−Ｃ膜
が下地の影響を受けやすくなり、また好適な耐久性が確
保できない。また、膜厚が５０μｍより厚い場合には、
かならずしも好適なりリーニング性が確保できるとは限
らず、逆にクリーナーブレードの歪みと感光体との摩擦
応力によりクラック又は剥離が発生しやすくなる。また
感光体のとの摩擦によりチャージアップし、感光体に悪
影響を及ぼす。さらに製造時間が長くなる問題が生じる
。

本発明のａ−Ｃ膜中には、前記炭化水素以外の原子を添
加することが可能で、ａ−Ｃ膜の親水性、親油性、また
はぬれ性等を変えることができ、感光体の種類、トナー
の種類に合わせて、クリーナーブレードを調製できる。

係る原子としては、ハロゲン原子、窒素原子、酸素原子
、アルカリ原子、種々の金属原子、カルコゲン原子、周
期律表第■ｂ族元素、周期律表第１Ｖｂ族元素（炭素原
子は除く）あるいは周期律表第ｖｂ族元素を挙げること
ができる。

例えば本発明においては炭化水素ガスの他に、ａ−Ｃ膜
中に少なくともハロゲン原子を添加するためにハロゲン
化合物ガスが使用される。ここでハロゲン原子とは、弗
素原子、塩素原子、臭素原子、及び沃素原子を云う。こ
のようなハロゲン原子の添加はぬれ性、離型性の改良に
有効である。

該ハロゲン化合物ガスにおける相状態は常温常圧におい
て必ずしも気相で有る必要はなく、加熱或は減圧等によ
り溶融、蒸発、昇華等を経て気化し得るものであれば、
液相でも固相でも使用可能である。

ハロゲン化合物としては、例えば、弗素、塩素、臭素、
沃素、弗化水素、弗化塩素、弗化臭素、弗化沃素、塩化
水素、塩化臭素、塩化沃素、臭化水素、臭化沃素、沃化
水素等の無機化合物、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化
アルキル金属、ハロゲン化アリール、ハロゲン化珪酸エ
ステノ呟ハロゲン化スチレン、ハロゲン化ポリメチレン
、ハロゲン置換オルガノシラン、ハロホルム等の有機化
合物が用いられる。

ハロゲン化アルキルとしては、例えば、フッ化メチル、
塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、フッ化エチル
、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、フッ化プロ
ピル、塩化プロピル、臭化プロピル、ヨウ化プロピル、
フッ化ブチル、塩化ブチル、臭化ブチル、ヨウ化ブチル
、フッ化アミル、塩化アミル、臭化アミル、ヨウ化アミ
ル、フッ化ヘキシル、塩化ヘキシル、臭化ヘキシル、ヨ
ウ化ヘキシル、７ツ化ヘプチル、塩化ヘプチル、臭化ヘ
プチル、ヨウ化ヘプチル等が用いられる。

ハロゲン化アルキル金属としては、例えば、塩化ジメチ
ルアルミニウム、臭化ジメチルアルミニウム、塩化ジエ
チルアルミニウム、ヨウ化ジエチルアルミニウム、二塩
化メチルアルミニウム、三臭化メチルアルミニウム、ニ
ョウ化エチルアルミニウム、塩化トリクチルスズ、臭化
トリメチルスズ、ヨウ化トリメチルスズ、塩化トリエチ
ルスズ、臭化トリエチルスズ、二塩化ジメチルスズ、三
臭化ジメチルスズ、ニョウ化ジメチルスズ、二塩化ジメ
チルスズ、三臭化ジエチルスズ、ニョウ化ジエチルスズ
、三塩化メチルスズ、三臭化メチルスズ、三ヨウ化メチ
ルスズ、三臭化エチルスズ等が用いられる。

ハロゲン化アリールとしては、例えば、フルオロベンゼ
ン、クロルベンゼン、ブロムベンゼン、ヨードベンゼン
、クロルトルエン、ブロムトルエン、クロルナフタリン
、ブロムナフタリン等が用いられる。

ハロゲン化珪酸エステルとしては、例えば、モノメトキ
シトリクロルシラン、ジメトキシジクロルシラン、トリ
メトキシモノクロルシラン、モノエトキシトリクロルシ
ラン、ジェトキシジクロルシラン、トリエトキシモノク
ロルシラン、モノアリロキシトリクロルシラン、ジアリ
ロキシジクロルシラン、トリアリロキシモノクロルシラ
ン等が用いられる。

ハロゲン化スチレンとしては、例えば、クロルスチレン
、ブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン
等が用いられる。

ハロゲン化ポリメチレンとしては、例えば、塩化メチレ
ン、臭化メチレン−ヨウ化メチレン、塩化エチレン、臭
化エチレン、ヨウ化エチレン、塩化トリメチレン、臭化
トリメチレン、ヨウ化トリメチレン、ジ塩化ブタン、ジ
臭化ブタン、ジヨウ化ブタン、ジ塩化ペンタン、ジ臭化
ペンタン、ジヨウ化ペンタン、ジ塩化ヘキサン、ジ臭化
ヘキサン、ジヨウ化ヘキサン、ジ塩化へブタン、ジ臭化
へブタン、ジヨウ化へブタン、ジ塩化オクタン、ジ臭化
オクタン、ジヨウ化オクタン、ジ塩化ノナン、ジ臭化ノ
ナン等が用いられる。

ハロゲン置換オルガノシランとしては、例えば、クロル
メチルトリメチルシラン、ジクロルメチルトリメチルシ
ラン、ビスクロルメチルジメチルシラン、トリスクロル
メチルメチルシラン、クロルエチルトリエチルシラン、
ジクロルエチルトリエチルシラン、ブロムメチルトリメ
チルシラン、ヨードメチルトリメチルシラン、ビスヨー
ドメチルジメチルシラン、クロルフェニルトリメチルシ
ラン、ブロムフェニルトリメチルシラン、クロルフェニ
ルトリエチルシラン、ブロムフェニルトリエチルシラン
、ヨードフェニルトリエチルシラン等が用いられる。

ハロホルムとしては、例えば、フルオロホルム、クロロ
ホルム、ブロモホルム、ヨードホルム等が用いられる。

本発明において化学的修飾物質として含有されるハロゲ
ン原子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室への
前述のハロゲン化合物ガスの導入量を増減する事により
制御する事が可能である。

ハロゲン化合物ガスの導入量を増大させれば、本発明に
よるａ−Ｃ膜中へのハロゲン原子の添加量を高くする事
が可能であり、逆にハロゲン化合物の導入量を減少させ
れば、本発明によるａ−Ｃ膜中へのハロゲン原子の添加
量を低くする事が可能である。

本発明において、そのハロゲン原子含有量は、０．１原
子％以上であればよく、最大含有量は特に制限はないが
ａ−Ｃ層の構造及びグロー放電という製造面から必然的
に定まる。

また、例えば本発明において炭化水素ガスの他に、ａ−
Ｃ膜中に少なくとも窒素原子を添加するために窒素化合
物ガスが使用される。

該窒素化合物ガスにおける相状態は常温常圧において必
ずしも気相で有る必要は無く、加熱或は減圧等により溶
融、蒸発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相
でも固相でも使用可能である。窒素化合物としては、例
えば、窒素、アンモニア、−酸化窒素、二酸化窒素、三
酸化二窒素、五酸化二窒素、三酸化窒素等の無機化合物
、アミノ基（−ＮＨり、シアノ基（−ＣＮ）、ニトロ基
（−Ｎｏ、）、ニトロソ基（−Ｎｏ）、イソシアン酸エ
ステル結合（−ＮＧＯ）、イソチオシアン酸エステル結
合（−ＮＣＳ）、アゾチオエーテル結合（−Ｎ−ＮＳ−
）、ペプチド結合（−ＣＯＮＨ−）、窒素を含む複素環
等の官能基或は結合を有する有機化合物が用いられる。

アミノ基を有する有機化合物としては、例えば、メチル
アミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン
、アミルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オ
クチルアミン、セチルアミン、ジメチルアミン、ジエチ
ルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、シアミ
ルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン、トリブチルアミン、トリアミルアミン
、アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン、
シクロプロピルアミン、シクロブチルアミン、シクロペ
ンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、メチ
ルアニリン、ジメチルアニリン、エチルアニリン、ジエ
チルアニリン、トルイジン、ベンジルアミン、ジベンジ
ルアミン、トリベンジルアミン、ジフェニルアミン、ト
リフェニルアミン、ナフチルアミン、エチレンジアミン
、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペ
ンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジア
ミノへブタン、ジアミノオクタン、フェニレンジアミン
等が用いられる。

シアノ基を有する有機化合物としては、例えば、アセト
ニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、バレロ
ニトリル、カプロニトリル、エナンニトリル、カプリロ
ニトリル、７エラルゴンニトリル、カブリニトリル、ラ
ウロニトリル、パルミトニトリル、ステアロニトリル、
クロトンニトリル、マロンニトリル、ステアロニトリル
、タルタルニトリル、アジポニトリル、ベンゾニトリル
、トルニトリル、シアン化ベンジルけい皮酸ニトリル、
ナフトニトリル、シアンピリジン等が用いられる。

ニトロ基を有する有機化合物としては、例えば、ニトロ
ベンゼン、ニトロトルエン、ニトロキシレン、ニトロナ
フタリン、等が用いられる。

ニトロン基を有する有機化合物としては、例えば、ニト
ロソベンゼン、ニトロソトルエン、ニトロソナフタリン
、ニトロソクレゾール等が用いられる。

イソシアン酸エステル結合を有する有機化合物としては
、例えば、イソシアン酸メチル、イソシアン酸エチル、
イソシアン酸プロピル、イソシアン酸ブチル、イソシア
ン酸フェニル、イソシアン酸ナフチル等が用いられる。

イソチオシアン酸エステル結合を有する有機化合物とし
ては、例えば、インチオシアン酸メチル、インチオシア
ン酸エチル、インチオシアン酸プロピル、インチオシア
ン酸ブチル、イソチオシアン酸アミル、インチオシアン
酸アリル、イソチオシアン酸フェニル、インチオシアン
酸ベンジル等が用いられる。

アゾチオエーテル結合を有する有機化合物としては、例
えば、ベンゼンジアゾチオフェニルエーテル、クロルベ
ンゼンジアゾチオフェニルエーテル、ブロムベンゼンジ
アゾチオフェニルエーテル、ニトロベンゼンジアゾチオ
フェニルエーテル、フエニルジアゾメルカプトナフタリ
ン、メトキシフエニルジアゾメルカプトナフタリン、ベ
ンゼンジアゾチオグリコール酸、ブロムベンゼンジアゾ
チオグリコール酸、ニトロベンゼンジアゾチオグリコー
ル酸等が用いられる。

ペプチド結合を有する有機化合物としては、例えば、グ
リセロイドペプチド、グリセロイドペプチド等が用いら
れる。

複素環化合物としては、ビロール、ピロリン、ピロリジ
ン、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、イミダ
シリン、イミダゾリジン、ピラゾール、ピラゾリン、ピ
ラゾリジン、トリアゾール、テトラゾール、ピリジン、
ピペリジン、オキサジン、モルホリン、チアジン、ピリ
ダジン、ピリミジン、ピラジン、ピペラジン、トリアジ
ン、インドール、インドリン、ベンゾオキサゾール、イ
ンダゾール、ベンゾイミダゾール、キノリン、シンノリ
ン、フタラジン、７タロシアニン、キナゾリン、キンキ
サリン、カルバゾール フエナントリジン、フェナジン、フェノキサジン、イン
ドリジン、キノリジン、キヌクリジン、ナフチリジン、
プリン、プテリジン、アジリジン、アゼリピン、オキサ
ジアジン、ジチアジン、ベンゾキノリン、イミダゾチア
ゾール等が用いられる。

本発明において化学的修飾物質として含有される窒素原
子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室への前述
の窒素化合物ガスの導入量を増減する事により制御する
事が可能である。窒素化合物ガスの導入量を増大させれ
ば、本発明によるａ−Ｃ膜中への窒素原子の添加量を高
くする事が可能であり、逆に窒素化合物の導入量を減少
させれば、本発明によるａ−Ｃ膜中への窒素原子の添加
量を低くする事が可能である。

本発明において、その窒素原子含有量は、０．１原子％
以上であればよく、最大含有量は特に制限はないがａ−
Ｃ層の構造及びグロー放電という製造面から必然的に定
まる。

また、例えば、本発明においては炭化水素ガスの他に、
ａ−Ｃ膜中に少なくとも酸素原子を添加するために酸素
化合物ガスが使用される。該酸素化合物ガスにおける相
状態は常温常圧において必ずしも気相である必要は無く
、加熱或は減圧等により溶融、蒸発、昇華等を経て気化
し得るものであれば、液相でも固相でも使用可能である
。酸素化合物としては、例えば、酸素、オゾン、水蒸気
、−酸化炭素、二酸化炭素、亜酸化炭素等の無機化合物
、水酸基（−〇Ｈ）、アルデヒド基（−　Ｃ　Ｏ　Ｈ）
、アシル基（ＲＣＯ−、−ＣＲＯ）、ケトン基（＞ＣＯ
）、エーテル結合（−０−）、エステル結合（−Ｃ００
−）、酸素を含む複素環等の官能基或は結合を有する有
機化合物等が用いられる。　　　水酸基を有する有機化
合物としては、例えば、メタノール、エタノール、プロ
パツール、ブタノール、アリルアルコール、フルオロエ
タノール、フルオロブタノール、フェノール、シクロヘ
キサノール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコー
ル等が用いられる。

アルデヒド基を有する有機化合物としては、例えば、ホ
ルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブロピオアルデヒ
ド、ブチルアルデヒド、グリオキサール、アクロレイン
、ベンズアルデヒド、フルフラール等が用いられる。

アシル基を有する有機化合物としては、例えば、ギ酸、
酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸、オレイン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク
酸、安息香酸、トルイル酸、サリチル酸、ケイヒ酸、ナ
フトエ酸、フタル酸、フラン酸等が用いられる。

ケトン基を有する有機化合物としては、例えば、アセト
ン、エチルメチルケトン、メチルビニルケトン、ブチル
メチルケトン、ビナコロン、ジエチルケトン、メチルビ
ニルケトン、メシチルオキシド、メチルへブテノン、シ
クロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、
アセトフェノン、フロピオフエノンブチロフェノン、バ
レロフエノン、ジベンジルケトン、アセトナフトン、ア
セトチエノン、アセトフロン等が用いられる。

エーテル結合を有する有機化合物としては、例えば、メ
チルエーテル、エチルエーテル、プロピルエーテル、ブ
チルエーテル、アミルエーテル、エチルメチルエーテル
、メチルプロピルエーテル、メチルブチルエーテル、メ
チルアミルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチル
ブチルエーテル、エチルアミルエーテル、ビニルエーテ
ル、アリルエーテル、メチルビニルエーテル、メチルア
リルエーテル、エチルビニルエーテル、エチルアリルエ
ーテル、アニソール、フェネトール、フェニルエーテル
、ベンジルエーテル、フェニルベンジルエーテル、ナフ
チルエーテル、酸化エチレン、酸化プロピレン、酸化ト
リメチレン、テトラヒドロ７ラン、テトラヒドロピラン
、ジオキサン等が用いられる。

エステル結合を有する有機化合物としては、例えば、ギ
酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ
酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチ
ル、プロピオン酸アミル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪
酸プロピル、酪酸ブチノ呟酪酸アミル、吉草酸メチル、
吉草酸エチル、吉草酸プロピル、吉草酸ブチル、吉草酸
アミル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、ケイ皮酸メ
チル、ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸プロピル、サリチル酸
メチル、サリチル酸エチル、サリチル酸プロピル、サリ
チル酸ブチノ呟サリチル酸アミル、アントラニル酸メチ
ル、アントラニル酸エチル、アントラニル酸ブチル、ア
ントラニル酸アミル、フタル酸メチル、フタル酸エチル
、フタル酸ブチル等が用いられる。

酸素を含む複素環化合物としては、フラン、オキサゾー
ル、フラザン、ピラン、オキサジン、モルホリン、ベン
ゾフラン、ベンゾオキサゾール、クロメン、クロマン、
ジベンゾフラン、キサンチン、フェノキサジン、オキソ
ラン、ジオキソラン、オキサチオラン、オキサジアジン
、ベンゾイソオキサゾール等が用いられる。

本発明において化学的修飾物質として含有される酸素原
子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室への前述
の酸素化合物ガスの導入量を増減する事により制御する
事が可能である。酸素化合物ガスの導入量を増大させれ
ば、本発明によるａ−Ｃ膜中への酸素原子の添加量を高
くする事が可能であり、逆に酸素化合物の導入量を減少
させれば、本発明によるａ−Ｃ膜中への酸素原子の添加
量を低くする事が可能である。

本発明において、その酸素原子含有量は、０．１原子％
以上であればよく、最大含有量は特に制限はないがａ−
Ｃ層の構造及びグロー放電という製造面から必然的に定
まる。

また、例えば、本発明においては炭化水素ガスの他に、
ａ−Ｃ膜中に少なくともアルカリ金属原子を添加するた
めにアルカリ金属化合物ガスが使用される。ここでアル
カリ金属原子とは、リチウム原子、カリウム原子、ナト
リウム原子、ルビジウム原子、及びセシウム原子を云う
。

該アルカリ金属化合物ガスにおける相状態は常温常圧に
おいて必ずしも気相で有る必要は無く、むしろ気相状態
の化合物は少ないため、加熱或は減圧等により溶融、蒸
発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固
相でも使用可能である。

アルカリ金属化合物としては、例えば、金属アルコラー
ド、金属アクリル酸、金属メタクリル酸、或は、金属フ
タロシアニン等が用いられる。

本発明において化学的修飾物質として含有されるアルカ
リ金属原子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室
への前述のアルカリ金属化合物ガスの導入量を増減する
事により制御する事が可能である。アルカリ金属化合物
ガスの導入量を増大させれば、本発明によるａ−Ｃ膜中
へのアルカリ金属原子の添加量を高くする事が可能であ
り、逆にアルカリ金属化合物の導入量を減少させれば、
本発明によるａ−Ｃ膜中へのアルカリ金属原子の添加量
を低くする事が可能である。

本発明において、そのアルカリ金属原子含有量は、０．
ｌｊｉ［千％以上であればよく、最大含有量は特に制限
はないが表面保護層の構造及びグロー放電という製造面
から必然的に定まる。

更に、また、例えば、本発明においては炭化水素ガスの
他に、ａ−Ｃ膜中に少なくとも金属原子を添加するため
に金属化合物ガスが使用される。

ここで、金属原子とは、ｎａ族、■ａ族、ＩＶａ族、Ｖ
ａ族、ＶＩａ族、■ａ族、■族、Ｉｂ族、ｎｂ族の各元
素およびＳｎ、Ｐｂ、Ｆｍ、Ｍｄ、Ｎｏ等を示す。

特に本発明の目的のために好ましい金属原子としては、
Ｂｅｓ　Ｍｇ％Ｃａ１Ｔｉｓ　Ｖｓ　Ｍｎｓ　Ｆ　ｅｓ
　Ｃｏ５Ｎｉ１Ｃｕ１ＺｎＳＳｒ、ｙ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｔ
ｃ、Ｒｕ。

Ｒｈ、Ｐｄｓ　Ａｇ、Ｃｄ、Ｓｎであり、特に好ましい
ものは、Ｃａ、Ｔｉ、Ｆｅｓ　Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｓｎ
等である。このような金属原子の添加は帯電防止、即ち
、感光体との摩擦帯電によるブレードがチャージアップ
し、リーク時に感光体に悪影響を及ぼすのを防止できる
。金属原子添加により、電気抵抗値を調整し、上記問題
点を解決するのに有効である。

該金属化合物ガスにおける相状態は常温常圧において必
ずしも気相で有る必要は無く、また、むしろ気相状態の
化合物は少ないため、加熱或は減圧等により溶融、蒸発
、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固相
でも使用可能である。

金属化合物としては、例えば、金属アルコラード、金属
アクリル酸、金属メタクリル酸、或は、金属フタロシア
ニン（有機金属ガス）等が用いられる。　　　　・ 本発明において化学的修飾物質として含有される金属原
子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室への前述
の金属化合物ガスの導入量を増減する事により制御する
事が可能である。金属化合物ガスの導入量を増大させれ
ば、本発明によるａ−Ｃ膜中への金属原子の添加量を高
くする事が可能であり、逆に金属化合物の導入量を減少
させれば、本発明によるａ−Ｃ膜中への金属原子の添加
量を低くする事が可能である。

本発明において、その金属原子含有量は、０．１原子％
以上であればよく、最大含有量は特に制限はないが表面
保護層の構造及びグロー放電という製造面から必然的に
定まる。

更に、化学的修飾物質として、ａ−Ｃ膜中に少なくとも
周期律表第ｍｂ族凍原子添加するために、周期律第ｍｂ
ｂ元素化合物ガスが使用される。

上記化合物における相状態は常温常圧において必ずしも
気相で有る必要は無く、加熱或は減圧等により溶融、蒸
発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固
相でも使用可能である。

周期律第ｍｂｂ元素を含む化合物としては、例えば、Ｂ
、Ｈ，、ＢＣＩ、、ＢＢｒ、、ＢＦ、、Ｂ（ＱＣｚＨｓ
）ｓ、ＡｌＣｌ、、Ａ　ｌ（Ｏｉ　　Ｃ３Ｈ？）３、（
ＣＨ３）３Ａｌ％　（Ｃ２Ｈ６）３Ａｌ、（ｉ−ＣａＨ
ａ）ｓＡｌ、ＧａＣ１５、ＧａＢｒ、、Ｇａ（Ｏｉ−Ｃ
３Ｈ７）３、（ｃ　Ｈ５）ｓＧａｓ　（ｃ、Ｈｓ）、Ｇ
ａｓ　　Ｉｎ（Ｏｉ−Ｃ３Ｈ？）！、（Ｃ＊Ｈｓ）ｓ　
Ｉ　ｎ等を用いることができる。

上記ａ−Ｃ膜中に含まれる周期律表第ｍｂｂ元素の量は
、プラズマ重合反応に用いる少なくとも周期律表第■族
元素を含む分子の量を増減することにより調整すること
ができる。

更に、ａ−Ｃ膜中に、少なくとも周期律表第ｖｂｂ元素
を添加するために、周期律表第ｖｂｂ元素を含む化合物
（窒素を含む化合物については前述した）が使用される
。

上記化合物における相状態は常温常圧において必ずしも
気相で有る必要は無く、加熱或は減圧等により溶融、蒸
発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固
相でも使用可能である。

上記化合物としては、例えばＰＨ３、ＰＦ、、ＰＦ６、
Ｐｃｔ、Ｆ、ＰＣ１２Ｆ３、Ｐｃｔ、、ＰＢｒｌ、ＰＯ
（ＯＣＨｓ）ｓ、Ｐ（Ｃ！ＨＪ３、Ｐ　ＯＣ１，、Ａｓ
Ｈ，、ＡｓＣ１，、ＡｓＢｒ、、ＡｓＦ、、ＡｓＦ、、
ＡｓＣｌ、、５ｂＨｓ、ＳｂＦ、、５ｂＣ１ｓ、５ｂ（
ＯＣｚＨｓ）ｓ等を用いることができる。

上記ａ−Ｃ膜中に含まれる周期律表第ｖｂ族元素の量は
、プラズマ重合反応に用いる少なくとも周期律表第Ｖ族
元素を含む分子の量を増減することにより調整すること
ができる。

更に、ａ−Ｃ膜中に少なくともカルコゲン原子を添加す
るためにカルコゲン原子化合物が使用される。ここでカ
ルコゲン原子とは、イオウ、セレン、テルルをいう。

上記化合物における相状態は常温常圧において必ずしも
気相で有る必要は無く、加熱或は減圧等により溶融、蒸
発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固
相でも使用可能である。

カルコゲン原子を含む化合物としては具体的には、例え
ば、Ｈ，Ｓ、ｃＨ３（ｃｉ−ｉｓ）４ｓ（ＣＨｘ）ａｃ
Ｈ３、ＣＨ，悶ＣＨＣＨ，５ＣＨＩＣＨ−ＣＨ，、Ｃ２
Ｈｓ　Ｓ　Ｃ！　Ｈｓ、ｃ、Ｈ，ＳＣＨ，、チオフェン
、ＨよＳｅ、（Ｃ，Ｈ６）ＩＳｅ、Ｈ，Ｔｅ等を用いる
ことができる。

上記ａ−Ｃ膜中に含まれるカルコゲン原子の量は、プラ
ズマ重合反応に用いる少なくともカルコゲン原子を含む
分子の量を増減することにより調整することができる。

更に、ａ−Ｃ膜中に少なくとも周期律表第１Ｖｂ族元素
（Ｓｉ％ＧＬｒＪ：いう）を添加するために、周期律表
第１Ｖｂ族元素を含む化合物が使用される。

上記化合物における相状態は常温常圧において必ずしも
気相で有る必要は無く、加熱或は減圧等により溶融、蒸
発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも同
相でも使用可能である。

周期律表第１Ｖｂ族元素を含む化合物としては、具体的
には、例えば、ＳｉＨい５ｉｌＨ，、（ｃａＨｓ）３Ｓ
ｉＨ，ＳｉＦい　ＳｉＨ，Ｃ１，、Ｓ　ｉＣｌ、％　Ｓ
　１（ＯＣＨ３）４％　　Ｓ　ｌ（ＯＣ２ＨＪ４．５ｉ
（ＯＣｓＨｒ）ａ、ＧｅＨ４、ＧｅＣｌ、、ＧｅＦ、、
Ｇｅ２Ｈ，、Ｇ　ｅ（ＯＣｘ　Ｈｓ　）６、Ｇｅ（Ｃ！
Ｈｓ）い（ＣＨ３）ａｓｎｓ　（Ｃ＊Ｈｉ）ｉｓｎｓＳ
ｎＣｌ、等を用いることができる。

上記ａ−Ｃ膜中に含まれる周期律表第１Ｖｂ族原子の量
は、プラズマ重合反応に用いる少なくとも周期律表第■
族原子を含む分子の量を増減することにより調整するこ
とができる。

第４図は本発明に係わるブレードクリーナー即ち、ａ−
Ｃ膜を形成するための製造装置を示し、図中（７０１）
〜（７０６）は常温において気相状態にある原料及びキ
ャリアガスを密封した第１乃至第６タンクで、各々のタ
ンクは第１乃至第６調節弁（７０７）〜（７１２）と第
１乃至第６流量制御器（７１３）〜（７１８）に接続さ
れている。図中（７１９）〜（７２１）は常温において
液相または固相状態にある原料を封入した第１乃至第３
容器で、夫々の容器は気化のため、第１乃至第３温調器
（７２２）〜（７２４）により与熱可能であり、さらに
夫々の容器は第７乃至第９調節弁（７２５）〜（７２７
）と第７乃至第９流量制御器（７２８）〜（７３０）に
接続されている。これらのガスは混合器（７３１）で混
合された後、主管（７３２）を介して反応室（７３３）
に送り込まれる。途中の配管は、常温において液相また
は固相状態にあった原料化合物が気化したガスが、途中
で凝結しないように、適宜配置された配管加熱器（７３
４）により、与熱可能とされている。反応室内には接地
電極（７３５）と電力印加電極（７３６）が対向して配
置され、夫々の電極は電極加熱器（７３７）により与熱
可能とされている。電力印加電極（７３６）には、高周
波電力用整合器（７３８）を介して高周波電源（７３９
）、低周波電力用整合器（７４０）を介して低周波電源
（７４１）、ローパスフィルタ（７４２）を介して直流
電源（７４３）が接続されており、接続選択スイッチ（
７４４）により周波数の異なる電力が印加可能とされて
いる。反応室（７３３’）内の圧力は圧力制御弁（７４
５）により調整可能であり、反応室（７３３）内の減圧
は、排気系選択弁（７４６）を介して、拡散ポンプ（７
４７）、油回転ポンプ（７４８）、或は、冷却除外装置
（７４９）、メカニカルブースターポンプ（７５０）、
油回転ポンプ（７４８）により行なわれる。排ガスにつ
いては、さらに適当な除外装置（７５３）により安全無
害化した後、大気中に排気される。これら排気系配管に
就いても、常温において液相または固相状態にあった原
料化合物が気化したガスが途中で凝結しない様に、適宜
配置された配管加熱器（７３４）により、与熱可能とさ
れている。反応室（７３３）も同様の理由から反応室加
熱器（７５１）により与熱可能とされ、内部に配された
電極上には、予め弾性体層が形成された熱伝導支持パイ
プ（７５２）が配置される。

反応室は、拡散ポンプにより予め１０−’乃至ｌＯ−’
Ｔｏｒｒ程度にまで減圧し、真空度の確認と装置内部に
吸着したガスの脱着を行なう。同時に電極加熱器により
、電極並びに電極に固定して配されたクリーナーブレー
ド母材（有機弾性体からなり、本発明によりａ−Ｃ膜の
必要な面以外は適当な手段により被覆されている）を、
必要に応じ、所定の温度まで昇温する。基板温度はヒー
ター（７３７）により、所望の基板温度に設定される。

次いで、第１乃至第６タンク及び第１乃至第３容器から
適宜炭化水素並びにドーピング用化合物よりなる原料ガ
スを第１乃至第９流量制御器を用いて定流量化しながら
反応室内に導入し、圧力調節弁により反応室内を一定の
減圧状態に保つ。ガス流量が安定化した後、接続選択ス
イッチにより、例えば高周波電源を選択し、電力印加電
極に高周波電力を投入する。両電極間には放電が開始さ
れ、時間と共に基板上に固相の膜が形成される。反応時
間により膜厚を制御し、所定の膜厚に達したところで放
電を停止し、所望の面にａ−Ｃ膜が被覆された本発明の
クリーナーブレードを得る。

本発明に従いえられるクリーナーブレードは、公知のク
リーナーブレード表面上にａ　−Ｃ膜を形成したもので
あり、公知のクリーナーブレードの使用方法に従い適用
可能であり、小粒径のトナーをも効果的にクリーニング
する。本発明の効果をより有効に得るためには、ａ−Ｃ
膜により被服された面が、感光体とブレードとの圧接点
通過後の感光体表面と対向するように本発明のクリーナ
ーブレードを圧接することが好ましい。

以下、実施例を挙げながら、本発明を説明する。

クリーニングブレード■の製造 本発明に係わる製造装置を用いて、第３図に示した如き
構成で、ゴム状弾性体上にａ　−Ｃ層を設けた本発明ク
リーナブレードを作製した。なおゴム状弾性体としては
ポリウレタン製クリーニングブレード（東海ゴム社製）
を使用した。

第４図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
室（７３３）の内部をＩ　Ｏ−’Ｔｏｒｒ程度の高真空
にした後、第１１第２調節弁（７０７，７０８）を解放
し、第１タンク（７０１）より水素ガス、第２タンク（
７０２）よりアセチレンガス（Ｃ２Ｈ２）を夫々出力圧
１．０　Ｋｇ／ａｍ２の下で、第１１第２流量制御器（
７１３，７１４）内へ流入させた。

そして各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量
を７Ｑｓｃｃｍ、アセチレンガスの流量を５０ｓｅｃｍ
となるように設定して、途中混合器（７３１）を介して
、主管（７３２）より反応室（７３３）内へ流入した。

夫々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が１．２Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、ａ−Ｃ膜を形成する面以外はテフロン
テープでマスキングしたクリーニングブレードを予め６
０℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態
で、予め接続選択スイッチ（７４４）により接続してお
いた高周波電源（７３９）を投入し、電力印加電極（７
３６）に１００　Ｗａｔｔの電力を周波数３　Ｍ　Ｈｚ
の下で印加して約１５分間プラズマ重合反応を行ない弾
性体上の所望の面に厚さ５μｍのａ−Ｃ膜を形成した。

成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室（７３３）内を充分に排気した後、真空を破りクリー
ニングブレード取り出した。

以上のようにして得られたａ−Ｃ膜につきＣＨＮ定量分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して約４０原子％であった。

以上のようにして得られたクリーニングブレードをクリ
ーニングブレード■とする。

クリーニングブレード■の製造 クリーニングブレード■の製造において水素ガス、アセ
チレンガスの代わりに、ヘリウム、ブタジェン、テトラ
フルオロメタンの各ガスを使用し、それぞれの流量を７
０ｓｃｃｎ＋、　６０ｓｅｃｍ、　５５ｓｅｃｍとした
以外はクリーニングブレードＩの製造と同様に所望の面
に厚さ５μｍのａ−Ｃ膜を有するクリーニングブレード
を製造した。

以上のようにして得られたａ−Ｃ膜につきＣＨＮ定量分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は全構成
原子に対して約３５ｉ子％であった。また含有されるフ
ッ素π子の量はオージェ分析により全構成原子に対して
約２．１原子％であった。

本製造例で得られたクリーニングブレードをクリーニン
グブレード■とする。

ゴム状弾性体を全くマスキングしなかった以外はクリー
ニングブレードＩの製造と同様にａ−Ｃ膜を製造した。

ただし、この場合のａ−Ｃ膜の厚さは第１図において頂
点ａｂｅｄで囲まれた面上のａ−Ｃ膜の厚さは５μｍで
あり、頂点ａａ’　ｂ’　ｂで囲まれる面上のａ−Ｃ膜
の厚さは３μｍであった。

また　以上のようにしてそれらの両面に形成されたａ−
Ｃ膜につきＣＨＮ定量分析を行なったところ、含有され
る水素原子の量は炭素原子と水素原子の総量に対して約
３８原子％であった・スチレン−ｎ−ブチル　　　　　
　　　１００メタクリレート樹脂 （軟化点、１３２°Ｃ；ガラス転移点、６０℃）・カー
ボンブラック　　　　　　　　　　　５（三菱化成社製
、ＭＡ＃８） ・ニグロシン染料　　　　　　　　　　　　３（オリエ
ント化学社製、ポントロンＮ−０１）上記材料をボール
ミルで十分混合した後、１４０°Ｃに加熱した３本ロー
ル上で混練した。混練物を放置冷却後、フェザ−ミルを
用い粗粉砕し、さらにジェットミルで微粉砕した。つぎ
に、風力分級し、平均粒径１３μｍの微粉末を得た（ト
ナーＡ）。

トナーの製造例２［（−）帯電性トナー（トナーＢ）］
つぎの組成によりトナーの製造例１と同様の方法を用い
て平均粒径１２μｍのトナーＢを製造しに。

ＦＬｉ　　　　　　　　　　　　　　　ｆｉ象！・ポリ
エステル樹脂　　　　　　　　　１００（軟化点、１３
０°Ｃ；ガラス転移点、６０°０ＳＡＶ２５．０ＨＶ３
８）・カーボンブラック　　　　　　　　　　　５（三
菱社製、ＭＡ＃８） トナーの製造例３（懸濁重合型）［（−）帯電性トナー
（トナーＣ）］ ・スチレン　　　　　　　　　　　　６０　重量部・ｎ
−ブチルメタクリレート　　　　　３５　重量部・メタ
クリル酸　　　　　　　　　　　５　重量部・２，２−
アゾビス−０，５重量部 （２，４，−ジメチルバレロニトリル）・低分子量酸化
型ポリプロピレン　　　３重量部「ビスコールＴＳ−２
００Ｊ　（三菱化成工業社製）・カーボンブラックＭＡ
＃８　　　　　８重量部（三菱化成工業社製） ・ニグロシンベースＥＸ　　　　　　　　３重ｉｇ（オ
リエント化学工業社製） 上記材料をサンドスターラーにより十分に混合して、重
合性組成物を調整した。この重合性組成物を濃度３重量
％のアラビアゴム水溶液中に撹拌機ｒＴ−にホモジナイ
ザー」（特殊工業社製）により回転数３０００　ｒｐｍ
で撹拌しながら、温度６０°Ｃで６時間重合反応させ、
さらに温度を８０°Ｃに上昇し重合反応させた。重合反
応終了後、反応系を冷却して５〜６回水洗後、濾過して
球状粒子を得た（トナーＣ）。

得られた球状粒子の平均粒径はｌＯμｍ１軟化点（Ｔｍ
）は１４ピＣ１ガラス転移点（Ｔｓ）は６１’０であっ
た。

シード重合法により得られた単分散球状のスチレン系ポ
リマー（平均粒径７μｍ１軟化点１２８°Ｃガラス転移
点５４℃）をポリマー粒子（Ａ）とする。

上記ポリマー粒子（Ａ）１００重量部とカーボンブラッ
ク（三菱化成工業社製ＭＡ＃８）５重量部をヘンシェル
ミキサーに入れｌ　５００ｒｐｍ、　５分間混合撹拌し
、カーボンブラックで表面が被覆されたポリマー粒子（
Ｂ）を得た。

次にこのポリマー粒子（Ｂ）１００重量部と、ポリアク
リル酸ナトリウム５重量部を溶解した水２０００重量部
とを混合撹拌し、中間粒子を水中に分散させた後、この
分散系にスチレン／ｎ−ブチルメタアクリレート／２．
２．２−トリフルオロエチルアクリレート−７５／１５
／１０の組成比の七ツマー１００重量部、重合開始剤と
して化硫酸カリウム２重量部を添加し、系の温度を８０
°Ｃに上昇させて６時間にわたり重合を行い、ポリマー
粒子（Ｂ）上に、さらに樹脂コート層を有するトナー粒
子りを得た。

トナー粒子りは平均粒径ｌＯμｍであった。

トナーの製造例５（粉体コートタイプ）、［（−）帯ポ
リマー粒子（Ａ）の平均粒径を５μｍとすること以外は
トナーの製造例４と同様にトナーを作製し、平均粒径７
μｍのトナー粒子Ｅを得た。

（実施例１） ブレードＩとトナーＡを使用し、ミノルタカメラ社製Ｅ
Ｐ−４７０２で３０．０００枚の連続コピーを行った。

ただし、ブレードはａ−Ｃ膜によって被覆された面が感
光体とブレードとの圧接部通過後の感光体の面と対向す
るように用いた。この時、感光体とブレードの圧接部か
らは何の異音（鳴き）も発生しなかった。

更に２０，０００枚の連続コピーを行ったところ、小さ
な鳴きが発生した。

また、ブレード通過前の感光体上残存トナーの平均付着
量０　、３３　［ｇ／ｃｍ”ｌに対し、ブレード通過後
の付着量は３０，０００枚までは０．０２［ｇ／ｃｍ”
３以下であり、クリーニング性は良好であった。

結果を表１に示した。なお、表１には１枚目、１．００
０枚目、５．０００枚目、１０．０００枚目、３０．０
００枚目、５０．０００枚目毎の鳴きの有無と通過後の
感光体上トナー付着量［ｇ／ｃｍ’］（Ｔｌ）を示した
。

（実施例２〜５） トナーＢ、Ｃ，Ｄ、Ｅ対し、ブレードＩを使用し、ミノ
ルタカメラ社製ＥＰ−５７０２で（実施例１）と同様の
テストを行った。

結果を表１に示した。

（実施例６） トナーＡに対し、ブレード■を用いて（実施例１）と同
様のテストを行った。

結果を表１に示した。

（実施例７〜１０） トナーＢ、Ｃ，Ｄ％Ｅに対し、ブレード■を用いて（実
施例２）と同様のテストを行った。

結果を表１に示した。

（比較例１） トナーＡに対し、ブレードｍを用いて（実施例１）と同
様のテストを行った。

結果を表１に示した。

（比較例２〜５） トナーＢ、Ｃ，Ｄ、Ｅに対しブレード■を用いて（実施
例２）と同様のテストを行った。

結果を表１に示した。

（比較例６） トナーＡに対し、プラズマコートを施していないブレー
ド■を用いて（実施例１）と同様のテストを行った。

結果を表１に示した。

（比較例７〜１０） トナーＢ％Ｃ，Ｄ、Ｈに対し、プラズマコートを施して
いないブレード■を用いて（実施例２）と同様のテスト
を行った。

結果を表１に示した。

発明の効果 本発明に従いクリーナーブレード上の有機弾性体層上に
、プラズマ重合膜を設けることにより、耐久性が向上し
、さらにトナーの離型性、クリーニング性が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、クリーナーブレードの概略斜視図である。 第２図は、第１図に示したクリーナーブレードのａｂｅ
ｄ面上にａ−Ｃ膜を形成したときのＸ−Ｙ断面図である
。 第３図は、第１図に示したクリーナーブレードのａａ’
ｂｂ’面上にａ−Ｃ膜を形成したときのＸ−Ｙ断面図で
ある。 第４図はグロー放電プラズマ重合製造装置の該略構成例
である。 （１）・・・ゴム状弾性体、 （２）・・・ａ−Ｃ膜（プラズマ重合膜）（７０１）〜
（７０６）・・・タンク、（７０７）〜（７１２）及び
（７２５）〜（７２７）・・・調節弁、 （７１３）〜（７１８）及び（７２８）〜（７３０）・
・・流を制御器（マスフローコントローラー）（７１９
）〜（７２１）・・・容器、 （７２２）〜（７２４）・・・温調器、（７３１）・・
・混合器、（７３２）・・・主管、（７３３）・・・反
応室、（７３４）・・・配管加熱器、（７３５）・・・
接地電極、（７３６）・・・電力印加電極、（７３７）
・・・電力加熱器、 （７３８）・・・高周波電力整合器、 （７３９）・・・高周波電源、 （７４０）・・・低周波電力用整合器、（７４１）・・
・低周波電源、 （７４２）・・・ローパスフィルタ、 （７４３）・・・直流電源、 （７４４）・・・接続選択スイッチ、 （７４５）・・・圧力制御弁、 （７４６）・・・排気系選択弁、□ （７４７）・・・拡散ポンプ、 （７４８）・・・油回転ポンプ、 （７４９）・・・冷却除外装置、 （７５０）・・・メカニカルブースタポンプ、（７５１
）・・・反応加熱器、 （７５２）・・・熱伝導支持パイプ基板、（７５３）・
・・除外装置 特許出願人　ミノルタカメラ株式会社 代　理　人　弁理士　青　山　葆　ほか２名第１図 第２図 第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、ゴム状弾性体を用いたシート状クリーナーブレード
   において、感光体に圧接するエッジ部を含む面の一方が
   、有機化合物のプラズマ重合膜によって被覆されている
   ことを特徴とするクリーナープレート。