JPS63163302A - 光デイスク基盤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、いわゆる光学式デジタル・オーディオ・ディ
スク、ビデオディスク、書き込み即１り生がＩ−ｆ能な
ディスク等のような光ディスクツ＾盤に関し、更に詳し
くは、近年、民生機器としてその便益性より間界的に注
目されているレーザー光線を利用し、情報をデジタル化
する高密度情報記録・１す生装置の高密度情報記録媒体
に使用するに最適な光デイスク基盤に係るものである。

［従来の技術及びその問題点］ 光ディスクの一例としてのデジタル・オーディオ・ディ
スク　（ＤＡＤ）は、音楽の信号を細かく分割し、？ｎ
純に数イ１化し、ｒＱＪとｒｌＪの２進法のパターンに
置きかえ、レーザー光線反射可能な金属面の凹凸として
記録し、次にパターンをレーザー光線で拾いあげて、更
にレーザー光線の２進法の信号を電気信号に変換し、更
に音として再生するものである。このような、レーザー
光線反射可能な金属面の凹凸を有する円盤は、一般的に
は片面に凹凸のついた透明な樹脂円盤を成形し、これの
凹凸面に全屈蒸着などによって金属膜を形成することに
より得られるものである。

画像に関する信号をデジタルの凹凸パターンとして記録
するようにすれば、ビデオディスク（ＶＯ）となる。ま
た、コンピューターのプログラムやデータを凹凸パター
ンに記録するようにすればプログラムやデータの記録板
としても用いることができ、殊にこの用途に書き込み即
再生がｔ＋（能なディスク（Ｄｉｒｅｃｔ　Ｒｅａｄ　
Ａｆｔｅｒ　Ｗｒｉｔｅ　　：これを略して［１ＲＡＷ
と呼ばれている）が注目されるようになってきている。

更に消去と書込みが可能な−）換型光ディスク（Ｅｒａ
ｓａｂｌｅ　Ｄｉｒｅｃｔ　ｒｅａｄ　ａｆｔｅｒｗｒ
ｉｔｅ：　　Ｅ−ＤＲＡＷ）も各社開発中である。

Ｊ―記の光ディスクのうち、ＤＲＡＷには、情報１！２
き込みのための記録層として、レーザー光等を照射する
ことにより■穴を形成するもの、■層間の気泡形成を利
用するもの、■相変化を利用するもの等の種々のタイプ
に分類される種々の物質からなる膜が種々の層構成で使
用されている。Ｑ）のタイプの記録層はＥ−ＤＲＡＷ用
として使用し得るものである。

しかして、上記の如き光ディスクは、レーザー光線を用
い、非常に小さい光の光路差、位相差に基〈干渉光を検
出再生するものであるから、光学的特性としては、 １）樹脂層のレーザー光線透過率が大きいこと ｉｉ　）樹脂層の高分子の配向が小さく、複屈折が小さ
いこと １１１）屈折率のバラツキが小さいことｉｖ）ゴミ、混
濁等がないこと 等が要求され、物理的特性としては Ｖ）熱変形温度が高いこと ｖｉ　）金属蒸着性の良いこと ｖｉ）成形性に優れ、細かい凹凸もシャープに形成しう
ること ｖｉ）記録膜（感剤）との密着性 笠が要求され１寸法精度、安定性としては、ｉｘ）肉厚
分布が小さいこと Ｘ）ソリが小さいこと 等が要求される。

また、これら以外に、重合溶媒等の不純物を含有しない
こと、加水分解しないこと、といった特性が要求される
。

ポリメチルメタクリレート樹脂を用いたのでは吸水率が
大きく、そのために吸水等による経時変化により成形し
た板状体はソリを生じ致命的である。これを４片するた
めに、ポリメチルメタクリレート樹脂の表面に塩化ビニ
リデン系樹脂のようにバリアー性に優れた樹脂を積層す
る試みもなされている。しかし、積層するにはそれだけ
煩雑な工程が増える欠点がある。そこで、上記（１）〜
（×）の要求項目を満足し、かつ、一度に成形できる樹
脂が望まれていた。

光ディスクに関する試みとして、メタクリル酸メチル／
スチレン＝６０７４０（重量比）の共重合体樹脂（４，
￥願昭５７−３３４４６号、特願昭５７−１［１２１３
５号）やメタクリル酸メチル／スチレン＝　３０／　７
０（重量比）の共重合体樹脂（特開昭５７−１６２１３
５号−）を光デイスク３ｉ盤に用いる例が知られている
。

一方１本発明者らは、上記１）〜ｉｘ）の如き要求性能
を基本的に満足する樹脂として、メタクリル酸エステル
中驕体と七ノアルケニル芳香族単ノ、１体とを共重合し
て得られる共重合体を特徴とする特定の樹脂を見い出し
た（特開昭５８−８８８４３）が、この共重合体を主体
とする樹脂は、ＤＡＤ　　（直径１２０＋＋ｕｓ　、厚
み１．２ａ＋ｓ　）では規格はほぼ満足する結果が得ら
れるものの、ＤＲＡｌｌ（直径３００ｍ層、厚み１．２
＋ａｍ　）では、規格値を満足するのが困難になってき
た。すなわち、直径が１２ｈａから３００ｍ層になり、
直径と厚さの比（Ｌ／Ｔ）が１００から２５０に変化し
たため、射出成形時に樹脂が中央部から周辺部に流れる
距離が大幅に増大し、流動に伴う分子配向がかかり易く
、複屈折の値をＤＲＡＷ用として要求される規格値、即
ち４０ｎｍ以下、更にＥ−ＤＲＡＷの要求される規格値
２０ｎｍ以下にするのが困難となり、成形性が難しくな
り成形不良率が上県してくるという問題が生じるに至っ
た。

更に本発明者らはメタクリル酸メチル単量体４０〜７０
重量部とメタクリル酸の一価の飽和脂肪族アルコールＣ
３〜ａＳとのエステル単量体５〜２０重量部と千ノアル
ケニル芳香族？ｒｋ量体２５〜４０重量部で共重合した
共重合体を主体として、２５℃における該共重合体の１
０％メチルエチルケトン溶液粘度３〜１０ｃｐｓの範囲
にあり、かつ複Ｊｉｌ：折が１００ｎａ＋以ドであるこ
とを特徴とする樹脂を見い出した（特願昭５７−２１７
０２６　）　、　Ｌかしながらこの共重合体を主体とす
る樹脂は、光デイスク用の基材として使用する場合に、
ノ、（材にスパッタリング等により記録層や反射層を形
成させる場合に要求される耐熱性に問題があり、また、
温暖雰囲気下で立てかけて長期保存する場合にクリープ
を発生する等の問題があった。

一方、」−記の系統の他にポリカーボネートも光デイス
ク用基板に用いられている。しかしながら、ポリカーボ
ネートは不純物として、Ｃｒや残留重合溶剤として二塩
化メチレンを含有し、また、経時的に加水分解し、その
結果記録層（感剤）との密Ｉｉ性が低ドしたり、記録層
や反射層に孔蝕を発生させたりするという問題があった
。

ソコテ、本発明者う４１ＤＲＡＷ用基材及びＥ　−Ｄ　
ＲＡ　Ｗ　ｆＨ基材として満足する樹脂を得るために鋭
意検討の結果本発明に到達した。

［問題点を解決するための手段及び作用］本発明によれ
ば、　（Ａ）メタクリル酸メチル単位と、（Ｂ）芳香族
ビニル化合物単位と、（Ｃ）不飽和脂肪酸中゛量体？ｉ
位と、（Ｄ）式 （式中Ｒ１，Ｒ２は水素原子またはメチル基、Ｒ３は水
素原子、アルキルノ、シ　シクロアルキル基またはアリ
ール基である。） で示される六員環イミド単位の４種の鰻り返し中位がラ
ンダムに配列された分子構造を有し、かつ（Ａ）、　（
Ｂ）、　（Ｃ：）及び（Ｄ）の各単位の含有量をそれぞ
れａ、ｂ、ｃ及び６重量％としたとき、ａ　＋　ｂ　＋
　ｃ　＋　ｄ＝　ｔｏ。

９５≧ａ≧４０゜ ５６≧ｂ≧１゜ ９６≧ａ＋ｂ≧５０゜ ｌＯ≧Ｃ≧　１＋ ５０≧ｄ≧３ の数イメ１条件を満たす共重合体樹脂を主成分としてな
る光デイスク基盤が提供される。

本発明においてメタクリル酸メチル中量体の含有ｊ１：
ａは、９５≧ａ≧４０とされる。ａが４０　屯ｒＬ％未
満のときは、複Ｊ＋’＋ｉ折が大きくなり好ましくない
。

−１−限は他成分の必要性から９５玉量％以丁に限定さ
れる。

本発明において、芳香族ビニル化合物７７Ｌ：’、に体
としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチル
スチレンまたはそれの混合物が挙げられる。

芳香族ビニル化合物中位は共重合体樹脂の熱変形温度の
１−）Ｖ、飽和吸水率の低下に寄グーする。

よってこの単位の含有率すは５６≧ｂ≧１とされ、ｌ　
Ｊ　Ｉｌｌ：５未満であるとこの単位の寄与がなくなり
、５６屯Ｉ、Ｙ％を越えると共重合体樹脂の複屈折を増
大せしめて好ましくない。

不飽和脂肪酸ｍ　星体としてはアクリル酸、メタクリル
酸またはそれの混合物が挙げられる。

一般式： （式中のＲ１及びＲ２は水素原子又はメチル基、Ｒ３は
水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール
基である。） で示される六員環イミド単位は、共重合体樹脂゛の熱変
形温度のＬ昇に寄与する。この六員環イミド中位の含有
ｒ、ｌ　ｄは、５０≧ｄ≧３の範囲とされる。ｄが３重
量％未満では熱変形温度が１００℃未満になり好ましく
ない、好ましい範囲は１０〜２２．５重量部が望ましい
。ｄが５０重量％を越えると成形加工が困難になり好ま
しくない。

不飽和脂肪酸単量体単位の含有ｑ　Ｃは、ｌＯ≧Ｃ≧１
の範囲とされる。不飽和脂肪酸中量体単位の仕込量の全
量を六員環無水物中位に変換させることは不可能であり
、必然的に１重量％以１−になってしまう。また、Ｃが
１０ＴｉＧ”ｃ％を越えると、吸水イｌが大きくなり好
ましくない。

メタクリル酸メチル単位の含有：Ｉ’＋：　ａと芳香族
ビニル化合物中位の含有量すの合計量ａ＋ｂは、９６≧
ａ＋ｂ≧５０の範囲とされる。ａ＋ｂが５０重量％以上
であれば、複ｈ：折がＤＲＡＷまたはＥ−［ＩＲＡＷ規
格の４０または２０ｎｍ以下を達成することが出来る。

ａ＋ｂの１ユ限は、他の成分の心安性から９６　％　１
１Ｆ：％以ドに限定される。

本発明の共重合体は、温度２５°Ｃのクロロホルムに該
共重合体０．１５０ｇを含有させた溶液０．５ｄβの還
元粘度ηｓｐ／Ｃが０．１〜２　ｇ／ｄｊ）であるのが
好ましい。ηｓｐ／Ｃが０．１ｇ／ｄβ未満の場合は機
械的にもろくなり、２　ｇ／ｄＩ！を越えると成形性、
ｈ）産性、転写性が悪くなり工業的ではない。

本発明の共重合体を得るには、懸濁重合、塊状重合、溶
液重合等公知の重合法により」二記メタクリル酸エステ
ルとモノアルケニル芳香族生量体とを共重合させること
により得られる。

塊状重合により重合させる場合には、熱的単州体状Ｍ離
ラジカルや電離性放射線照射により重合を開始させるこ
とができるが全ての遊離ラジカル生成性触媒によって重
合を開始することができる。具体的には、アセチルパー
オキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパ
ーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド、クメンヒ
ドロペルオキシドのようなヒドロペルオキシド類、ジー
ｔａｒｔ−ブチルペルオキシドのようなアルキルペルオ
キシド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチル
パーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエ
ートのようなパーオキシエステル類、２．２′−アゾビ
スイソブチロニトリルのようなアゾ化合物等が例示され
る。この場合、高変換度における粘度を制御することを
目的にトルエン、キシレン、エチルベンゼン、エチルト
ルエン、エチルキシレン、ジエチルベンゼン、ベンゼン
等のような希釈剤を？ｒＬ量体の２〜２０％量加えるこ
とができる。

また、懸濁重合により重合させる場合には１重合開始剤
としては、媒体（主として木）に難溶で中１１Ｆ体に易
溶性の重合開始剤を用いる。このような重合開始剤とし
ては、過酸化アセチル、過酸化ラウロイル、過酸化ベン
ゾイルなどの過酸化ジアシル、２．２′−アゾビスイソ
ブチロニトリルなどが用いられる。ｊｆＬ、％体を水の
中へかきまぜて分散させるのに分散の安定剤、補助安定
剤を添加してもよい。このような安定剤を用いる場合は
水溶性高分子−が用いられる。通常の懸濁重合の分散安
定剤として用いられる難溶性の微粉末状の無機化合物は
用いることができない。本発明の樹脂は高度の透明性が
要求されるからである。

また、」−記各種重合法においては、メルカプタン、ジ
スルフィド、ハロゲン化物、テルペンのような分子ｌＩ
￥調節剤、又更に安定剤等を混入することが往々にして
望ましい。

また、本発明における中間生成物としての六員環酸無水
物中位を有する共重合体は、例えばモノアルケニル単量
体とメタクリル酸メチルとメタクリル酸又はアクリル酸
とを適当な溶媒例えばエチルベンゼン中に溶解し、重合
開始剤として１．１−ジーｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ
シクロヘキサンを用い、約１３０℃の温度において反応
率５０％程度まで重合させ、次いでこの反応混合物を１
〜１０Ｔｏｒｒの減圧下で２６０°Ｃ程度の高温におい
て５〜６０分間保持して溶媒及び未反応ｔｒＬ量体を除
去するとともに、ポリマー鎖中の不飽和脂肪酸の分子内
縮合による環化を起させ、六員環無水物１１位を形成さ
せることにより得られる。

この六員環酸無水物を全量法の一般式 （式中のＲ１及びＲ２は水素原子又はメチル基、Ｒ３は
水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール
基である。） のような六員環イミド単位に変性することにより、耐熱
性が一層向上した樹脂が得られる。この人員環イミドの
共重合体樹脂を得るためには、六ｔｌＪ？：ｉ酸無氷物
弔位を六員環ゴミ１１１位に変性することが心安であり
、この変性にはアンモニア、脂肪族、脂肪族第一級アミ
ン、芳香族アミンなどが用いられる。アンモニアとして
は、液状アンモニア、アンモニアガス、アンモニア水が
用いられ、脂肪族、脂肪族第一級アミンとしては、例え
ばメチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、
１ｓｏ−プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミ
ン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、アリルア
ミンなどが挙げられ、これらは水溶液としても用いるこ
とができる。芳香族アミンとしては、例えばアニリン、
０−トルイジン、ｐ−トルイジン、ｏ−クロロアニリン
、ｐ−クロロアニリン、２．４．６＝）リクロロアニリ
ン、α−ナフチルアミン、β−ナフチルアミンなどや、
あるいはベンジルアミン、ＤＬ−、Ｄ−又はＬ−α−フ
ェネチルアミン、β−フェネチルアミンなどが挙げられ
る。さらに、２−ジエチルアミノエチルアミンのような
ポリアミン類や、インプロパツールアミンのようなヒド
ロキシルアミン類も使用でき、また尿素水溶液もアンモ
ニア水と同様に使用できる。

本発明の共重合体の前駆体である六員環無水物中位を含
有する共重合体の製造については、通常のラジカル共重
合法のいずれを使用してもよいが、特に連続塊状重合法
又は連続溶液重合法が望ましく、さらに共重合体の組成
をできるだけ均一にする点で、重合反応器は完全混合型
が好ましい。連続溶液重合法の場合、溶剤としては、例
えばトルエン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ｊＲ２＜’　数
１〜６のアルキル又はシクロアルキルアルコール類、テ
トラヒドロフランやジオキサンなどのエーテル類、エチ
レングリコールモノアルキルエーテル類などが用いられ
る。

次に、この六員環酸無水物単位を六員環ゴミ１１１位に
変性する方法としては、種々の方法が使用できる。例え
ば、オートクレーブ中に反応前駆体として、メタクリル
酸メチル単位２９〜９５　７１１％、芳香族ビニル化合
物単位ｌ〜（ｉ　７　毛！Ｊ％、アクリル酸又はメタク
リル酸ｒ１位ｌ〜１０重量％及び六員環無水物中位１〜
５　Ｑ　東ｊｊ−％から成る共重合体を仕込み、溶液状
態でアンモニア水を注入して反応させ、さらに２５０℃
の温度で２時間浸してイミド化するといった方法を使用
できる。また、押出機を用い、前駆体である前記共心合
体を連続して溶融したのち、アンモニア水やシクロヘキ
シルアミン、アニリンなどを連続して注入し、その後減
圧室でイミドに環化させるといった方法も使用ｒｉ（能
である。

このようにして得られた本発明の共重合体は、分子−間
で架橋するといった不都合（ゲル化）は全くなく、有機
溶剤、特にジメチルホルムアミドにｉｉ）溶であって、
完全に熱可塑性である。

本発明の耐熱共重合体は加熱変形温度が１１０℃を超え
るものであり、また窒素気流中における熱天秤による加
熱減債測定において、１０℃／分の昇温時、Ｉ　Ｗ　＋
１１％減少が５００℃以ヒといった優れた熱安定性を示
し、その上機械的強度及び耐油性がポリメタクリル酸メ
チルに匹敵するなど、極めて優れた特徴を右している。

複に−＋ｉ折が人であると光学式高密度情報再生装置に
おいて該光ディスクに記録された情報を再生する場合に
レーザー光線の反射効率が低ドし、再生度が悪くなり好
ましくない。また該装置の各種制約り該光ディスクの樹
脂部分の複屈折が４０ｒ＋＋ｗ又は２０ｎｍ以ｒが望ま
しい。

視力１；折は各種要因により決まるものであるがその要
因およびその要因の複屈折におよぼす影響はいまだ明確
になっていない６本発明名等は各種検討をかさねた結果
、樹脂の種類および樹脂の組成分子ｈ１１、等を検討し
た結果、複屈折との関係を明確にし、さらに前述の各種
要求性能を満足し、かつ比較的安価な樹脂即ち工業的に
最適な樹脂を見出したものである。

Ｌ記樹脂の基本構成以外にも実際の光ディスクを作る場
合、該光ディスクの製造法（成形法）が複ｈ−ｄ折にお
よぼす影響も無視しえない、成形法としては各種考えら
れるがその生産性１寸法精度等より射出成形が一番すぐ
れていると考えられる。

射出成形はその成形原理より考えて樹脂の流れ方向と流
れに直角方向により各種物性に差異を生じ光学的性質に
も差異を生じる。即ち樹脂の流れ方向の屈折イＢｒ＋＋
）と流れに直角方向（Ｒ２）の屈折率に差がありその差
Δｎ＝ｎ１−ｎ２が複屈折率である。

換１；−すると成形条件により複ｋＩＩ折率Δｎ、複屈
折Ｒが大きくなったり小さくなったりする。両者の関係
は次式で表わされる。

Ｒ＝ΔｎＸｄ ｄ：試験片厚み 一方、世の中にある各種射出成形機、成形温度、金型温
度、金型デザイン（ゲートデザイン、ランナー径、ラン
ナー長さ）笠を全て定量化し複Ａ＋’、折との関係を明
確にすることは不Ｉ＋（能である。

そこで大体の傾向とその中でも複屈折に一番影響を′ｊ
−えると考えられる成形温度につき検討した結果、成形
温度をＩＳＲさせると複屈折は減少する°バがわかった
。ただ、成形温度は無限にとげることは不’ｕ（能であ
りシリンダ一温度は該樹脂の熱分解温度が上限であり金
型温度は離型性より考え加熱変形温度が上限である。

そこで本発明者等は本樹脂の！ｌＩ＆等最適等電適化る
条件に下記条件を設定した。成形温度は該樹脂の上限温
度に近い温度を設定した。

射出成形ａ　　：インライン型射出成形機（名機製作所
：ダイナメルター Ｍ７０Ａ−Ｄ） 金　　型　　　　：　ＤＲＡＷ用ディスク金型（１２７
ｍｍ直径円板、１．２ｍｍ厚み）シリンダ一温度＝３０
０℃ 金型温度ニア０℃ 一例を示すと、本発明の共重合体樹脂において、ＭＭＡ
　／スチレン／メタクリル酸／六員環イミド＝　６５／
２０／　４／１１　（重州％）、温度２５℃のクロロホ
ルムにポリマー０．１５０ｇを溶解した溶液０．５ｄＩ
！の還元粘度ηｓｐ／Ｃが０．５ｇ／ｄｉ’のポリマー
を前記成形条件のうちシリンダ一温度を３００℃、３２
０℃と変化させた場合の乎均複屈折Ｒは各々１５．１０
ｎｍであった。

また、上記特定の共重合体に分子量３５０以上のヒンダ
ードフェノール化合物を１１００ｐｐ〜１１００００ｐ
ｐ添加すると成形時における発泡性が抑制され更に好ま
しいものとなる。

ヒンダードフェノール化合物とは、フェノール性木酸ノ
、（の２つのオルト位のうち少なくとも１箇所がバルキ
ーな置換基で置換された化合物を意味する。

好ましい例としては一般式： （式中Ｒ１は水素原子又はアルキル基、　Ｒ２は水素原
子又はアルキル基、　Ｒ３は有機置換人しＲ４は水素原
ｒ−１Ｒ５はｔ−ブチル基である） で示される分子ｒｊ：　３５０以上のフェノール化合物
が挙げられる。この有機置換基Ｒ３としては、その有機
置換基中に更に１個以上のヒーダードフェノールの構造
を右する構造のものが好ましい。

また、具体的な化合物名を例示すれば下記の通りである
。

ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート
１　　　　　　　　　　（分子量１１７６．６）１．１
．３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−３−ｔ−
ブチル−フェニル）ブタン　　（分子１５４４．８３）
ｎ−才クタデシル−３−（４’−ヒドロキシ−３’　、
５’　−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）プロピオネート（
分子量５２０．９） トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベ
ンジル）インシアヌレート　　（分子量７１２）トリエ
チレングリコール−ビス−３−（３−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）プロピオネート　
　　　　　　　　　（分子量５８６．８）４．４′−ブ
チリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル−フェノ
ール）　　　　　　（分子量３８２．６）トリス〔β−
（３，５−ジ−ｔ−グチル−４−ヒドロキシ−フェニル
）プロピオニルオキシエチルコインシアヌレート　　　
　　　　　（分子量１０４５）４．４′−メチレン−ビ
ス（２，６−ジー【−ブチル）フェノール　　　　　　
　　　　（分子量４２５）１．３．５−　トリーメチル
−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−ベンジル）ベンゼン（分子ｊ、′Ｌ７６１
．１） ヘキサメチレングリコールビス［β−３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ−Ｉ・（
分子量５２４．８） ビス【３，３−ビス（４′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブ
チル−フェニル）ブチリックアシッドコグリコールエス
テル　　　　　　　　　　　（分子量−７９３）なお、
透明性その他の物性を損わない限り、離型剤、帯電防止
剤、その他の添加剤を樹脂に添加することは自由である
。

次に図面を挙げて光ディスクの概略を説明する。第１図
は、光ディスクの一例の作動状ｊＬを示す説明図、第２
図は第１図の光ディスクの拡大上面図である。第１図に
おいて１は上記特定の樹脂よりなる樹脂層、２は金属蒸
着などによって積層された金属膜である。３は樹脂層ｌ
の凸部である。金属膜２の方に着目して、金属膜２を１
つの層としてとらえると樹脂層１の凸部３の部分は、金
属膜２ではピット４の部分になる。このピット４はｌｔ
Ｊ約１．０〜１．５給、深さ０．１〜０．２ル、そして
長さは最小１−１．６１Ｌに構成しである。このような
ピット４は盤面全体から見れば渦巻状の線に沿うように
密に配夕１される。この配列状態を示す拡大上面図を第
２図として示す０次に、第１図に　゛おいてレーザー光
線５を半透明鏡６に進行させると、光線の半分は直進し
、もう半分は樹脂層ｌに垂直に入射し、樹脂層ｌを通過
し、次いで金属膜２により反射され、反射光は半透明鏡
６で更に反射されて、直進した光と同一の光路をたどる
。これにより直進する光と金属膜２、半透明＃ｌａ６を
経てきた反射光には金属膜２の凹凸により該レーザー光
線反射部位より光路差（従って、位相差）ができる。そ
こで、板状体全体を回転させるとピット４と１１担部７
とが種々の間隔で表われ、それに応じて光路差が変化し
、光路差の変化に基づいて、直進光と反射光とが干渉し
合い、光ディスクの凹凸の形の情報がレーザー光線の強
弱及びその強弱の時間的長さという信１）に変換される
。この４号を電気信号に変換し、更に音として再生する
ものである。

この光ディスクを製造するには、まず、前述の特定の樹
脂を例えば射出成形のような成形法により成形して片面
に微小な凹凸を付した板状体を得る。次に、得られた板
状体の凹凸面に金属膜を形成する。樹脂の板状体に金属
膜を形成するには、金属蒸着による方法が好適に適用さ
れる。金属膜の金属としては、アルミニウム、金、白金
、銀、銅等が用いられるが、アルミニウムが安価で実用
的である。

この表裏両面を記録面として用いることのできる光ディ
スークの断面図を第３図に示す。第３図の記録媒体は、
前述のようにして得られる片面を記録面とした板状の積
層物２枚を金属膜２面どうしを、例えば接着剤８Ｔによ
り貼り合わせるなどして一体化することにより製造する
ことができる。

なお１本発明に係る光デイスク基板用共重合体樹脂の物
性は下記の４４を満足するものである。

表　　　　１ なお、」二記表１及び以下の実施例における各物性は下
記のようにして測定したものである。

［１１複屈折 （’ｆ）　　Ｅ−ＤＲＡＷディスク用基板の成形品（直
径１２７ｍｍ　、厚み１．２ｍ■の溝無円板）につき、
日本光学工業株式会社ＸＴＰ−１１型偏光顕微鏡を利用
して、光源をＨｅ−Ｍｅレーザー光線としてセナルモン
コンペンセーター状にてリターデーション（１，２ｍｍ
Ｊｆｆみダブルパスにおける値）を測定０判定基準は次
の通り。

複屈折（ｎｍ） Ｏ：２０未満（Ｅ−ＤＲＡＷ規格） ６２４０未満（ＤＲＡＷ規格） Ｘ：４０以上 （リ　６０℃〜７０℃における経時変化Ｏ：経時変化が
ほとんどなし。

×：経時変化する。

０）複屈折におけるＨｅ−Ｎｅレーザー光の入射角依存
性 Ｏ：入射角依存性なし。

×：入射角依存性あり（入射角の変化により複ＪｒＩ’
＝折が大きくなる。）。

［２］耐熱性 ＪＩＳ　Ｋ　７２０７に従い、１８．６ｋｇ／ｃ＋５２
ｃ７）荷重下で加熱変形温度を測定０判定基準は次の通
り。

加熱変形温度（℃） Ｑ　：　１１０以上 Δ：１００以上 Ｘ　：　１００未満 ［３］ｍｌＪ性（レーザー光線透過率）ＪＩＳ　Ｋ６７
１８　　（Ａ法）に従い、積分球式光線透過イｌ測定装
置を使用して測定する。

透過率（％） ０　：　９０以上 ×：９０未満 ［４１転写性（信号評価） 中−０時例えば５００キロサイクルをカッティングした
スタンパ−で成形したディスクを１■生して、■３〜Ｐ
、Ｐ信号をとりピークの■高さ、■］１］。

り３）ピークゆがみをみて転写性を判定する。

転写性（信号評価） Ｏ：ピークの高さ、［Ｄ、ピークの形にゆがみがなく一
定 ×：ピークの高さ、巾、ピークの形にゆがみがみられる
。

［５１酸素透過率 ７１１１定装置は製科研式フィルム酸累透過計で測定し
た。

酸素透過率［ｃｃ（ＳＴＰ）ｃｍ／ｃｍ２−ｓｅｃ−ｃ
ｍＨｇｌＱ　：　１０’２以上 Ｘ　：　１Ｏ−１部未満 （６］表面硬度（耐キズ性） ディスク表面硬度を鉛筆硬度により判定。

鉛筆硬度 Ｑ　：　８８以上 Ｘ：Ｈ８未満 ［７］記録ｏｒ；ｐ　＜感剤）との密着性と均一性Ｏ：
６５°ｃ　Ｘ　９０％ＲＨＸ　１０００Ｈｒｃ７）環境
試験にてＡｉ）、Ｔｅ系、　（Ｔｅ、　Ｇｄ）、　（Ｆ
ｅ、　Ｇｏ）等の膜の孔蝕無（密着性保持） ×：６５°Ｃ×９０％ＲＨＸ　ｌ０００Ｈｒ（７）環境
試験にてＡＰ、Ｔｅ系、　　（Ｔｅ、　Ｇｄ）、　（Ｆ
ｅ、　Ｃｏ）　”ｆ−の膜の孔蝕右により密着性が悪く
な る。

［８］　ゴ　ミ　・　’１ｊａｌＱ レーザー光散乱方式光散乱−のＨＩＡＣ／ＲＯＹＣＯ液
体微粒子−カウンターＭｏｄｅｆｆ　４１００を使って
、光ディスクツ、（板用共重合体樹脂のＩｇを１，２−
ジクロルエタン２５０ｍｊ）に溶解させてゴミ・混濁の
個数を測定した。

ゴミ・混濁 Ｑ　：　１０〜２５ル未満の範囲で２００個未満Ｘ　：
　１０〜２５終未満の範囲で２００個以ｌ。

【９１耐溶剤性 Ｏ：基板の樹脂中の不純物が少なくて、かつ感剤を劣化
させない。

×：基板の樹脂中の不純物１例えば重合溶剤の存在、具
体的にはハロゲン系の溶 媒が残っているため、それが感剤を劣 化させる。

【１０１碕産性（１＆形ａ） Ｏ：射出成形、射出・圧縮成形及び圧縮成形で成形可能
で、かつ不良率（成形時 の焼は及びスクリュー摩耗などによる 異物混入）が少ない。

×：射出成形、射出・圧縮成形及び圧縮成形等で成形可
能であるが、不良率（成 形時の焼は及びスクリューＪ９！耗などによる異物混入
）が高い。

［実施例］ 次に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明する。

実施例１ スチレン１５屯ら１部、メタクリル酸１５重量部、メタ
クリル酸メチル７０屯に部、エチルベンセフ２０重ｚＸ
Ｌ部及びオクチルメルカプタン０．０５重量部から成る
混合液を調製し、この混合液を０．５文ハｒの速度で連
続して内容積２９．の完全混合反応器に供給して重合を
行った。重合開始剤として１．ｌ−ジーｔｅｒｔ−ブチ
ルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン
を用いた０重合温度は１１７℃であり、固形分３９重量
％の重合反応液を連続して高温ｆｌ空室へ供給して、未
反応物及び溶剤を除去し、かつ六員環酸無水物の生成を
行った。この生成共重合体の組成分析の結果、スチレン
１５屯％、メタクリル酸メチル中位６５重量％、メタク
リル酸中位５重量％、六員環酸無水物ｒｌｉ位１５屯ｒ
、艷％であった・ このようにして得た共重合体０．５　ｋｇをペレットと
して５２のオートクレーブに仕込み、次いでジメチルホ
ルムアミド３．０ｋｇを役人し、かきまぜて全ｊｌ（溶
解後、六員環酸無水物中位量に対し２当州のアンモニア
を含有する２８％アンモニア水を仕込み、１５０℃、２
時間処理した。反応液を取り出し、ｎ−へキサンでポリ
マーを析出、精製後このポリマーを２５０℃、２時間、
１０ｔａｒｒの揮発炉で処理を行った。最終的に得られ
た生成物はほとんど無色透明で、その赤外分光光度計に
よる測定より、六員環酸無水物に特徴的な１８００Ｃ１
１１及び１７６０ｃｍ　ｌの吸収が消失し、同時に１７
００ｃｍ−１の新しい吸収から六員環イミドの生成が認
められた１元素分析の窒素含有ら」より、六員環イミド
中位は１５重ｊｉ￥％であった。

？！ｌ！度２５°Ｃのクロロホルムに該共重合体０．１
５０ｇを含有させた溶液０．５ｄｆＬの還元粘度ηｓｐ
／Ｃは０．４であった。

Ｌ記の共重合体につき、光ディスク盤材としての評価を
行なった。結果を表２に示す。

実施例２〜６ 共東合成分の配合！ＩＹ′″ｇ−を変化させ、実施例１
と略同様に操作して、表２に示す共重合体樹脂を得、光
ディスク盤材としての評価を行なった。結果を表２に示
す。

比較例１．２ ポリカーボネート′［帝人化成株製パンライトＡ口５５
０３］（比較例１、ポリメタクリル酸メチル（旭化成工
業林製デルペット９８Ａ　、　２５℃、１０玉量％メチ
ルエチルケトン溶液粘度１０ｃｐｓ）（比較例２）につ
いて、上記と同様の物性を測定した。結果を表２に示す
。

比較例３〜６ 表２に示す共重合体樹脂を得、」；記と同様の物性を７
１１１定した。結果を表２に示す。

比較例７ ガラスについて、上記と同様の物性を評価した。結果を
表２に示す。

比較例８ ポリスチレン（旭化成丁業■製スタイロン６６６）につ
いて同様の物性を測定した。結果を表２に示す。

４．１Δ面の筒？ｌｉ、な説明 第１図は光ディスクの作動状ｙムを示す説明図、第２図
は光ディスクの一実施例の一部分の拡大上面図、第３図
は表裏両面を記録面として用いることかできる光ディス
クの断面図である。

ｌ・・・樹脂層、２・・・金属膜、３・・・凸部、４・
・・ビット、５・・・レーザー光線、６・・・半透明鏡
７・・・４１担部、８・・・接着剤。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）（Ａ）メタクリル酸メチル単位と、 （Ｂ）芳香族ビニル化合物単位と、 （Ｃ）不飽和脂肪酸単量体単位と、 （Ｄ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１、Ｒ＿２は水素原子またはメチル基、Ｒ＿
   ３は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはア
   リール基である。） で示される六員環イミド単位の４種の繰り返し単位がラ
   ンダムに配列された分子構造を有し、かつ（Ａ）、（Ｂ
   ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の各単位の含有量をそれぞれａ、
   ｂ、ｃ及びｄ重量％としたとき、 ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００ ９５≧ａ≧４０、 ５６≧ｂ≧１、 ９６≧ａ＋ｂ≧５０、 １０≧ｃ≧１、 ５０≧ｄ≧３ の数値条件を満たす共重合体樹脂を主成分としてなる光
   ディスク基盤。 ２）芳香族ビニル化合物がスチレン、α−メチルスチレ
   ン、ｐ−メチルスチレンまたはそれの混合物である特許
   請求の範囲第１項記載の光ディスク基盤。 ３）不飽和脂肪酸単量体がアクリル酸、メタクリル酸ま
   たはそれの混合物である特許請求の範囲第１項記載の光
   ディスク基盤。