JPS63162289A - 熱硬化性樹脂体へのレ−ザマ−キング方法 - Google Patents

熱硬化性樹脂体へのレ−ザマ−キング方法

Info

Publication number
JPS63162289A
JPS63162289A JP61309638A JP30963886A JPS63162289A JP S63162289 A JPS63162289 A JP S63162289A JP 61309638 A JP61309638 A JP 61309638A JP 30963886 A JP30963886 A JP 30963886A JP S63162289 A JPS63162289 A JP S63162289A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
resin body
marking
laser
black
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP61309638A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH059274B2 (ja
Inventor
Osamu Sato
修 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP61309638A priority Critical patent/JPS63162289A/ja
Publication of JPS63162289A publication Critical patent/JPS63162289A/ja
Publication of JPH059274B2 publication Critical patent/JPH059274B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Duplication Or Marking (AREA)
  • Details Of Resistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は熱硬化性樹脂体への・レーザマーキング方法に
関する。
〔従来の技術〕
従来、樹脂体へのレーザマーキングは主として粉末材料
をトランスファ成形した樹脂体について行われていた。
最近トランスファ成形樹脂体上のレーザマーキングを修
理する場合に既にマーキングされた文字を液状の熱硬化
成樹脂体にて隠蔽し、樹脂体を硬化させた後に再度レー
ザマーキングを施すなど液状熱硬化樹脂体を硬化させた
樹脂体にレーザマーキングを施す必要が生じて来た。
しかしながら液状熱硬化性樹脂体を硬化させる過程で表
面近くの硬化剤が蒸発したり吸湿することによって劣化
し内部は完全に硬化しても表面近傍は未硬化の状態のま
まで、この表面にレーザマーキングを施すためにレーザ
光を照射しても熱によって表面が溶解するのみで鮮明な
マーキングは得られなかった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述したように、従来の液状の熱硬化性樹脂体は硬化さ
せる過程で表面近くの硬化剤が蒸発したり吸湿すること
によって劣化し、内部は完全に硬化しても表面近傍は未
硬化の状態のままで、この表面にレーザ光を照射しても
熱によって表面が溶解するのみで鮮明なマーキングは得
られないという問題点があった。
本発明の目的は、熱硬化性樹脂体の表面にレーザ光を照
射し、鮮明なマーキングを得る熱硬化性樹脂体へのマー
キング方法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の熱硬化性樹脂体へのマーキング方法は、液状樹
脂を硬化させた樹脂体表面を研磨して未硬化層を除去す
る工程と、前記樹脂体の表面にレーザ光を選択的に照射
し変質させてマーキングする工程とを含んで構成されて
いる。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図(a)〜(c)は本発明の第1の実施例を説明す
るための工程順に示した樹脂体の表面近傍の断面図であ
る トランスファ成形樹脂体1表面に黒色液状樹脂組成物を
塗布し硬化させる。黒色の熱硬化性樹脂体2は、硬[ヒ
する過程で硬化剤が蒸発しなり吸湿劣化するために生じ
た未硬化層4と完全に硬化した内部の硬化層3により構
成されている。表面の未硬化層4を研磨することにより
除去し完全に硬化した内部の硬化層3を表面に露出する
。完全に硬化した黒色の硬化層3の表面にYAG (イ
ツトリウム・アルミニウム・ガーネット)レーザマー−
キング機からレーザ光を照射しマーキングを行う、黒色
の硬化層3はレーザ光の照射により文字に相当する部分
の硬化層3中の顔料が酸化または分解して白色変質層5
に変化する。そのためレーザ光の照射部と非照射部に良
好なコントラスが生じ鮮明なマークが得られる。
第2図は本発明の第2の実施例を説明するための半導体
装置の断面図である。
半導体素子8を直接熱硬化性樹脂体2で封止する。絶縁
基板6の表面に金属のアイランド9及び金属配線7を設
け、半導体素子8をアイランド9に固着し、結線する。
そして黒色の熱硬化性樹脂体2で半導体素子8を封止し
熱硬化する。この熱硬化過程で硬化剤が蒸発したり、吸
湿劣化するために生じた未硬化層を研磨除去し硬化層を
表面に露出させ、YAGレーザマーキング機がらレーザ
光を照射し白色の変質層5を形成させることにより鮮明
なマークが得られる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明は、液状樹脂組成物を硬化
させた熱硬化性樹脂体表面の未硬化層を研磨した後レー
ザ光を照射してマーキングすることにより、鮮明なマー
クが得られる。
なお、熱硬化性樹脂体の顔料は黒色に限らす白または黄
色とコントラストの良い暗色系の顔料であれば同様の効
果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(c)は本発明の第1の実施例を説明す
るための工程順に示した樹脂体の表面近傍の断面図、第
2図は本発明の第2の実施例を説明するための半導体装
置の断面図である。 1・・・トランスファ成形樹脂体、2・・・熱硬化性樹
脂体、3・・・硬化層、4・・・未硬化層、5・・・変
質層、6・・・絶縁基板、7・・・金属配線、8・・・
半導体素子、9・・・アイランド、10・・・ボンディ
ングワイヤ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 液状樹脂を硬化させた樹脂体の表面を研磨して未硬化層
    を除去する工程と、前記樹脂体の表面にレーザ光を選択
    的に照射し変質させてマーキングする工程とを含むこと
    を特徴とする熱硬化性樹脂体へのレーザマーキング方法
JP61309638A 1986-12-26 1986-12-26 熱硬化性樹脂体へのレ−ザマ−キング方法 Granted JPS63162289A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61309638A JPS63162289A (ja) 1986-12-26 1986-12-26 熱硬化性樹脂体へのレ−ザマ−キング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61309638A JPS63162289A (ja) 1986-12-26 1986-12-26 熱硬化性樹脂体へのレ−ザマ−キング方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63162289A true JPS63162289A (ja) 1988-07-05
JPH059274B2 JPH059274B2 (ja) 1993-02-04

Family

ID=17995447

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61309638A Granted JPS63162289A (ja) 1986-12-26 1986-12-26 熱硬化性樹脂体へのレ−ザマ−キング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63162289A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04111747U (ja) * 1991-03-15 1992-09-29 ソニー株式会社 モールドicパツケージのマーキング
JPH0817951A (ja) * 1994-06-27 1996-01-19 Nec Corp 半導体装置
JP2006344994A (ja) * 2006-08-28 2006-12-21 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04111747U (ja) * 1991-03-15 1992-09-29 ソニー株式会社 モールドicパツケージのマーキング
JPH0817951A (ja) * 1994-06-27 1996-01-19 Nec Corp 半導体装置
JP2006344994A (ja) * 2006-08-28 2006-12-21 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH059274B2 (ja) 1993-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69129668T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit einer bei niederer Temperatur ausgehärteten Epoxy-Vergussmasse
JPH05211381A (ja) 混成集積回路の製造方法
JPS63162289A (ja) 熱硬化性樹脂体へのレ−ザマ−キング方法
JP2615596B2 (ja) レーザマーキング方法
GB1574356A (en) Electrical components
EP0259727A3 (de) Verfahren zur Herstellung wärmebeständiger strukturierter Schichten auf Epoxidharzbasis
ATE12705T1 (de) Verfahren zur herstellung hochwaermebestaendiger reliefstrukturen und deren verwendung.
TWI753169B (zh) 加工對象物切斷方法
FI873945A (fi) Foerfarande foer framstaellning av vaermebestaendiga strukturerade skikt.
JPS5867496A (ja) マ−キング方法
SE8107241L (sv) Forfarande for framstellning av ledande beleggningar
JPS6227521B2 (ja)
JPS63124537A (ja) 樹脂封止型半導体装置の余剰樹脂の除去方法
JPS60204392A (ja) 半導体装置のマ−キング方法
JPS62232148A (ja) 半導体装置の再捺印方法
JP2777500B2 (ja) 半導体装置の保護層の形成方法
JPS60208869A (ja) 光起電力素子の製造法
JPS55165640A (en) Manufacture of semiconductor device
JPH01300531A (ja) 半導体素子の封止方法
JPH038390A (ja) 電子部品搭載用基板の製造方法
JPH0249635B2 (ja) Makiekeiseiho
JPH0444343A (ja) 半導体装置の製造方法
KR890007620A (ko) 프린트 회로의 제조방법
JP4388222B2 (ja) 光に感応する素子を有するモジュールおよびその製造方法
JPH06326219A (ja) 電子部品の製造方法