JPS62232148A - 半導体装置の再捺印方法 - Google Patents

半導体装置の再捺印方法

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JPS62232148A
JPS62232148A JP61075789A JP7578986A JPS62232148A JP S62232148 A JPS62232148 A JP S62232148A JP 61075789 A JP61075789 A JP 61075789A JP 7578986 A JP7578986 A JP 7578986A JP S62232148 A JPS62232148 A JP S62232148A
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JP
Japan
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laser
imprinted
thermosetting resin
imprinting
laser light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61075789A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Sato
修 佐藤
Hiroshi Narita
成田 博史
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS62232148A publication Critical patent/JPS62232148A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L23/544Marks applied to semiconductor devices or parts, e.g. registration marks, alignment structures, wafer maps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置の再捺印方法に1銅し、将にレーザ
ーによる再捺目】方法に関する。
〔従来の技術〕
従来、半導体装置の捺印は熱硬化又は紫外線硬化型イン
クにて被捺印部にスタンプする方法で行なわれていた。
この方式では捺印文字を変更する場合、インクを拭き取
った後に再捺印する方法やインクを削シ取った後に再捺
印する方法が行なわれていた。最近になり、レーザーを
直接被捺印部に照射して彫り込むレーザー捺印方法が提
案され、実用化されつつある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
レーザー捺印では捺印を変更するために既に捺印芒れた
文字を消去する方法として研磨あるいはホーニングによ
り表面を削り取るという方法があるが、研削面にレーザ
ー捺印を施しても捺印文字の鮮明度も低く、実用に耐え
るものではなかった。
そのためにこれまではレーザー捺印された半導体装置の
捺印文字は変更できないものとされ、その半導体装置を
l15y!果せざるを得ないという欠点があった。
本発明は上記欠点を所消してレーザーによる捺印金谷易
に消去し、さらに鮮明な再捺印を可能にする方法を提供
することである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の半導体装置の再捺印方法は、半導体装置の捺印
面に熱硬化性m脂を塗布する工程と、この熱硬化性樹脂
を熱硬化する工程と、該熱硬化させた樹脂表面にレーザ
ー捺印する工程とを含むことを特徴とする。
〔実施例〕
本発明を半導体装置のレーザー捺印の修正に適用した一
実施例につき詳細に説明する。
第1図はレーザー捺印された半導体装置の捺印部を含む
断面図である。エポキシ樹脂1でモールドされた半導体
装置のレーザー捺印された樹脂の捺印面2は、捺印文字
の部分がレーザーにより加熱されて数μmだけ彫り込ま
れ、変質j@2aが生じている。この変7!I層2aの
色相と未照射部の色相のコントラストにより明瞭な捺印
がされている。
上記捺印を消去するために、8R2図に示すように黒色
の熱硬化性樹脂3を捺印面全表面に10〜15μm塗布
することにより変質層281に:穫って捺印を隠蔽し、
加熱処理を行って該熱硬化性樹脂3を硬化させる。
この熱硬化した耐脂の表面の捺印面4にYAG(イツト
リウム・アルミニウム・ガーネット)し−ザー捺印愼か
らのレーザー光を照射して、第3図に示すように捺印文
字の部分に深さ数μmの変質層4aを形成することによ
って、再捺印が施行される。
レーザー捺印はレーザー光を光路中におかれた文字マス
クを通過させる事によって文字形状に整形されたビーム
形状のレーザー光を該黒色の熱硬化性樹脂の捺印面に照
射することによって行なわれ、黒色の熱硬化性w脂はレ
ーザー光の照射により、文字に相当する被照射部分の熱
硬性樹脂中の顔料が酸化又は分解し、白色又は黄色の変
質IfjK変化する。そのためレーザー光の照射部であ
る変質層4aと捺印面4の未照射部に良好なコントラス
トが生ずる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明は、既に捺印されたレーザ
ー捺印を熱硬化性樹脂を塗布することにより隠蔽し消去
することにより、塗布した熱硬化性樹脂の表面にレーザ
ーによる再捺印が可能となり、このため、従来一度捺印
すれば変更することは不可能とされていたレーザー捺印
を変更することができる効果がある。
なお、既に捺印された面に竺布する熱硬化性樹脂の色相
は黒色に限らず、白色又は黄色とコントラストが良い暗
色系の色相のものでも同様の効果が得られる事は明らか
でるる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は本発明の一実施例を工程順に示す断
面図である。 1・・・・・・エポキシ(射指、2.4・・・・・・捺
印面、2a。 4a・・・・・・変質層、3・・・・・・熱硬化性樹脂
。 代理人 弁理士  内 原   晋  °゛牛 l 川 芽 2 図 茅 3 阿

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体装置の捺印面に熱硬化性樹脂を塗布する工程と、
    該熱硬化性樹脂を熱硬化する工程と、該熱硬化させた樹
    脂表面にレーザー捺印する工程とを含む半導体装置の再
    捺印方法。
JP61075789A 1986-04-01 1986-04-01 半導体装置の再捺印方法 Pending JPS62232148A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61075789A JPS62232148A (ja) 1986-04-01 1986-04-01 半導体装置の再捺印方法

Applications Claiming Priority (1)

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JP61075789A JPS62232148A (ja) 1986-04-01 1986-04-01 半導体装置の再捺印方法

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Publication Number Publication Date
JPS62232148A true JPS62232148A (ja) 1987-10-12

Family

ID=13586333

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61075789A Pending JPS62232148A (ja) 1986-04-01 1986-04-01 半導体装置の再捺印方法

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JP (1) JPS62232148A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04111747U (ja) * 1991-03-15 1992-09-29 ソニー株式会社 モールドicパツケージのマーキング

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61276236A (ja) * 1985-05-30 1986-12-06 Matsushita Electronics Corp 樹脂封止形半導体装置のマ−キング方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61276236A (ja) * 1985-05-30 1986-12-06 Matsushita Electronics Corp 樹脂封止形半導体装置のマ−キング方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04111747U (ja) * 1991-03-15 1992-09-29 ソニー株式会社 モールドicパツケージのマーキング

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