JPH03147849A - 印用蝋母型の成形方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は紫外線等の光の照射によって水成は有機溶剤に
対して不溶性となる高分子物質を原型材として作られる
原型にシリコンゴム等の中間型材を用いて形成する引用
蝋母型の印面部を鮮明な印影が得られるようにした引用
蝋母型の成形方法に関する。

［従来の技術］ 従来用いられている印には印材と印の成形方法とを異に
した色々な種類のものが用いられているが、印影を鮮明
に再現することができるものであって、しかも印面の使
用に伴う、老化ないしは劣化が少く、且つ印面が衝撃等
によっても欠損することのない金属製の印が多く用いら
れるようになった。

この金属製の印の成形方法にも種々のものがあり、グイ
キャスト成形によるものは金型の成形コストが高く、ダ
イキャスト装置の設備コストも割高であるため印のコス
トが極端に高いという問題点があった。

又、このダイキャスト成形に対し印稿を２膏板、粘土板
、ゴム板、木板に直接鉄筆、きり又は鋭利な刃物で彫り
つけ、又は印稿をこれらの板面に転写ないしは張りつけ
した状にで同様に彫込み、この彫込まれた面に溶かした
蝋を流して印面の母型を作ると共に、こＣ印面の母型に
螺装の銀を同質の螺材を用いて接着することによって印
の母型を作り、！に、この母型を利用して、ロストワッ
クスの手法により金属中の鋳込み成形をなす所謂ロスト
ワックス成形によるものは石膏板、粘土板、ゴム板ある
いは木板等に逐−印稿を距込む必要があり、この印稿の
彫込みに特殊な技術並びに熟練と多くの作業手間とが必
要であり、成形された金属中のコストは割高となり、又
印稿を彫込むために印稿と若干異なることが多く正確な
印面の成形には不向とされていた。

更に線間材の印面となる面に直接印稿を彫込むものもあ
るが、この場合蝋母型を成形するための原型を作る必要
がなくその分の手間が少くなるが、印稿の彫込みが難し
く、特殊な技術と熟練とが必要であり、又聞−の印面を
有する鋳造印の成形ができないという不都合があった。

このためこれ等の不都合な点をなくするため本出願人は
特開平１−１１８８２４号に係る印用蝋母型における印
面部の成形方法を提供した。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら線間型は印面部の原版における印面を構成
する線間の間隔が０．１ｍｍ未満となっている時には、
原型材にこの原版を重ねて露光させた後、未露光部分の
光不溶性化感光剤層を溶出させるための洗い出し時にこ
の線間に成形される溝は楔状断面となることから、線間
の間隔が狭いと、充分な深さの溝を形成することができ
ないため、この溝間に溜った朱肉等のために溝が詰り、
正確な印影が得られかなった。

又、原型材における光不溶性化感光剤層の厚さが０．３
■未満であると溝の成形が浅く、少しの朱肉が詰っても
鮮明な捺印ができず、逆に光不溶性化感光剤層の厚さが
２ＩＩ１１以上の厚さである場合には印として用いられ
るのは表層に近い溝部分であるため無駄な奥部が多くな
り、その溝奥部に朱肉が溜ったり、或は未露光部分の洗
い出し時に溝の広い部分は奥部まで洗い出せるため溝の
奥部が露光部分の直下際まで溶は出し、露光部分の直下
の前記感光剤層よりなる立上り部分が弱くなって崩れ易
くなったり、撓み易くなったりして鮮明で印稿に忠実な
捺印ができない等の問題点があった。

本発明は上記の問題点を解消し印影が鮮明なものとなる
ように改良した引用蝋母型における印面部の成形方法の
提供を目的としている。

［課題を解決するための手段］ 本発明は上記の目的を達成するために印面成形用の原型
材を光不溶性化感光剤層を有するものとして、この原型
材の前記感光材層の面に印の原板を重ねて光を照Ｑすし
て、その未露光部分を水、有機溶剤等で洗い出し、露光
して硬化した部分を残して印面の原型を形成する。

次にこの原型の印面部にシリコンゴム等の中間型材を注
入又は圧入して硬化させて中間型を形成させ、更にこの
中間型の印面部に蝋を注入又は圧入して成形した印面部
を有する引用蝋母型、又は前記中間型の印面部に蝋を注
入又は圧入して成形した印面部に蝋鈕を接着した引用蝋
母型を成形する成形方法において、前記印面部の原版の
印面を構成する線と線との間隔が０．１−一以上とされ
、又前記原型材の光不溶性化感光剤層の厚さが０．３〜
２間の範囲内にあるようにして引用！母型を成形するよ
うにしたものである。

〔作用〕

上記の構成とされた成形方法では原版を原型材に重ねて
露光し、未露光部分の光不溶性化感光材層を溶出させる
時に印面を構成する線間に洗い出しが充分に可能な間隔
を有し、又、原型材の光不溶性化感光剤層の厚味が印面
部の溝の深さの形成に適度な厚味となっているので鮮明
な印影が得られる充分な深さで印面を不安定にするよう
な無用な深さのない溝が構成される。

［実施例］ 以下本発明にか＼る印用蝋母型の成形方法を添付の図面
にもとづいて説明する。

１は印稿であって、この印稿通りの印面を有する印の製
作をなす。先ず、この印ｙ４１が透明のフィルム等に描
かれている場合には、このフィルム製の印稿１自体を原
版２として裏返し状に原型材３゛の光不溶性化感光剤層
３ａの面に添装して露光する。ここで原版２の印面を構
成する線間の間隔Ｓは０．１ｍｍ以上とされている。

又、一般的には印８％１を撮影したネガフィルム２ａを
同様に原版２として原型材３゛の光不溶性化感光剤層３
ａの面に添装して露光する。この際に、文字等の印稿１
を二眼レフカメラで撮影したネガフィルム２ａよりなる
原版２は第１図のようになっており、文字等の部分が抜
けた状態とされていることから第１図Ｂのように凸版状
に原型材３°の面に印面が形成される。そこで、このネ
ガフィルム２ａを反転してポジフィルム２ｂを用意し、
このポジフィルム２ｂを裏返し状にして原版２として原
型材３°の光子溶性化感光剤Ｊｉ１３ａの面に添装して
露光した場合、第１図口のように凹版状に原型材３′の
面に印面が形成される。

尚、原型材３°は、典型的には第２図のＡで示されてい
るようにベースフィルム３ｂの面にハーレーション防止
を兼ねた接着層３Ｃを介して光不溶性化感光剤層３ａを
設けた構造からなり、保護カバー３ｄによって光不溶性
化感光剤層３ａの感光が防止される構造とされている。

こＳで原型材３°の印面部の形成に用いられる光不溶性
化感光剤層３ａは、光とくに紫外線照射によって水ある
いは有機溶剤に不溶解性となる高分子物質が用いられて
おり、重クロム酸塩−ポリビニルアルコール感光剤、ジ
アゾニウム塩類、オルトキノンジアト類等のジアゾ感光
剤、アジド感光剤、ポリケイ皮酸ビニル、ポリアミド、
ジアクリレート類、不飽和脂肪酸エステル等が一般的に
用いられており、０．３〜２ｍ冒の範囲内の厚さｔに形
成されている。

次いで、印面を形成する原型材３゛を用いて線間型の印
面となる原型３を成形する手順を第２図のＡ−Ｆをもと
に説明する。先ず、用意した原型材３°の保護カバー３
ｄを剥離し、このカバー３ｄの剥離面にある光不溶性化
感光剤層３ａの面に原版２を密着状態で重ね、略５．Ｏ
ｃｍの距離からケミカルランプで３〜４分間露光４する
。この露光４後、水又は有機溶剤を用いて未露光部分を
ブラシ５あるいは高圧洗滌水等を用いて洗い出す。

更に、未硬化部分が充分に取り除かれた原型材３″の光
不溶性化感光剤層３ａの面をスポンジロール６を用いて
充分に水切りをした後、温風７で乾燥させる。か＼る水
洗い乾燥後に再度原型材３゛の光不溶性化感光剤層３ａ
の而に露光８を施し、未硬化部分が残らないようにする
。

このようにして成形した原型３では、原版２における光
の透過する部分の光不溶性化感光剤層３ａの部分が残り
、原型３における印面部を凸又は凹の状態で形成し、第
１図Ｂ及び口の状態とされる。

かくして形成された原型３を用いて、この原型３の印面
部にシリコンゴム或は２液タイプのウレタンラバー等の
中間型材９“を注入又は圧接して中間型９を形成する。

この中間型９の形成は型材９°の素材的な特性により種
々の方法でなされる６図示の第１図０５ハではペースト
状、軟質ゴム状ないしは溶液状の中間型材９゛を用いて
印面部の中間型９を形成するものであり、成形型１０ａ
と開き方１０ｂとの間に原型３を挾持し、成形型１０ａ
内に中間型材９°を注入又は圧入し、この中間型材９°
の冷却硬化、溶剤の揮散硬化、反応硬化等種々の経緯の
もとに中間型材９”の硬化（ゴム状物を含む）させて中
間型９とする。

かくして形成された中間型９を用いて、この中間型９の
印面部に蜜蝋、パラフィン、松脂、合成樹脂等を配合し
て作られた合成蝋又は低融点プラスチックス等からなる
ｖ１１１’　を注入又は圧入する。この蝋１１’の注入
又は圧入は、形成される線間型１１の形状と、成形型の
構造とによって随意の方法が用いられる。

図示の第１図Ｄ、二では、ｆｉｌｌ’を注入する筒状の
成形型１２ａと、この成形型１２ａとの間に中間型９を
挟持する開き型＋２ｂとを用意し、中間型９をセットし
た後、成形型１２ａ内に溶融した蝋１１°を注入し、こ
れを冷却硬化させて型外しを行って線間型１１の印面部
１１ａを形成する。

このようにして形成された印面部１１ａに別途蝋ＩＩ’
からなる１ｌｌｂを螺材を用いて接着して線間型ＩＩと
する。尚、この線間型１１は印面部＋１ａと、ｇＨｔｂ
とを別々に用意せず、第１図りの成形型１２ａを線間型
１１の注入型とすることによって一体に注入成形をなす
こともできる。

次いで、線間型１１に蝋１１°からなる鋳込口１１ｃ等
の鋳込みに必要とされる部分等を合成蝋等を用いて接着
で取付け、鋳込み用の完全な線間型１１とする。

かくして成形用意された線間型１１を耐熱性の特殊鋳型
砂１３ａで覆う。この耐熱性の特殊鋳型砂＋３ａは通例
インベストメント砂等と称されているものであって、シ
リカ、ジルコン、アルミナを粘結剤の水ガラス、けい酸
塩、リン酸塩等を用いて水で泥状にしたもの、けい砂を
同様の粘結剤を用いてスラーリー状としたもの、ジルコ
ンサンド、アルミナ、溶融シリカを前記の粘結剤を用い
てスラーリー状としたもの等種々のものがある。

このような鋳造砂Ｈａの中に前記線間型１１を埋設させ
てこの鋳造砂１３ａを乾燥硬化させ（第１図Ｇ、ト）、
次いで加熱処理によって鋳造砂１３ａ内の線間型１１を
溶出させることによって鋳込空間を有する鋳型１３を形
成する。

（第１図Ｈ、チ）更に、この鋳型１３を６００〜８００
℃（必要に応じて１２００℃）で焼成して鋳型１３を強
固なものとした上で、金、銀、銅等の単体又は合金を熔
かした渇１４ａを該鋳型１３に注ぎ入れる。この湯１４
ａの鋳込み圧によって鋳型１３が割れることが予想され
る場合には鋳型１３の周囲に押え砂１５を第３図Ｂのよ
うに配する。又、第３図Ａのイ、口で示されるように線
間型１１に前記の鋳造砂１３ａをスラーリー状にして塗
布し、鋳型１３とする場合には同図口のように鋳造砂１
３ａを数回に亘って重ね合せ状に積層して鋳型１３とす
るのが良く、この場合には特に前記の押え砂１５が必要
とされかくして鋳込まれた湯１４ａが完全に冷却した状
態で鋳型Ｉ３を取り除き鋳造中１４゛を取り出し、次い
で、湯道等の不要部分をカットすると共に適宜パフかけ
処理等の表面処理を施すことによって鋳造中Ｉ４とする
。

［効果］ 本発明にか＼る印用蝋母型の成形方法では、線間型の印
面部を形成する原型３の彫込みをする必要がなく、この
原型３の印稿に合った距込みに要する作業手間を不要と
し、特殊で且つ習熟された距込み技術をも不要とし、格
別の技術を要することなく誰もが容易に、しかも短時間
で目的とする線間型の印面部を形成する原型３の成形を
なすことができる。

又、線間型の印面部を形成する原型３が光子溶性化感光
剤層３ａを有する原型材３″に対する原版２の単なる密
着、露光と、露光ＩＡ埋後の洗い出し処理で良いことか
ら、印稿通りの印面部が容易、正確に形成される特長を
有している。

又、原版２における印面を構成する線間の間隔が０．１
ｍｍ以上とされているので、洗い出し時に原型材におけ
る前記線間の未ｎ光部分の光不溶性化感光剤層の充分な
洗い出しが可能であって、線間の溝を充分な深さに形成
できる。

更に原型材の光不溶性化感光剤層の厚さが０．３〜２ｍ
ｍの範囲内とされているので溝の深さが朱肉の詰りかな
い適度の深さに形成され、露光部分の基部付近まで洗い
出されることがなく鮮明な捺印の可能な印面を得ること
ができる。

か＼る線間型１１が容易、且つ僅かの作業手間で成形さ
れることから、鋳造された金属製の印を安価に提供する
ことができること＼なり、天然素材に印刻した印と異な
り均一の強度、耐摩耗性を有する印を安定に提供できる
特長を有している。

【図面の簡単な説明】

第１図は（その１）〜第１図（その３）本発明に係る印
用蝋母型の成形方法及び、当該方法で成形された印用蝋
母型を用いた鋳造中の成形方法を順次に示した構成図、
第２図は原型３の成形方法を順次に示した構成図、第３
図は他の鋳造中の成形方法を示す構成図である。 １・・・印稿、２・・・原版、３°・・・原型材、３・
・・原型、４・・・露光、５・・・ブラシ、６・・・ロ
ール、７・・・温風、８・・・露光、９・・・中間型、
９゛・・・中間型材、１０・・・型、１１・・・線間型
、１１’・・・蝋、１２・・・型、１３・・・鋳型、１
４・・・鋳造中、１５・・・押え砂、Ｓ・・・間隔、ｔ
・・・厚さ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、印面形成用の原型材における光不溶性化感光剤層の
   面に印の原版を重ねて露光し、未露光部分の光不溶性化
   感光剤層を溶出して印面の原型を形成し、この原型の印
   面部にシリコンゴム等の中間型材を注入又は圧入硬化さ
   せて中間型の形成をなすと共に、この中間型の印面部に
   蝋を注入又は圧入して成形した印面部を有する印用蝋母
   型、又は前記中間型の印面部に蝋を注入又は圧入して成
   形した印面部に蝋よりなる鈕を接着した印用蝋母型の成
   形方法において前記印面部の原版における印面を構成す
   る線間の間隔が０．１ｍｍ以上であって、前記原型材に
   おける光不溶性化感光剤層が０．３〜２ｍｍの範囲内の
   厚さとされていることを特徴とする印用蝋母型の成形方
   法。