JPS63138511A - 磁気ヘツドコア - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「技術分野」 本発明は、酸化物磁性体からなる一対のハーフコアの突
合せ面に、この突合せ面に対して傾斜した薄膜付着溝を
形成し、この薄膜付着溝に付着させた金属磁性薄膜の接
合面を磁気ギヤ・ンブとするタイプの磁気ヘッドコアに
間する。

「従来技術およびその問題点」 金属磁性薄膜と磁気ギャップとが傾斜しでいるタイプの
磁気ヘッドコアとして、従来では、第４図に示すものが
提案されている。フェライト等の酸化物磁性体からなる
一対のバー２コア１１の突合せ面には、それぞれ形成す
べき磁気ギャップ１“２に対し傾斜した薄膜付着溝１３
が上下関係を逆にして形成されでいる。この薄膜付着溝
１３は、その形成工程においで、第６図に示すように、
垂直形成面１３ａに対して交わる傾斜面１３ｂが所定角
θをもって形成されでいる。そして、この薄膜付着溝１
３に、第６図における膜付着工程で、スパッタリング、
蒸着等の薄膜形成手段により、センダスト等の金属磁性
薄膜１４が保護膜１５とともに付着されている。ざらに
、磁気ギャップ１２の両側に位置したハーフコア１１の
突合せ面には、トラック幅規制溝１６が、薄膜付着溝１
３に対向して対称間係で形成されている。このトラック
幅規制溝１６は、隣り合う薄膜付着溝１３の一部を切り
欠くように形成されでいる。磁気ギャップ１２は、薄膜
付着溝１３に付着形成された金属磁性薄膜１４の端面を
付き合わせて形成されている。そして、はぼＶ字状をな
す金属磁性薄膜１４の空間とトラック幅規制溝１６の空
間には、ガラス等の非磁性酸化物接合材料（以下、単に
ガラスという）１７が充填され、一対のハーフコア１１
が接合固着されている。なあ、一方のハーフコア１］に
はコイル巻線孔１８が形成されている。

ところが、上記従来の磁気ヘッドコアでは、薄膜付着溝
１３の溝深さが浅いため、磁気記録媒体との摺接面１９
が所定幅で凸型先端加工された際、薄膜付着溝１３は、
その底部の折り返し部分Ｂが、磁気記録媒体との摺接面
１９上に現われてしまい、このため、以下のような問題
点が生じでいる。

■摺接面１９に現われる薄膜付着溝１３の折り返し部分
Ｂが磁気ギャップ１２と平行な部分をもつために、この
折り返し部分Ｂが疑似ギャップとして働いてしまい、サ
イドリーディングやクロストークの原因となることがあ
る。

■薄膜付着溝１３の加酸工程でその溝深ざｔｌを浅溝に
形成すると、垂直形成面１３ａに対する傾斜面１３ｂの
傾斜角ｅが一定である以上、例えば鎖線で示す深溝と比
較し、溝幅ｗ１も必然的に狭くなる。このように溝幅ｗ
１が狭くなると、傾斜面１３ｂの磁気ギャップ１２近傍
部分Ａはスパッタリング等の際に陰になり易く、膜の乗
りが悪くなる。

したがって、この部分に、次工程である金属磁性薄膜１
４をスパッタリング等で形成すると、センダスト等の高
速粒子が到達しにくくなり、膜が疎になって膜質が低下
してしまう、その結果として、磁気特性が劣化し、ヘッ
ド特性も低下するものと考えられる。

■薄膜付看溝１３の溝幅ｗ１が狭くなると、傾斜面１３
１）に付着する金属磁性薄膜１４の面が傾斜面１３ｂと
平行に近い面となりにくいため、ハーフコアブロック１
１の突合せ面のラップ研磨工程で溝深ざ寸法がｔ２に削
られた場合、金厘磁牲膜１４の付着厚さのばらつきによ
って、この薄膜付着溝１３とトラック幅規制溝１５とで
形成されるトラック幅が著しく変動するため、トラック
幅の精度が出しにくくなる。

「発明の目的」 本発明は、従来のこの種の磁気ヘッドコアの問題点を解
消し、疑似ギセ・ンブ効果の低減を図るとともに、電磁
変換特性およびトラック幅精度を向上させることを目的
する。

「発明の概要Ｊ 本発明は、従来の磁気へ・ラドコアの問題点が、いずれ
も薄膜付着溝の溝深ざに起因しているとの認識の下に完
成されたものである。

そのため、本発明による磁気ヘッドでは、金属磁性薄膜
を付着形成する薄膜付着溝を、その底部の折り返し部分
が磁気記録媒体との摺接面に現われない溝深ざ寸法で形
成したことしたことを特徴とする。

「発明の実施例」 第１図は、本発明による磁気ヘッドコアの一寅施例を示
すもので、これを第３図に従って製造工程順に説明する
と、まず、ハーフコアプロ・ンク１１の突合せ面１１ａ
に対し、Ｖ字状の薄膜付着溝１３を形成する（第３図（
ａ））、この薄膜付着溝１３は、垂直形成面１３ａと交
差する傾斜面１３１）が所定の傾斜角ｅをもって形成さ
れている０本発明は、この薄膜付着溝１３の溝深ざを問
題とするもので、現在の加工程度で具体的に言うと、こ
の薄膜付着溝１３の突合せ面１１ａからの溝深ざＴ１を
、徳の工程での研磨式を考慮すると、Ｉ＋Ｏｕｍ以上に
設定しでいる。これは、鎖線で示す従来のものより、溝
深ざがＴＩ＞ｔｌの関係で深溝となり、溝幅もＷ２＞Ｗ
ｌの間係で広くなっている。

この薄膜付着溝１３に対し、次に、センダスト等の金属
磁性薄膜１４をスパッタリング等の方法で付着形成し、
この上から保護膜１５を形成する（第３図（ｂ））、上
記のように、薄膜付着溝１３が、所定角θによる深溝形
成によって溝幅ｗ２が広くなっていることから、磁気ヘ
ッドの特性上で重要な役割を果たす磁気ギャップ１２の
近傍部分Ａにも、膜が乗り易くなっている。したがって
、例えばスパックリングの方法でセンダストを付着させ
た場合、センダストの高速粒子がＡの部分とその他の部
分１こ略均−１こ到達することとなり、形成される金属
磁性薄膜１４がＡの部分だけ疎になることはなく、均一
な膜質となる。また、溝幅Ｗ２も従来のものに比べて必
然的に広くなるため、薄膜付着溝１３に付着される金属
磁性薄膜１４は、傾斜面１３ｂの勾配に沿って略平行に
形成される。

次の工程で、金属磁性ｇｉ膜１４をラップ研磨し、薄膜
付着溝１３内だけに保護膜１５の形成された金属磁性薄
膜１４を残す（第３図（Ｃ））。

ざらに、薄膜付着溝１３にｌｌｌ接させ、−側が金属磁
性薄膜１４の一部にかかるように、トラ・ンク幅規制溝
１６を加工形成する（第３図（ｄ））。

次に、金属磁性薄膜１４のＶ字状空間とトラ・ンク幅規
制溝１６の空ＭＥこガラス１７を溶融充填する（第３図
（ｅ））。

このガラス１７そ、金属磁性薄膜１４のＶ字状空間とト
ラック幅規制溝１６の空間だけに残して、ラップ研磨し
、磁気ギヤ・ンブ１２となるべき金属磁性薄膜１４端面
のギャップ幅を決定する（第３図（ｆ））、このラップ
研磨工程で、薄膜付着溝１３の溝深ざＴ２は、最終的に
８０ｕｍ以上となる。

次１こ、突き合せ面にスパッタリング等の方法でギャッ
プスペーサを形成し、磁気ギャップ１２を形成すべく金
属磁性薄膜１４端面を突合せ、位冨決めしてハーフコア
ブロック１１を接合し、磁気ギャップ１２毎に切断線Ｘ
−Ｙに沿って切断し、磁気コアチップを切り出す。

最後に、磁気記録媒体（図示省略）との摺接面１９を所
定幅で凸型に先端加工し、第７図１こ示す磁気ヘッドコ
アが得られる。

このようにして得られた磁気へ・ンドにおいて、薄膜付
着溝１３は、ハーフコア１１の突合せ面からの溝深ざＴ
２が、８０ｕｍ以上の深溝として形成され、その底部の
折り返し部分Ｂは、凸型先端加工した凸型段部に現われ
ていても、１１４１面１９上には現われていない、した
がって、折り返し部分Ｂが疑似ギャップとして働くこと
はなくなり、サイドリーディングやクロストークを防止
することができる。

また、このような深溝の薄膜付着溝１３に付着形成され
た金属磁性薄膜１４は、傾斜面１３ｂの磁気ギャップ近
傍付近Ａでも、その膜形成状態が他の部分と略同等であ
るため、膜質も均一化されている。したがって、電磁変
換特性が向上する。

第４図は、薄膜付着溝１３を９０ｕｍの深溝とした本発
明による磁気へ・ラドコアａと、薄膜付着溝］３が４０
μｍの浅漬となった従来の磁気ヘッドコアｂを、周波数
に対する自己録再出力の関係で示したものである。この
図からも明らかなように、本発明による磁気ヘッドコア
ａの方が、従来の磁気ヘッドコアｂに比べ、自己録再出
力の周波数特性が数ｄＢ単位で向上していることが分か
る。

ざらに、深溝形成に伴ない、拡大された溝幅ｗ２となっ
た薄膜付着溝１３に、金属磁性薄膜１４が付着形成され
るため、この金属磁性薄膜１４は傾斜溝１３ｂの勾配に
沿ってほぼ平行に形成される。したがって、第３図（ｆ
）によるラップ研磨工程で、溝深ざが７２１こ削られて
も、金属Ｆｉｉ牲薄ＮＪ】４の付着厚ざにばらつきが生
じていないために、薄膜付着溝１３とトラック幅規制溝
１６とで形成されるトラック幅への影響は少なくなり、
トラック幅精度が向上する。

「発明の効果」 以上説明したように、本発明の磁気ヘッドコアは、ハー
フコアの突合せ面に対しで傾斜させた薄膜付着溝を、そ
の折り返し部分が磁気記録媒体との摺接面に現われない
溝深ざ寸法で形成したので、折り返し部分が疑似キャッ
プとしで働くことがなくなり、サイドリーディングやク
ロストークの発生を抑えることができる。また、薄膜付
着溝を、その折り返し部分が摺接面に現われないような
溝深ざにすると、薄膜付着溝は従来のものより深溝とな
り、その溝幅も必然的に広くなるので、これに付着形成
された金属磁性薄膜は、その膜質が溝の傾斜面で均一化
され、かつ傾斜面と略平行な勾配で形成することができ
る。したがって、電磁変換特性およびトラック幅精度を
向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図本発明による磁気ヘッドコアの斜視図、第２図は
第１図の要部拡大平面図、第３図（ａ）ないしく９）は
第１図の磁気ヘッドコアの製造工程を順次示す図、第４
図は本発明による磁気ヘッドコアの周波数に対する自己
録再出力の間係を従来の磁気ヘッドコアと対比して示す
図、第５図は従来の磁気ヘッドコアの斜視図、第６図は
第５図の要部拡大平面図、第７図は従来の磁気ヘッドコ
アにおける薄膜付着溝の形成工程図、第８図は同金届磁
牲薄膜の形成工程を示す要部拡大図である。 １１・・・ハーフコア（ハーフコアブロック）、１１ａ
・・・突合せ面、１２・・・磁気ギャップ、１３・・・
薄膜付着溝、１３ｂ・・・傾斜面、１４　・・・金属磁
性薄膜、１６・・・トラック幅規制溝、１７・・・ガラ
ス、１９・・・摺接面、■１、Ｔ２・・・溝深さ、ｗ２
・・・溝幅、ハ・・・磁気ギャップ近傍付近、Ｂ・・・
折り返し部分。 特許出願人　　　　アルプス電気株式会社同　代理人　
　　　三　浦　邦　夫 同　　　　松井　茂 第１図 第２図 Ｙ 第３図 第５図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）酸化物磁性体からなる一対のハーフコアの突合せ
   面に、この突合せ面に対して傾斜した薄膜付着溝を形成
   し、この薄膜付着溝に付着させた金属磁性薄膜を突合せ
   て磁気ギャップとした磁気ヘッドコアにおいて、上記薄
   膜付着溝を、その底部の折り返し部分が磁気記録媒体と
   の摺接面に現われない溝深さ寸法で形成したことしたこ
   とを特徴とする磁気ヘッドコア。
2. （２）特許請求の範囲第１項において、薄膜付着溝の溝
   深さ寸法は、ハーフコアの突合せ面から８０μｍ以上で
   ある磁気ヘッドコア。