JPS63137162A - レ−ザ蒸着式多層膜形成装置 - Google Patents
レ−ザ蒸着式多層膜形成装置Info
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- JPS63137162A JPS63137162A JP28372186A JP28372186A JPS63137162A JP S63137162 A JPS63137162 A JP S63137162A JP 28372186 A JP28372186 A JP 28372186A JP 28372186 A JP28372186 A JP 28372186A JP S63137162 A JPS63137162 A JP S63137162A
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 6
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は2例えばco2レーザを用いて、基材に櫨々
のセラミックスを蒸着し、多層膜を形成させるレーザg
層式多層展形成装置に関するものである。
のセラミックスを蒸着し、多層膜を形成させるレーザg
層式多層展形成装置に関するものである。
真空中に設置した被照射材にレーザ光を集光照射し、被
照射材を蒸発させ、蒸発粒子を金属基板等の上に付着・
堆積させ膜を形成させうるレーザ蒸着装置には、いくつ
かの報告例がある。
照射材を蒸発させ、蒸発粒子を金属基板等の上に付着・
堆積させ膜を形成させうるレーザ蒸着装置には、いくつ
かの報告例がある。
第3図及び第4図は9例えば特開昭59−116373
号公報に示された従来のレーザ蒸着装置の構成図であり
9図において、(1)はレーザ発振器。
号公報に示された従来のレーザ蒸着装置の構成図であり
9図において、(1)はレーザ発振器。
例えばCO2レーザ発振器よシ発振されたレーザ光。
(2)はレーザ光(1)を集光する集光レンズ、(3)
は集光レンズ(2)で集光したレーザ光を真空チャンバ
(4)内に導く透過窓、(5)は透過窓(3)より導か
れた集光されたレーザ光を照射される被照射材、(7)
はレーザ光の集光照射によって被照射材(5)より蒸発
した粒子を付着、堆積させる基材である。
は集光レンズ(2)で集光したレーザ光を真空チャンバ
(4)内に導く透過窓、(5)は透過窓(3)より導か
れた集光されたレーザ光を照射される被照射材、(7)
はレーザ光の集光照射によって被照射材(5)より蒸発
した粒子を付着、堆積させる基材である。
第4図は第3図の上面図である。
レーザ光(11は集光レンズ(2)を通って集光され。
透過窓(3)を通って真空チャンバ(4)に導入され、
被照射材(5)に照射される。集光されたレーザ光の照
射により被照射材(5)の粒子は蒸発し、この蒸発粒子
が飛び出す方向に配置された基材(7)上に蒸発物が付
着・堆積する。
被照射材(5)に照射される。集光されたレーザ光の照
射により被照射材(5)の粒子は蒸発し、この蒸発粒子
が飛び出す方向に配置された基材(7)上に蒸発物が付
着・堆積する。
このレーザ蒸着装置を用いて多種類の被照射材の粒子を
蒸発させ基材上に蒸着させ、多j−膜全形成させるには
、ある物質を蒸着した後、被照射材を収り換えることに
よって行なうことが可能である。
蒸発させ基材上に蒸着させ、多j−膜全形成させるには
、ある物質を蒸着した後、被照射材を収り換えることに
よって行なうことが可能である。
上記のような従来の方法では、多層膜を形成させるには
、一度レーザの照射を停止し、真空チャンバの真空を破
って試料を交換する必要があるため、工程上、不合理で
あること、−置火気中に。
、一度レーザの照射を停止し、真空チャンバの真空を破
って試料を交換する必要があるため、工程上、不合理で
あること、−置火気中に。
形成された膜及び基材がさらされるので酸化等の影響に
より所望の膜質の腺が得られないこと、基材の温度を成
膜中、制御している場合、真空を破るために基材及び膜
に一工程ごとに温度変化が生じることが避けられないた
め温度の上昇・下降に伴う熱的要因に基づく歪が膜内に
発生し安定な膜が得られないこと、といった問題点がb
った。
より所望の膜質の腺が得られないこと、基材の温度を成
膜中、制御している場合、真空を破るために基材及び膜
に一工程ごとに温度変化が生じることが避けられないた
め温度の上昇・下降に伴う熱的要因に基づく歪が膜内に
発生し安定な膜が得られないこと、といった問題点がb
った。
この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、容易にかつ連続的にしかも膜質が安定し、その制
御が答易な、レーザ蒸着式多層膜形成装置を得ることを
目的とする。
ので、容易にかつ連続的にしかも膜質が安定し、その制
御が答易な、レーザ蒸着式多層膜形成装置を得ることを
目的とする。
この発明のレーザ蒸着式多層膜形成装置は、真空雰囲気
中で、可動式台座に異種類のセラミックス材料をそれぞ
れ基材に対向して載置し、所望のセラミックス材料をレ
ーザビーム照射位置に次々に配置し、異種のセラミック
スを次々に蒸発させこれらを上記基材に付着、堆積させ
るようにしたものである。
中で、可動式台座に異種類のセラミックス材料をそれぞ
れ基材に対向して載置し、所望のセラミックス材料をレ
ーザビーム照射位置に次々に配置し、異種のセラミック
スを次々に蒸発させこれらを上記基材に付着、堆積させ
るようにしたものである。
この発明においては、同一真空中で異種類のセラミック
ス材料の中の必要とするセラミックス材料を、適時、レ
ーザ光の集光位置に移動させるだけで、容易に、連続的
な多層膜形成を可能にする。
ス材料の中の必要とするセラミックス材料を、適時、レ
ーザ光の集光位置に移動させるだけで、容易に、連続的
な多層膜形成を可能にする。
また、同一真空中で、セラミックス材料′Jk移mさせ
るだけで蒸発させる物質を変えることができるので、膜
質、膜厚、基材温度への工程上の要因の影響がなく、安
定な膜形成を可能にする。
るだけで蒸発させる物質を変えることができるので、膜
質、膜厚、基材温度への工程上の要因の影響がなく、安
定な膜形成を可能にする。
さらに、レーザ蒸着式であるので、蒸!雰囲気の設定を
一定にするか、可変にするかは、自由に選択できるので
、他の膜形成法に比べて膜質の制御雰囲気の転換が容易
となる。
一定にするか、可変にするかは、自由に選択できるので
、他の膜形成法に比べて膜質の制御雰囲気の転換が容易
となる。
以下、この発明の一実施例を図において説明する、
第1図及び第2図は、この発明の一実施例のレーザ蒸着
式多層膜形成装置の構成図Cあり2図において、(1)
はレーザ発振器1例えばCO2レーザ発振器より発振さ
れたV−ザ光、(2)はレーザ光(1)を集光する集光
レンズ、(3)は集光レンズ(2)で集光されたレーザ
光を真空チャンバ(4)内に導く透過窓。
式多層膜形成装置の構成図Cあり2図において、(1)
はレーザ発振器1例えばCO2レーザ発振器より発振さ
れたV−ザ光、(2)はレーザ光(1)を集光する集光
レンズ、(3)は集光レンズ(2)で集光されたレーザ
光を真空チャンバ(4)内に導く透過窓。
(6)は透過窓(3)よシ導かれた集光されたレーザ光
を照射される異種のセラピック材料、 (6A) 、
(6B)および(6C)は各々異種のセラミックス材料
、(7)はレーザ光の集光照射によって異種のセラミッ
クス材料(6)より蒸発した粒子を付着、堆積きせる基
材である。
を照射される異種のセラピック材料、 (6A) 、
(6B)および(6C)は各々異種のセラミックス材料
、(7)はレーザ光の集光照射によって異種のセラミッ
クス材料(6)より蒸発した粒子を付着、堆積きせる基
材である。
また、(8)は異種類のセラミックス材料をそれぞ゛れ
基材(力に対向して載置する可動式台座である。
基材(力に対向して載置する可動式台座である。
第2図は第1図の上面図である。
上記のように構成されたレーザ蒸着式多層膜形成装置に
おいては1例えば10 torrに排気した真空雰囲
気中で、集光されたレーザ光が、異種のセラミックス材
料(6)のうちの一つに照射されることによシ、第2図
の従来の方法と同様の原理で基材(7)に膜が形成され
るが、異種のセラミックス材料(6)は可動式台座(8
)の上に載置されているので。
おいては1例えば10 torrに排気した真空雰囲
気中で、集光されたレーザ光が、異種のセラミックス材
料(6)のうちの一つに照射されることによシ、第2図
の従来の方法と同様の原理で基材(7)に膜が形成され
るが、異種のセラミックス材料(6)は可動式台座(8
)の上に載置されているので。
可動式台座(8)を適時移動させることによ見容易に被
照射されるセラミックス材料を変えることができ、工程
と停止することなく、連続して多層膜の形成が行なえる
。
照射されるセラミックス材料を変えることができ、工程
と停止することなく、連続して多層膜の形成が行なえる
。
例えば、セラミックス材料(6人)の次にセラミックス
材料(6B)を蒸発させ2次いでセラミックス材料(6
C)を蒸発させたい場合、集光されたレーザ光の照射位
置に所望のセラミックス材料を移動させるだけ、すなわ
ち、最初のセラミックス材料(6A)の照射後2台座(
8)を右へ移動し1次のセラはソクス材料(6B)を照
射、欠いで台座をさらに右方向へ移動し、最後のセラミ
ックス材料(6C)を照射するという工程だけで、多層
膜の連続的な形成が容易に行なえる。
材料(6B)を蒸発させ2次いでセラミックス材料(6
C)を蒸発させたい場合、集光されたレーザ光の照射位
置に所望のセラミックス材料を移動させるだけ、すなわ
ち、最初のセラミックス材料(6A)の照射後2台座(
8)を右へ移動し1次のセラはソクス材料(6B)を照
射、欠いで台座をさらに右方向へ移動し、最後のセラミ
ックス材料(6C)を照射するという工程だけで、多層
膜の連続的な形成が容易に行なえる。
以上のように、レーザ蒸着を利用した多層膜形成装置は
、セラミックス材料の移動だけで、多層膜形成が連続的
に、容易に行なえるので1合理性が高い。
、セラミックス材料の移動だけで、多層膜形成が連続的
に、容易に行なえるので1合理性が高い。
さらに、セラミックス材料の移動を制御すれば。
多層膜形成の自動化も容易である。
例えば、第1図において、膜厚モニター計(例えば水晶
振動子)を基材(力に併置、すなわち(9)の位置に設
置し、その信号を制御系を通じて可動式台座(8)とレ
ーザ光の出力、すなわちV−ザ発振器の出力とを連動さ
せることにより、所要の膜厚になれば、自動的に蒸発物
質、すなわちセラミックス材料を変える多層膜形成装置
とすることが容易に可能となる。
振動子)を基材(力に併置、すなわち(9)の位置に設
置し、その信号を制御系を通じて可動式台座(8)とレ
ーザ光の出力、すなわちV−ザ発振器の出力とを連動さ
せることにより、所要の膜厚になれば、自動的に蒸発物
質、すなわちセラミックス材料を変える多層膜形成装置
とすることが容易に可能となる。
なお、上記実施例において、照射するレーザ光には、C
02レーザ以外のレーザ光2例えばYAGレーザを用い
てもよい。また、膜厚モニター計として水晶振動子を用
いたが、他の膜厚モニター法。
02レーザ以外のレーザ光2例えばYAGレーザを用い
てもよい。また、膜厚モニター計として水晶振動子を用
いたが、他の膜厚モニター法。
例えば原子吸光法などでもよい。
また、セラミックス材料を被照射材として用いたが、他
の材料でも同様の効果が得られる。
の材料でも同様の効果が得られる。
以上説明したとおり、この発明は、A−全雰囲気中で、
可動式合服に異種類のセラミックス材料をそれぞれ基材
に対向して載置し、所望のセラミックス材料をレーザビ
ーム照射位置に次々に配置し。
可動式合服に異種類のセラミックス材料をそれぞれ基材
に対向して載置し、所望のセラミックス材料をレーザビ
ーム照射位置に次々に配置し。
異種のセラミックスを次々に蒸発させこれらを上記基材
に付着、堆積させるようにしたものを用いることにより
、容易にかつ連続的に、しかも膜質が安定し、その制御
が谷易なレーザ蒸着式多層膜形成装置を得ることができ
る。
に付着、堆積させるようにしたものを用いることにより
、容易にかつ連続的に、しかも膜質が安定し、その制御
が谷易なレーザ蒸着式多層膜形成装置を得ることができ
る。
@1図はこの発明の一実施例のレーザ蒸着式多層膜形成
装置の構成図で、第2図は第1図の上面図、第3図は従
来のレーザ蒸層式換形成装置の構成図で、第4図は第3
図の上面図である。 図において、(1)はレーザーに、 t4+は真空チャ
ンバ。 (6)は異′di類のセラミックス材料、(7)は基材
、(8)は可動式台座である。 なお、谷図中同−符号は同−又は相当部分を示す。
装置の構成図で、第2図は第1図の上面図、第3図は従
来のレーザ蒸層式換形成装置の構成図で、第4図は第3
図の上面図である。 図において、(1)はレーザーに、 t4+は真空チャ
ンバ。 (6)は異′di類のセラミックス材料、(7)は基材
、(8)は可動式台座である。 なお、谷図中同−符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 真空雰囲気中で、可動式台座に異種類のセラミックス材
料をそれぞれ基材に対向して載置し、所望のセラミック
ス材料をレーザビーム照射位置に次々に配置し、異種の
セラミックスを次々に蒸発させ、これらを上記基材に付
着、堆積させるようにしたレーザ蒸着式多層膜形成装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28372186A JPS63137162A (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | レ−ザ蒸着式多層膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28372186A JPS63137162A (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | レ−ザ蒸着式多層膜形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63137162A true JPS63137162A (ja) | 1988-06-09 |
JPH0575825B2 JPH0575825B2 (ja) | 1993-10-21 |
Family
ID=17669228
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28372186A Granted JPS63137162A (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | レ−ザ蒸着式多層膜形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63137162A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0830357A (ja) * | 1994-07-20 | 1996-02-02 | Nec Gumma Ltd | 冷却用ファン制御システム |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5931865A (ja) * | 1982-08-13 | 1984-02-21 | Ulvac Corp | カプセル型蒸発源 |
JPS59116373A (ja) * | 1982-12-22 | 1984-07-05 | Agency Of Ind Science & Technol | レ−ザ蒸着装置 |
-
1986
- 1986-11-28 JP JP28372186A patent/JPS63137162A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5931865A (ja) * | 1982-08-13 | 1984-02-21 | Ulvac Corp | カプセル型蒸発源 |
JPS59116373A (ja) * | 1982-12-22 | 1984-07-05 | Agency Of Ind Science & Technol | レ−ザ蒸着装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0575825B2 (ja) | 1993-10-21 |
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