JPS627691B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はレーザ光を用いたフオトマスクの欠陥
修正法に関する。

半導体製造に用いられるフオトマスクは、ガラ
ス基板上に金属を蒸着させた後レジスト材料を塗
布し、所要のパターンで露光した後現像処理、エ
ツチング処理を施して前記所要のパターンを形成
したものであるが、このような製造工程を通過す
る間にフオトマスクには種々の原因により残留欠
陥及びピンホールやパターン欠除等の欠損欠陥が
発生する。フオトマスクのこのような欠陥は、そ
れを用いて製造された半導体に不良をひき起こす
原因となるため、修正を行なう必要がある。

近年、残留欠陥の修正には、レーザ光照射によ
り残留金属膜を蒸発させ除去修正する方法が適用
され成果を上げている。しかし、欠損欠陥の修正
に関しては種々の提案がなされてはいるものの未
だ実用となつていない。例えば、特開昭54−
57964に提案されている方法は、修正すべき欠陥
のあるパターン面上にパターン材料層を近接させ
て置きそのパターン材料層の前記欠陥部分と対応
した部分にレーザ光を照射し、パターン材料を溶
融またはガス化して欠陥部の基板に付着させると
いうものである。しかし、この方法では正規のパ
ターンを不必要に損傷したり、欠陥部以外の正規
のパターン上に金属膜を重ねて付着させたりし
て、パターンの面精度を低下させるという欠点が
ある。

また、本発明の発明者より出願中の発明に、フ
オトマスクのパターン面に保護膜を塗布し、この
保護膜面と蒸着材料とを対面して近接配置し、フ
オトマスクの欠陥部を含む微小部分にレーザ光を
照射し、前記微小部分を蒸発させ微小窓を形成し
しかる後に前記レーザ光を前記微小窓に対向する
前記蒸着材料に照射して蒸発させその蒸発物質を
前記微小窓に蒸着するという方法がある。しかし
ながら、この方法では、修正を施すべき第１の欠
陥部の近傍に第２或いは第３の欠陥が存在する場
合、それらの欠陥部も同時に蒸着されてしまい、
次の検査過程で前記第２、第３の欠陥は確認され
ず、そのまま未修正の欠陥として残るという欠点
を有している。

このように従来の方法ではフオトマスク上の欠
損欠陥を修正することがきわめて困難であるため
欠損欠陥の修正は殆んど行なわれていないのが現
状である。

本発明の目的は、従来の欠点を除去した、レー
ザ光によるフオトマスクの欠損欠陥修正法を提供
することである。

前記目的を達成するため、本発明のフオトマス
クの欠陥修正法は、フオトマスクのパターン面と
蒸着材料とを対面して配置し、前記蒸着材料に熱
源用レーザ光を照射して蒸発させその蒸発物質を
前記フオトマスクの欠陥部に蒸着する欠陥修正法
において、欠陥部に熱源用レーザ光を前記欠陥部
およびその周囲に所定のビーム形状をもつて照射
し欠陥部周囲蒸着膜を除去し、その後案内用レー
ザ光を同じビーム形状をもつて同じ欠陥部および
その周囲に照射しながら蒸着材料に熱源用レーザ
光を照射し蒸着材料を蒸発せしめた欠陥部及び蒸
着膜が除去された場所に新たな蒸着膜を形成する
ことを特徴とするものである。

本発明の特徴をなす案内用レーザ光の働き、す
なわちレーザ光により照射されている部分に機械
的強度の強い蒸着膜が形成されることは実験によ
り確認した。

以下本発明を実施例につき詳述する。第１図は
本発明の実施例の構成を示すブロツク図である。
図において、１は案内用レーザ光を出射するレー
ザ装置(1)、３は加工用レーザ光及び熱源用レーザ
光を出射するレーザ装置(2)、２及び４は可動ミラ
ー、５はレーザ光の照射形状を制御するスリツト
機構、６はスリツト機構５により制御されたレー
ザ光、７は観察用光学系、８は対物レンズ、９は
フオトマスク、１０は蒸着材料、１１は蒸着材料
１０を支持するボート、１２は真空容器、１３は
スライド台である。フオトマスク９は第２図に示
す構造をしており、１５はガラス基板、１６はク
ロム、酸化クロム等の金属薄膜で形成されたパタ
ーン、１７はレジスト材を塗布した保護膜、１８
は欠損欠陥である。

第１図を用いて欠陥修正を行なう場合の手順を
次に述べる。先ず、フオトマスク９をフオトマス
クのパターン１６が蒸着材料１０と相対するよう
にしてスライド台１３に装着する。このスライド
台１３は図には示さないがXY移動装置を備えて
おり、任意の位置に位置決めすることができる。
次に、観察用光学系７によりフオトマスク９上の
欠陥１８を観察しながら、スライド台１３を微調
整して対物レンズ８の焦点位置に移動させる。こ
の間真空容器１２の中は図には示されていないが
排気装置により真空にされ、また同時に可動ミラ
ー４を４′の位置に移動させ、熱源用レーザ装置
３を動作させて蒸着材料１０を加熱し、吸気ガス
を脱気する。そのとき、不必要なガスがフオトマ
スク９に付着しないようにシヤツタ１４は閉じて
おく。次に、レーザ装置３を停止させ、可動ミラ
ー４′を４の位置にもどしてシヤツタ１４を開
き、蒸発物質がフオトマスク９に到達可能なよう
にしておく。次に、欠損欠陥１８の形状に応じて
スリツト機構５を調整してからレーザ装置３を動
作させると、レーザ光はスリツト機構５により制
限を受けた加工用レーザ光６となり、対物レンズ
８によりフオトマスク９のパターン１６上に照射
される。その結果、加工用レーザ光の照射前は第
３図ａに示すような欠損欠陥１８であつたもの
が、同図ｂに示すような欠損欠陥１９に変形され
る。このとき、フオトマスク上の金属薄膜ととも
に保護膜１７も除去され、第３図ｃに示すような
断面構造が得られる。図において１９は加工用レ
ーザの照射により発生した窓である。この窓を形
成するための加工用レーザの発振時間は短い程良
いことが知られている。次に、可動ミラー２及び
４を各々２′、４′の位置に移動さして、レーザ装
置３より熱源用レーザ光をボート１１に照射し、
蒸着材料１０を加熱して蒸発させる。このとき、
シヤツタ１４は開いている。この間、レーザ装置
１を動作させて第３図に示した窓１９に案内用レ
ーザ光を照射する。この案内用レーザ光の照射形
状は、窓１９を形成するときに用いた加工用レー
ザ光の照射形状と等しい。このようにすると、蒸
着材料１０より蒸発した蒸気は案内用レーザ光の
吸引力によつてフオトマスクの窓１９の部分にの
み強く付着し、窓１９を不透明にする。しかる後
このフオトマスクを剥離剤に浸すと保護膜１７が
とれ、欠損欠陥の修正されたフオトマスクが得ら
れる。

上述の作業工程において、案内用レーザ光のエ
ネルギーは真空容器内の真空度、蒸着材料の性質
等に依存するが、加工用レーザ光のエネルギーよ
りはるかに小さくて良いことが確認された。また
熱源用レーザ光のエネルギーは蒸着材料の形状及
びレーザ光の蒸着材料への照射形態に依存する。

以上説明したように、本発明によるフオトマス
クの欠陥修正法によれば、エネルギー量のきわめ
て小さい案内用レーザ光をフオトマスクの欠損欠
陥部に照射しながら蒸着を行なうことにより、必
要十分な範囲に金属膜を蒸着することが可能とな
り、二次的な欠陥を発生させる恐れもなく、欠損
欠陥の修正を一工程できわめて容易に行なうこと
が可能となる。また、案内用レーザ光の照射形状
を制御することにより、いかなる形状の欠損欠陥
でも修正することができ、更に新なパターンをフ
オトマスク上に追加することもできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるフオトマスクの欠陥修正
を説明するためのブロツク図、第２図はフオトマ
スクの断面図、第３図は欠陥修正過程を説明する
もので、ａ及びｂは部分平面図、ｃは部分断面図
である。 図中、１……レーザ装置(1)、２，４……可動ミ
ラー、３……レーザ装置(2)、５……スリツト機
構、６……レーザ光、７……観察用光学系、８…
…対物レンズ、９……フオトマスク、１０……蒸
着材料、１１……ボート、１２……真空容器、１
３……スライド台、１４……シヤツタ、１５……
ガラス基板、１６……マスクパターン、１７……
保護膜、１８……欠損欠陥、１９……窓である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ フオトマスクのパターン面と蒸着材料とを対
   面して配置し、前記蒸着材料に熱源用レーザ光を
   照射して蒸発させその蒸発物質を前記フオトマス
   クの欠陥部に蒸着する欠陥修正法において、 前記熱源用レーザ光を前記欠陥部およびその周
   囲に所定のビーム形状をもつて照射し前記欠陥部
   周囲の前記蒸着膜を除去し、その後他のレーザ装
   置から出射される案内用レーザ光を前記所定のビ
   ーム形状をもつて前記欠陥部およびその周囲に照
   射しながら前記蒸着材料に前記熱源用レーザ光を
   照射し前記蒸着材料を蒸発せしめ前記欠陥部及び
   前記蒸着膜が除去された場所に新たな蒸着膜を形
   成することを特徴とするフオトマスクの欠陥修正
   法。