JPS63131350A - 情報記録媒体用原盤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、情報記録媒体の製作時、それに案内溝等の凹
凸を設けるために用いられる情報記録媒体用原盤に関す
る。

〔従来の技術〕

従来、情報記録媒体用原盤は、次のように製造されてい
た。即ち、まずガラス盤、Ｆ、に塗布されたフォトレジ
スト膜に、レーザビームを用いてパターン形成し、次い
で、これを原型としてニッケル？を鋳を通常複数回繰り
返えずことにより、パターンの転写された電鋳型として
製造されていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、かかる情報記録媒体用原盤は、利用できる材料
が限られることや製法上厚くすることが困難なので耐久
性が低い上に、製造コスト、製造時間がかかりすぎる等
の問題点があった。

情報記録媒体用原盤の他の製法として、特開昭６１−１
７３７３８号にはガラス基板上に層、　Ｃｒ、　Ｆｅ、
　ＧｅＭｏ、Ｎｂ、Ｓｅ、Ｓｂ、Ｓｉ、Ｓｍ、Ｔａ、Ｔ
ｅ、　ＴＡ　、　Ｖ、　Ｗの元素及びこれらの元素の酸
化物、窒化物、ハロゲン化物から成るプレグルーブ付き
薄膜を形成した情報記録媒体用原盤が示されている。し
かし、この原盤は、コンプレッション成形用治具に取り
付けるために必要な加工が容易には施せないという欠点
がある。　本発明は上記種々の欠点を解決するために為
されたものであり、その目的は高い耐久性をもち、しか
もコスト及び時間が従来法よりもかからずに製造できる
情報記録媒体用原盤を提供することにある。

本発明の他の目的はコンブレッジジン治具に取り付ける
ために施す加工が容易な情報記録媒体用原盤を提供する
ことにある。

［問題点を解決するための手段］ Ｌ記の目的は、硬質でガラスよりも脆性の小さい基材上
にバターニングされた硬質薄膜が設けられていることを
特徴とする情報記録媒体用原盤により達成できる。以下
本発明を図面を参照して詳細に説明する。

第１、第２図はそれぞれ本発明の情報記録媒体用原盤の
一実施例の模式断面図である。それぞれの原盤は、基材
１とその上に設けられたプレグルーブを構成する硬質薄
膜２、即ちバターニングされた硬質薄膜２とから成る。

基材１は必要なだけ鏡面研磨すればよいが、好ましくは
表面粗さ２００Å以下にまで平滑にする。プレグルーブ
の深さは、硬質薄膜２の厚さと同じかそれより小とされ
ているため、基材表面が露出するか、゛あるいは基材表
面の平滑さがその上の硬質薄膜表面にも転写される（平
滑度がそのまま転写されるとは限らないが）こととなり
、基材表面の平滑さが製品たる原盤に活かされている。

基材１の材質の選定と厚さの設定は、要求される耐久性
に応するように、実際上は、ニッケル電鋳盤に比べて本
発明の原盤の方が耐久性が大きくなるように、行なえば
よいが、ガラスに比べて機械的加工が容易なものの中か
ら選定する必要がある。即ち、基材材質は硬質でガラス
よりも脆性が小さなものであると言い得る。好ましい基
材１の材質としては、七分に機械加工が容易で且つ熱伝
導率がガラスに比べてＩＯ倍程度大きなものが挙げられ
る。熱伝導率の大きなものを利用して本発明の情報記録
媒体用原盤を製造する方が好ましいのは、こうして製造
されたものによれば、情報記録媒体用基板を製造すると
きに、成形材料の温度分布差を小さくできるからである
。基材材質の好ましい例としては、超硬合金、金型用鋼
、シリコンが挙げられる。

硬質薄膜２は要求される耐久性にみあうだけの硬度、強
度となる材質から選定すればよいが、できるだけ硬いも
のが好ましい。硬質薄ＩＩｓ！　２の材質の具体例とし
ては　ＡＩ、　Ｃｒ、　Ｍｏ、　Ｎｉ、　　Ｓｉ　、　
Ｔａ、Ｔｉ、　Ｖ、　Ｗ、　Ｚｒ、これら各元素の酸化
物、窒化物、炭化物または硼化物が挙げられる。

使用する基材材質と硬質薄膜材質の組合わせはそれらの
密着性等を考慮して決定すればよい。

第３、第４図はそれぞれ本発明の他の実施例を示す模式
断面図である。それぞれ、鏡面研磨された基材１七に、
中間層３とバターニングされた硬′ｊｊ薄膜２とが順に
設けられた情報記録用原盤である。

中間層３は硬質薄膜２と基材１との密着性を向上させる
作用あるいは基材１の硬度を補なう作用を果たす。例え
ば、基材１に金型用鋼を使用した場合、中間層３として
Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ等の金属を０．１〜０．３Ｐの厚さと
し、硬質薄膜２をＴｉＮ　、　（：ｒＮ、ＺｒＮ等の窒
化物あるいは■Ｃ，ＳｉＣ等の炭化物とすることにより
、密着性が良好で高い耐久性を示す情報記録媒体用原盤
とすることができる。

なお、勿論、中間層３は二層以上にしてもよい。

本発明の情報記録媒体用原盤は代表的には次のようにし
て製造できる。即ち、必要なだけ鏡面研磨した基材１の
１に硬質薄膜２あるいは中間層３と硬質薄膜２とをスパ
ッタリング法、イオンブレーティング法等の各種成膜法
によりまず成膜する。次に、硬質薄ＩＩＱ　２の１にフ
ォトリソ技術等を用いてバターニングされたレジスト層
を形成する。次にドライエツチングによりレジスト層に
覆われてない硬質薄膜２をエツチングし、その後、残存
レジストを除去することにより製造する。別の方法とし
ては、まず、中間層３が成膜されているかまたはされて
ない鏡面研磨された基材１の北にフォトリソ技術等を利
用してバターニングされたレジスト層を形成する。次い
でその上に全体に硬質薄膜２を成膜する。しかる後、レ
ジストのみを溶かす溶液によりレジストを溶かし、その
上の硬質薄膜２も必然的に除去することにより、製造す
る。

［発明の効果］ 本発明では、情報記録用媒体用原盤の基材として、超硬
合金や金型用鋼等の精密機械加工が可能な材料を使用す
るので、コンプレッション成形治具に取り付けるために
必要な加工が極めて容易に施せるようになった。また、
硬質薄膜の形成はフォトリソグラフィー技術等を用いて
容易にできるため、作製コストおよび作製時間はニッケ
ル電鋳型に比べて低減された。

更に本発明では、基材として熱伝導率がガラスに比べて
１０倍以上大きいものを用いることもてきるので、情報
記録媒体用基板成形時の温度分郁の改善が可能になった
。

【図面の簡単な説明】

第１〜第４図のそれぞれは本発明の情報記録媒体用原盤
の一実施例を示す模式断面図である。 １：基材　　　　　　　２：硬質薄膜 ３：中間層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）硬質でガラスよりも脆性の小さい基材上にパターニ
   ングされた硬質薄膜が設けられていることを特徴とする
   情報記録媒体用原盤。 ２）前記基材が超硬合金、金型用鋼またはシリコンから
   成る特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体用原盤。 ２）前記硬質薄膜ガ無機窒化物、無機炭化物、無機酸化
   物、無機硼化物または半導体から成る特許請求の範囲第
   １または第２項項記載の情報記録媒体用原盤。 ３）前記硬質薄膜をＡｌ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｔ
   ａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｒ、これら各元素の酸化物、窒化
   物、炭化物及び硼化物から成る群より選ばれた１種以上
   より成る特許請求の範囲第１項または第２項記載の情報
   記録媒体用原盤。