JPS63119037A - 情報記録媒体用原盤の製造方法 - Google Patents
情報記録媒体用原盤の製造方法Info
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- JPS63119037A JPS63119037A JP26388486A JP26388486A JPS63119037A JP S63119037 A JPS63119037 A JP S63119037A JP 26388486 A JP26388486 A JP 26388486A JP 26388486 A JP26388486 A JP 26388486A JP S63119037 A JPS63119037 A JP S63119037A
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Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical group [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- -1 cemented carbide Substances 0.000 claims description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 14
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 abstract 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003862 HfB2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001240 Maraging steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007277 Si3 N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910033181 TiB2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、情報記録媒体の製作時、それに案内溝やマー
カー等の凹凸を設けるために用いられる情報記録媒体用
原盤の製造方法に関する。
カー等の凹凸を設けるために用いられる情報記録媒体用
原盤の製造方法に関する。
従来、情報記録媒体用原盤は、次のように製造されてい
た。即ち、まずガラス盤上に塗布されたフォトレジスト
膜にレーザビームを用いて、パターン形成し、次いで、
これを原型としてニッケル電鋳を通常複数回繰り返えす
ことにより、パターンの転写された電鋳型として製造さ
れていた。
た。即ち、まずガラス盤上に塗布されたフォトレジスト
膜にレーザビームを用いて、パターン形成し、次いで、
これを原型としてニッケル電鋳を通常複数回繰り返えす
ことにより、パターンの転写された電鋳型として製造さ
れていた。
しかし、耐久性が低いことから、特開昭５８−１５８０
５７号あるいは特開昭５８−１０４１９０号で示されて
いる様に、情報記録媒体用原盤の本体表面にＣｒＮ、
ＡＩＮ 、 ＴｉＮ等の高硬度物質の層を設は耐久性の
向上を図っている。
５７号あるいは特開昭５８−１０４１９０号で示されて
いる様に、情報記録媒体用原盤の本体表面にＣｒＮ、
ＡＩＮ 、 ＴｉＮ等の高硬度物質の層を設は耐久性の
向上を図っている。
（発明が解決しようとする問題点〕
しかし、特開昭５８−１５８０５７号の方法は、耐久性
を十分向上させるため高硬度物質を厚くすると、精度上
問題が生ずる。また、特開昭５８−１０４１９０号の方
法は、高硬度物質が被着された母型にメッキし、メッキ
と共に該物質を剥離して電鋳型を製造するが、該物質と
メッキとを一体化して剥離することが容易でない。更に
両者とも、電鋳型の一種であることから型製作に時間が
かかるという欠点があった。
を十分向上させるため高硬度物質を厚くすると、精度上
問題が生ずる。また、特開昭５８−１０４１９０号の方
法は、高硬度物質が被着された母型にメッキし、メッキ
と共に該物質を剥離して電鋳型を製造するが、該物質と
メッキとを一体化して剥離することが容易でない。更に
両者とも、電鋳型の一種であることから型製作に時間が
かかるという欠点があった。
本発明は、情報記録媒体用原盤の本体の一部に硬質薄膜
を用いる等の手法を採ることにより、型全体としての高
い耐久性を確保し、しかも上述従来例のような種々の欠
点を除いた、情報記録媒体用原盤の製造方法を提供する
ことにある。
を用いる等の手法を採ることにより、型全体としての高
い耐久性を確保し、しかも上述従来例のような種々の欠
点を除いた、情報記録媒体用原盤の製造方法を提供する
ことにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の目的は、基材上にパターニングされたレジストの
層を形成し、続いて、該レジストのある基材面上に硬質
薄膜を成膜した後、該レジスト層を溶解することにより
該レジスト層とその上部の硬質薄膜とを除去することを
特徴とする、情報記録媒体用原盤の製造方法により達成
できる。。
層を形成し、続いて、該レジストのある基材面上に硬質
薄膜を成膜した後、該レジスト層を溶解することにより
該レジスト層とその上部の硬質薄膜とを除去することを
特徴とする、情報記録媒体用原盤の製造方法により達成
できる。。
以下、本発明を図面を参照して詳細に説明する。
第１図に、本発明の方法の一態様を示す。この態様にお
いては、まず、基材１の上にフォトレジスト層２のパタ
ーンを形成する［図、（Ａ）→（ロ）］。基材１の材質
としては、本態様の最終製品たる情報記録媒体用原盤に
おいて要求される耐久性に、応するだけの強度、硬度を
備えたものが制限なく使用できるが、十分な耐久性を獲
得するため、できるだけそれらの特性が高いものを使用
するとよい。基板材質の具体例としては、金型用鋼、超
硬合金、シリコン、石英、ガラスが挙げられる。基材１
は、必要なだけ、鏡面研磨し、洗浄して用いる。なお、
フォトレジストのパターンを形成するには、通常のフォ
トリソ技術を利用すればよいが、他の種類のレジストを
用いるときにはそれに応じた方法を利用すればよい。
いては、まず、基材１の上にフォトレジスト層２のパタ
ーンを形成する［図、（Ａ）→（ロ）］。基材１の材質
としては、本態様の最終製品たる情報記録媒体用原盤に
おいて要求される耐久性に、応するだけの強度、硬度を
備えたものが制限なく使用できるが、十分な耐久性を獲
得するため、できるだけそれらの特性が高いものを使用
するとよい。基板材質の具体例としては、金型用鋼、超
硬合金、シリコン、石英、ガラスが挙げられる。基材１
は、必要なだけ、鏡面研磨し、洗浄して用いる。なお、
フォトレジストのパターンを形成するには、通常のフォ
トリソ技術を利用すればよいが、他の種類のレジストを
用いるときにはそれに応じた方法を利用すればよい。
レジストの厚さは、次の工程での硬質薄膜形成後、レジ
スト及びその上の硬質薄膜を良好に除去するために、硬
質薄膜の厚さより厚くすることが望ましい。
スト及びその上の硬質薄膜を良好に除去するために、硬
質薄膜の厚さより厚くすることが望ましい。
次に、パターン化されたフォトレジスト層２が形成され
た基材１の露出表面上に硬質薄膜３を成膜する［（Ｂ）
→（Ｃ）］。硬質薄膜３の材質も基材材質と同じような
観点から選ばれるが、薄膜が形成しやすいものを選ぶと
よい。硬質薄膜の具体例としては ＴｉＮ 、 Ｓｉ３
Ｎ４ 、ＣｒＮ 、 Ｔｉｅ 、 ５ｉＣ１ＷＣ、 Ａ
ｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｓ ｉ０２、ＨｆＢ２
、ＴｉＢ２が挙げられる。硬質薄＠３の成膜法は、適宜
選定すればよいが、例えばイオンブレーティング、スパ
ッタリングが挙げられる。
た基材１の露出表面上に硬質薄膜３を成膜する［（Ｂ）
→（Ｃ）］。硬質薄膜３の材質も基材材質と同じような
観点から選ばれるが、薄膜が形成しやすいものを選ぶと
よい。硬質薄膜の具体例としては ＴｉＮ 、 Ｓｉ３
Ｎ４ 、ＣｒＮ 、 Ｔｉｅ 、 ５ｉＣ１ＷＣ、 Ａ
ｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｓ ｉ０２、ＨｆＢ２
、ＴｉＢ２が挙げられる。硬質薄＠３の成膜法は、適宜
選定すればよいが、例えばイオンブレーティング、スパ
ッタリングが挙げられる。
硬質薄膜３の厚さは、トラック信号が最適になる条件か
ら決定される。
ら決定される。
次いで、フォトレジストのみを溶かす溶解液により、フ
ォトレジスト層２を溶かし、こうすることによりフォト
レジスト層２とその上の硬質薄膜３とを共に除去して、
情報記録媒体用原盤を完成する ［（Ｃ）→（Ｄ）］。
ォトレジスト層２を溶かし、こうすることによりフォト
レジスト層２とその上の硬質薄膜３とを共に除去して、
情報記録媒体用原盤を完成する ［（Ｃ）→（Ｄ）］。
本発明の方法の他の態様を第２図に示す。この態様は、
板状片１ａに下地薄膜１ｂを成膜し、これを基材とした
以外は前記態様と同じように実施したものである。下地
薄膜１ｂの硬度、厚さに応じて、その下の板状片１ａの
材質、厚さの選定範囲が拡がる点に長所がある。
板状片１ａに下地薄膜１ｂを成膜し、これを基材とした
以外は前記態様と同じように実施したものである。下地
薄膜１ｂの硬度、厚さに応じて、その下の板状片１ａの
材質、厚さの選定範囲が拡がる点に長所がある。
実施例１
超硬合金製の基材上に、厚さＩｇｍのフォトレジスト（
商品名、ＡＺＩ３７０）のパターンを形成した。
商品名、ＡＺＩ３７０）のパターンを形成した。
次いで、イオンブレーティング法によりＴｉＮの硬質薄
膜（厚さ：ｏ、２５ｐ）を成膜した。その後、アセトン
によりフォトレジストを溶かし、その上の硬質薄膜と共
に除去して情報記録媒体用原盤を作製した。
膜（厚さ：ｏ、２５ｐ）を成膜した。その後、アセトン
によりフォトレジストを溶かし、その上の硬質薄膜と共
に除去して情報記録媒体用原盤を作製した。
実施例２
基材として、マルエージング鋼上にイオンブレーティン
グ法によって厚さ２鱗のＴｉＮを成膜したものを用いた
以外は実施例１と同様にして、情報記録媒体用原盤を作
製した。
グ法によって厚さ２鱗のＴｉＮを成膜したものを用いた
以外は実施例１と同様にして、情報記録媒体用原盤を作
製した。
本発明によって、次のような効果が得られた。
の硬度や強度の高い基材と硬質薄膜とを利用しているた
め従来の電鋳による金型に比べ耐久性が向上する。
め従来の電鋳による金型に比べ耐久性が向上する。
Ｏレジスト層のパターンを硬質薄膜に直接転写し、その
転写部分が最終製品の一部を成すので、高精度の金型が
得られる。
転写部分が最終製品の一部を成すので、高精度の金型が
得られる。
θ電鋳型に比べ製作時間が著しく短かく、コスト低減が
可能である。
可能である。
０前記従来方法（特開昭５８−１０４１９０号の方法）
における剥離工程のような、スムーズに実施できない工
程を利用しなくてもよい。
における剥離工程のような、スムーズに実施できない工
程を利用しなくてもよい。
第１図、第２図はそれぞれ本発明の金型製作法の実施態
様を工程順に示す図である。 １：基材、 １ａ：板状片、 ｌｂ二下地薄膜、２ニレ
ジスト層、 ３：硬質薄膜。 ■ （Ｄ） 第１図 ｄ 第２図
様を工程順に示す図である。 １：基材、 １ａ：板状片、 ｌｂ二下地薄膜、２ニレ
ジスト層、 ３：硬質薄膜。 ■ （Ｄ） 第１図 ｄ 第２図
Claims (4)
- （１）基材上にパターニングされたレジストの層を形成
し、続いて、該レジストのある基材面上に硬質薄膜を成
膜した後、該レジスト層を溶解することにより該レジス
ト層とその上部の硬質薄膜とを除去することを特徴とす
る、情報記録媒体用原盤の製造方法。 - （２）前記基材として、金型用鋼、超硬合金、シリコン
、石英またはガラスを用いる特許請求の範囲第１項記載
の情報記録媒体用原盤の製造方法。 - （３）前記硬質薄膜を無機窒化物、無機炭化物、無機酸
化物または無機硼化物とする特許請求の範囲第１項又は
第２項記載の情報記録媒体用原盤の製造方法。 - （４）前記硬質薄膜をＴｉＮ、Ｓｉ＿３Ｎ＿４、ＣｒＮ
、ＴｉＣ、ＳｉＣ、ＷＣ、Ａｌ＿２Ｏ＿３、ＺｒＯ＿２
、ＴｉＯ＿２、ＳｉＯ＿２、ＨｆＢ＿２及びＴｉＢ＿２
から成る群より選ばれた１種以上の化合物とする特許請
求の範囲第１項又は第２項記載の情報記録媒体用原盤の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26388486A JPS63119037A (ja) | 1986-11-07 | 1986-11-07 | 情報記録媒体用原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26388486A JPS63119037A (ja) | 1986-11-07 | 1986-11-07 | 情報記録媒体用原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63119037A true JPS63119037A (ja) | 1988-05-23 |
Family
ID=17395584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26388486A Pending JPS63119037A (ja) | 1986-11-07 | 1986-11-07 | 情報記録媒体用原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63119037A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0244546A (ja) * | 1988-08-03 | 1990-02-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク原盤の製造方法 |
-
1986
- 1986-11-07 JP JP26388486A patent/JPS63119037A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0244546A (ja) * | 1988-08-03 | 1990-02-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク原盤の製造方法 |
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