JPS6190344A - 光デイスク成形用スタンパ - Google Patents
光デイスク成形用スタンパInfo
- Publication number
- JPS6190344A JPS6190344A JP21044384A JP21044384A JPS6190344A JP S6190344 A JPS6190344 A JP S6190344A JP 21044384 A JP21044384 A JP 21044384A JP 21044384 A JP21044384 A JP 21044384A JP S6190344 A JPS6190344 A JP S6190344A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- titanium
- oxide
- layer
- beryllium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は光ディスクの製作に使用されるスタンパさらに
詳しくはスタンパの表面硬度の改良に関する。
詳しくはスタンパの表面硬度の改良に関する。
従来、スタンパの作製方法としては種々の方法が知られ
ている。その代表的な方法では、ガラス基板上にプライ
マーとしてシランカップリング剤を塗布しその上に潜像
記録材料であるフォトレジスト（例えばＡＺ−１３５０
）層を塗布して原盤を製作し次いでこの原盤をカッティ
ングマシーンにかけ次いでＡｒレーザ光（波長４５７９
Ａ）でフォトレジスト層を選択的に露光しこれＫよっ
て必要な信号をフォトレジスト層に書き込み現像をして
凹凸を形成する。これがガラス原盤であシこれから複製
される金型はガラス原盤の凹凸を正確に転写しなお且つ
長寿命が要求される。それ故、Ｎ１電鋳前の表面導体化
（メタルメンブレン）の方法やＮ１電鋳後のスタッフξ
表面の硬化方法に工夫がなされている。
ている。その代表的な方法では、ガラス基板上にプライ
マーとしてシランカップリング剤を塗布しその上に潜像
記録材料であるフォトレジスト（例えばＡＺ−１３５０
）層を塗布して原盤を製作し次いでこの原盤をカッティ
ングマシーンにかけ次いでＡｒレーザ光（波長４５７９
Ａ）でフォトレジスト層を選択的に露光しこれＫよっ
て必要な信号をフォトレジスト層に書き込み現像をして
凹凸を形成する。これがガラス原盤であシこれから複製
される金型はガラス原盤の凹凸を正確に転写しなお且つ
長寿命が要求される。それ故、Ｎ１電鋳前の表面導体化
（メタルメンブレン）の方法やＮ１電鋳後のスタッフξ
表面の硬化方法に工夫がなされている。
一般的には、スパッタリング法または真空蒸着法でＮｉ
薄膜層を形成させた後、Ｎ１電鋳を行なってスタンパを
製作する。この場合、同一金属であるので密着性とスト
レスに問題はないがスタンパ表面がＮｉ面であるので寿
命に問題がある。
薄膜層を形成させた後、Ｎ１電鋳を行なってスタンパを
製作する。この場合、同一金属であるので密着性とスト
レスに問題はないがスタンパ表面がＮｉ面であるので寿
命に問題がある。
また、寿命を延長するためにスタンパ表面をＣｒとＮ１
との２層構造にすることが提案されているがスタンパ表
面がＣｒ層であるため粗（なシ且つＣｒとＮｉ層の境界
でストレスが発生して転写複製が忠実に行なわれていな
いのが現状である。
との２層構造にすることが提案されているがスタンパ表
面がＣｒ層であるため粗（なシ且つＣｒとＮｉ層の境界
でストレスが発生して転写複製が忠実に行なわれていな
いのが現状である。
本発明は上記現状に鑑みてなされたものであって、その
目的は光ディスクの製作に必要なスタンパの初期品質の
維持と寿命の延長にある。
目的は光ディスクの製作に必要なスタンパの初期品質の
維持と寿命の延長にある。
上記目的を達成するために、本発明は１５７７２表面に
硬くて表面性の良好なチタン、酸化チタン、ベリリウム
、炭化タングステン、酸化ジルコニウムまたは酸化ケイ
素のいずれかの層を設けることである。
硬くて表面性の良好なチタン、酸化チタン、ベリリウム
、炭化タングステン、酸化ジルコニウムまたは酸化ケイ
素のいずれかの層を設けることである。
次に本発明を実施例について説明する。
従来方式のうち最も一般的な方法であるＮ１導体化（メ
ンブレン）とＮユ電鋳で作製されたスタンパぐ表面にイ
オンブレーティング法でチタン（Ｔｉ）薄膜を約０．０
５μｍの薄膜で形成した。イオンブレーティング条件は
１３５６■２の高周波（ＲＦ）、出力５００Ｗ、基板印
加電圧−２ＫＶ（ＤＣ）、アルゴンガス、電気抵抗加熱
法、真空度５ Ｘ １０−４Ｔｏｒｒおよびブレーティ
ング速度２０λ／ｓｅｃであった。なお、よシ硬度な表
面を得るには蒸着物質として酸化チタン（’ＴｉＯ２）
を使用しまた蒸発源として電子ビームを使用して酸素ガ
ス雰囲気中でイオンブレーティングを行なうのが好まし
い。
ンブレン）とＮユ電鋳で作製されたスタンパぐ表面にイ
オンブレーティング法でチタン（Ｔｉ）薄膜を約０．０
５μｍの薄膜で形成した。イオンブレーティング条件は
１３５６■２の高周波（ＲＦ）、出力５００Ｗ、基板印
加電圧−２ＫＶ（ＤＣ）、アルゴンガス、電気抵抗加熱
法、真空度５ Ｘ １０−４Ｔｏｒｒおよびブレーティ
ング速度２０λ／ｓｅｃであった。なお、よシ硬度な表
面を得るには蒸着物質として酸化チタン（’ＴｉＯ２）
を使用しまた蒸発源として電子ビームを使用して酸素ガ
ス雰囲気中でイオンブレーティングを行なうのが好まし
い。
上述のよう処して作製したスタンパ表面にチタン薄膜を
設けた本発明のスタンパを用いて光ディスク（材質、ポ
リメタクリレート樹脂）を成形したところ、１８０００
枚も成形できた。これに対し、従来のスタンパぐによれ
ば約７０００枚しか成形できなかった。なお、チタンお
よび酸化チタン以外の他の物質を下記の表に示す薄膜作
製条件を用いてスタンパ表面を同様に処理したところ同
様の効果を得ることができた。
設けた本発明のスタンパを用いて光ディスク（材質、ポ
リメタクリレート樹脂）を成形したところ、１８０００
枚も成形できた。これに対し、従来のスタンパぐによれ
ば約７０００枚しか成形できなかった。なお、チタンお
よび酸化チタン以外の他の物質を下記の表に示す薄膜作
製条件を用いてスタンパ表面を同様に処理したところ同
様の効果を得ることができた。
薄膜作製条件
Ｔｉ Ｏ，０５５００５ｘ １［］−’ ２０
抵抗加熱ＴｉＯ２０，０３４５０１Ｘ １０＝
１５ 電子ビームＢｅ Ｏ，０７６００５
ｘ １ｏ−’＋ ２５ 抵抗加熱ＷＣＯ，０４４
５０２Ｘ１０＝ １２ 電子ビームＺｒＯ２
０，０４４７０１Ｘ １０−４１７Ｓｉ０２０．０６
４５０ ＃ ２０なお、本発明により上述のよ
うにして表面処理されるスタンパは例えば次のようにし
て製作することかできる。
抵抗加熱ＴｉＯ２０，０３４５０１Ｘ １０＝
１５ 電子ビームＢｅ Ｏ，０７６００５
ｘ １ｏ−’＋ ２５ 抵抗加熱ＷＣＯ，０４４
５０２Ｘ１０＝ １２ 電子ビームＺｒＯ２
０，０４４７０１Ｘ １０−４１７Ｓｉ０２０．０６
４５０ ＃ ２０なお、本発明により上述のよ
うにして表面処理されるスタンパは例えば次のようにし
て製作することかできる。
ガラス基板上にフォトレジスト層を形成させ、そのフォ
トレジスト層に情報信号で強度変調されたレーザ光ある
いは電子ビームを照射し次いでフォトレジスト層を現像
処理することによってフォトレジスト層に情報信号と対
応する凹凸を形成させ次に前記したフォトレジスト層の
表面に化学メッキにより極めて薄い銀の膜を付着させて
フォトレジスト層の表面を導電化し次い′で電気メッキ
によりニッケル層を付着させた後にそのニッケル層を銀
鏡面から剥離し、それを金属マスクとし、次に前記の金
属マスクの表面に電気メッキによってニッケル層を付着
させた後に金属マスクからそれに付着されているニッケ
ル層を剥離してそれを金属マザーとし、その金属マザー
の表面に電気メッキによってニッケル層を付着させ、次
いで金属マザーからそれに付着されているニッケル層を
剥離してスタンパを作る。なお、本発明で採用されるス
タンパの製作法は上述したものに制限されるものではな
く当業界で知られた任意のものを用いることができる。
トレジスト層に情報信号で強度変調されたレーザ光ある
いは電子ビームを照射し次いでフォトレジスト層を現像
処理することによってフォトレジスト層に情報信号と対
応する凹凸を形成させ次に前記したフォトレジスト層の
表面に化学メッキにより極めて薄い銀の膜を付着させて
フォトレジスト層の表面を導電化し次い′で電気メッキ
によりニッケル層を付着させた後にそのニッケル層を銀
鏡面から剥離し、それを金属マスクとし、次に前記の金
属マスクの表面に電気メッキによってニッケル層を付着
させた後に金属マスクからそれに付着されているニッケ
ル層を剥離してそれを金属マザーとし、その金属マザー
の表面に電気メッキによってニッケル層を付着させ、次
いで金属マザーからそれに付着されているニッケル層を
剥離してスタンパを作る。なお、本発明で採用されるス
タンパの製作法は上述したものに制限されるものではな
く当業界で知られた任意のものを用いることができる。
本発明によるスタンバは表面硬度が高く且つストレスが
発生しないため転写・複製が忠実に行なわれ成形回数（
約１８０００枚）も多くなる。
発生しないため転写・複製が忠実に行なわれ成形回数（
約１８０００枚）も多くなる。
したがって、スタンパの品質向上と寿命延長に大きな利
点が得られる。
点が得られる。
Claims (1)
- スタンパの表面にチタン、酸化チタン、ベリリウム、炭
化タングステン、酸化ジルコニウムまたは酸化ケイ素の
いずれかの層を設けたことを特徴とする、光ディスク成
形用スタンパ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21044384A JPS6190344A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 光デイスク成形用スタンパ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21044384A JPS6190344A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 光デイスク成形用スタンパ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6190344A true JPS6190344A (ja) | 1986-05-08 |
Family
ID=16589411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21044384A Pending JPS6190344A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 光デイスク成形用スタンパ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6190344A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01143036A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-05 | Toppan Printing Co Ltd | 光ディスク用スタンパー |
| FR2671657A1 (fr) * | 1991-01-16 | 1992-07-17 | Digipress Sa | Disque optique ou matrice de pressage pour la fabrication de tels disques. |
| WO2003020488A1 (de) * | 2001-08-30 | 2003-03-13 | Zeptosens Ag | Verfahren zur herstellung von abformkörpern, insbesondere optischen strukturen, und deren verwendung |
-
1984
- 1984-10-09 JP JP21044384A patent/JPS6190344A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01143036A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-05 | Toppan Printing Co Ltd | 光ディスク用スタンパー |
| FR2671657A1 (fr) * | 1991-01-16 | 1992-07-17 | Digipress Sa | Disque optique ou matrice de pressage pour la fabrication de tels disques. |
| WO2003020488A1 (de) * | 2001-08-30 | 2003-03-13 | Zeptosens Ag | Verfahren zur herstellung von abformkörpern, insbesondere optischen strukturen, und deren verwendung |
| US7767131B2 (en) | 2001-08-30 | 2010-08-03 | Bayer Technology Services Gmbh | Method for production of moulded bodies, in particular optical structures and use thereof |
| US8380020B2 (en) | 2001-08-30 | 2013-02-19 | Weidmann Plastics Technology Ag | Planar optical structure forming an evanescent field measuring platform that includes a layer molded by a master |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR0141089B1 (ko) | 스탬퍼제조방법 | |
| US5167792A (en) | Master holder of stamper electroforming apparatus and electroforming method | |
| JP2005070650A (ja) | レジストパターン形成方法 | |
| JPS6190344A (ja) | 光デイスク成形用スタンパ | |
| JPH10337734A (ja) | 成形型およびその製造方法 | |
| JPS6148146A (ja) | 光デイスク用スタンパ | |
| KR100817566B1 (ko) | 스탬퍼, 및 그 제조 방법 | |
| JPH01246391A (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JPS58150148A (ja) | スタンパ−の製造方法 | |
| JPH05205321A (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JPS5920486A (ja) | 精密成形用金型の製造方法 | |
| JPS60173737A (ja) | 光学デイスク用スタンパ−の製造方法 | |
| JPS6262450A (ja) | スタンパの製法 | |
| JPS61221392A (ja) | スタンパ− | |
| JPS6177152A (ja) | 光デイスク用スタンパの製作法 | |
| JPS63191334A (ja) | 光デイスク用スタンパ | |
| JPH0758564B2 (ja) | 情報記憶ディスク用原板および情報記憶ディスク用基板の製造方法 | |
| JPS60138088A (ja) | 情報記録金型の製法 | |
| JPS62130291A (ja) | 光ディスク基板成形用アルミニウム原盤の製造方法 | |
| JP3087136B2 (ja) | スタンパ原盤 | |
| JPS60182532A (ja) | 平板状情報記録担体複製金型 | |
| JPS62130290A (ja) | 光デイスク用アルミニウム原盤の製造方法 | |
| JPH059775A (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JPS59218646A (ja) | 母型の製造方法 | |
| JPH09161336A (ja) | 光記録媒体用スタンパの製造方法 |