JPS63119039A - 情報記録媒体用原盤の製造方法 - Google Patents
情報記録媒体用原盤の製造方法Info
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- JPS63119039A JPS63119039A JP26388686A JP26388686A JPS63119039A JP S63119039 A JPS63119039 A JP S63119039A JP 26388686 A JP26388686 A JP 26388686A JP 26388686 A JP26388686 A JP 26388686A JP S63119039 A JPS63119039 A JP S63119039A
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、情報記録媒体の製作時、それに案内溝やマー
カー等の凹凸を設けるために用いられる情報記録媒体用
原盤の製造方法に関する。
カー等の凹凸を設けるために用いられる情報記録媒体用
原盤の製造方法に関する。
従来、情報記録媒体用原盤は、次のように製造されてい
た。即ち、まずガラス盤上に塗布されたフォトレジスト
膜にレーザビームを用いて、パターン形成し、次いで、
これを原型としてニッケル電鋳を通常複数回繰り返えす
ことにより、パターンの転写された電鋳型として製造さ
れていた。
た。即ち、まずガラス盤上に塗布されたフォトレジスト
膜にレーザビームを用いて、パターン形成し、次いで、
これを原型としてニッケル電鋳を通常複数回繰り返えす
ことにより、パターンの転写された電鋳型として製造さ
れていた。
しかし、耐久性が低いことから、特開昭５８−１５８０
５７号あるいは特開昭５８−１０４１９０号で示されて
いる様に、情報記録媒体用原盤の本体表面にＧｒＮ 、
ＡＩＮ 、 ＴｉＮ等の高硬度物質の層を設は耐久性
の向上を図っている。
５７号あるいは特開昭５８−１０４１９０号で示されて
いる様に、情報記録媒体用原盤の本体表面にＧｒＮ 、
ＡＩＮ 、 ＴｉＮ等の高硬度物質の層を設は耐久性
の向上を図っている。
しかし、特開昭５８−１５８０５７号の方法は、耐久性
を十分向上させるため高硬度物質の層を厚くすると、精
度上問題が生ずる。また、特開昭５８−１０４１９０号
の方法は、高硬度物質が被着された母型にメッキし、メ
ッキと共に該物質を剥離して電鋳型を製造するが、該物
質とメッキとを一体化して剥離することが容易でない。
を十分向上させるため高硬度物質の層を厚くすると、精
度上問題が生ずる。また、特開昭５８−１０４１９０号
の方法は、高硬度物質が被着された母型にメッキし、メ
ッキと共に該物質を剥離して電鋳型を製造するが、該物
質とメッキとを一体化して剥離することが容易でない。
更に両者とも、電鋳型の一種であることから型製作に時
間がかかるという欠点があフた。
間がかかるという欠点があフた。
本発明は、情報記録媒体用原盤の本体の一部として硬質
な物質を用いたり、集束イオンビームでマスクなしでエ
ツチングする等の手法を採用することにより、型全体と
しての耐久性の向上と工程の簡素化を図り、しかも上述
従来例のような種々の欠点を除いた、情報記録媒体用原
盤の製造方法を提供することにある。
な物質を用いたり、集束イオンビームでマスクなしでエ
ツチングする等の手法を採用することにより、型全体と
しての耐久性の向上と工程の簡素化を図り、しかも上述
従来例のような種々の欠点を除いた、情報記録媒体用原
盤の製造方法を提供することにある。
上記の目的は、基材上に硬質薄膜を成膜し、集束イオン
ビームの照射により、該硬質薄膜をエツチング加工して
、パターンを形成することを特徴とする、情報記録媒体
用原盤の製造方法により達成できる。
ビームの照射により、該硬質薄膜をエツチング加工して
、パターンを形成することを特徴とする、情報記録媒体
用原盤の製造方法により達成できる。
以下、本発明を図面を参照して詳細に説明する。
第１図に、本発明の方法の一態様を示す。この態様にお
いては、まず、基材１の上に硬質薄膜２を成膜する［図
、（Ａ）→（Ｂ）］。基材１の材質としては、本態様の
最終製品たる情報記録媒体用原盤において要求される耐
久性に、応するだけの強度を備えたものが制限なく使用
できるが、十分な耐久性を獲得するため、できるだけそ
の特性が高いものを使用するとよい。基板材質の具体例
としては、超硬合金、マルエージング鋼等の金型用鋼を
焼き入れしたもの、シリコン、石英等が挙げられる。基
材１は、必要なだけ、鏡面研磨し、洗浄して用いる。硬
質膜＠２の材質は、次の工程が実施できる範囲内の硬度
となる物質の中から選択する必要があるが、その範囲内
で、基材と同様、最終製品が要求する耐久性を考慮して
選択すればよい。ただし、できるだけ硬く、且つ薄膜が
形成しやすいものの中から選ぶとよい。硬質薄膜２の材
質の具体例としてはＴｉＮ ％Ｓｉ３Ｎ、 、ＧｒＮ
、 Ｔｉｅ、ＳｉＣ、ＷＣ、Ａｌ２Ｏ３ 、 ＺｒＯ
２、ＴｉＯ２，ＳｉＯ２、 ＨｆＢ２、ＴｉＢ２、Ｓｔ
、 Ｇｅ、 Ｂ等が挙げられる。硬質薄膜２の成膜法は
、適宜選定すればよいが、例えば、活性化反応蒸着法、
イオンブレーティング、スパッタリングが挙げられる。
いては、まず、基材１の上に硬質薄膜２を成膜する［図
、（Ａ）→（Ｂ）］。基材１の材質としては、本態様の
最終製品たる情報記録媒体用原盤において要求される耐
久性に、応するだけの強度を備えたものが制限なく使用
できるが、十分な耐久性を獲得するため、できるだけそ
の特性が高いものを使用するとよい。基板材質の具体例
としては、超硬合金、マルエージング鋼等の金型用鋼を
焼き入れしたもの、シリコン、石英等が挙げられる。基
材１は、必要なだけ、鏡面研磨し、洗浄して用いる。硬
質膜＠２の材質は、次の工程が実施できる範囲内の硬度
となる物質の中から選択する必要があるが、その範囲内
で、基材と同様、最終製品が要求する耐久性を考慮して
選択すればよい。ただし、できるだけ硬く、且つ薄膜が
形成しやすいものの中から選ぶとよい。硬質薄膜２の材
質の具体例としてはＴｉＮ ％Ｓｉ３Ｎ、 、ＧｒＮ
、 Ｔｉｅ、ＳｉＣ、ＷＣ、Ａｌ２Ｏ３ 、 ＺｒＯ
２、ＴｉＯ２，ＳｉＯ２、 ＨｆＢ２、ＴｉＢ２、Ｓｔ
、 Ｇｅ、 Ｂ等が挙げられる。硬質薄膜２の成膜法は
、適宜選定すればよいが、例えば、活性化反応蒸着法、
イオンブレーティング、スパッタリングが挙げられる。
硬質薄膜２の膜厚は、通常は０．５μ〜５．０鱗程度と
すればよい。
すればよい。
次に、移動範囲を高精度に制御可能なステージを備えた
、集束イオンビーム装置内に、上記の、硬質薄膜２が成
膜された基材１を入れ、集束イオンビームを利用して硬
質薄膜２をエツチングし、所望のパターンをもった情報
記録媒体用原盤とする。
、集束イオンビーム装置内に、上記の、硬質薄膜２が成
膜された基材１を入れ、集束イオンビームを利用して硬
質薄膜２をエツチングし、所望のパターンをもった情報
記録媒体用原盤とする。
本発明の他の態様を第２図に示す。この態様では、基材
１上に、エツチングされにくい硬質薄膜２ａとエツチン
グされやすい硬質薄膜２ｂを順に成膜し、他の操作は上
記と同様とする。このようにすれば、集束イオンビーム
の出力を適当に選択することにより、パターンの深さを
容易に制御できるばかりでなく、案内溝等が刻まれる硬
質薄膜２ｂと基材１との密着性を高める作用を、硬質膜
２ａにもたすこともできる。こうしたことを考慮して硬
質薄膜２ａ、２ｂの材質は選択すればよい。例えば硬質
薄膜２ａとしてＴｉＮ、硬質薄膜２ｂとしてＴｉＣの組
合わせが挙げられる。
１上に、エツチングされにくい硬質薄膜２ａとエツチン
グされやすい硬質薄膜２ｂを順に成膜し、他の操作は上
記と同様とする。このようにすれば、集束イオンビーム
の出力を適当に選択することにより、パターンの深さを
容易に制御できるばかりでなく、案内溝等が刻まれる硬
質薄膜２ｂと基材１との密着性を高める作用を、硬質膜
２ａにもたすこともできる。こうしたことを考慮して硬
質薄膜２ａ、２ｂの材質は選択すればよい。例えば硬質
薄膜２ａとしてＴｉＮ、硬質薄膜２ｂとしてＴｉＣの組
合わせが挙げられる。
実施例１
マルエージング鋼ＹＡＧ２５０製の基材を鏡面研磨、洗
浄し、その上に、活性化反応蒸着法によりＴｉＮの硬質
薄膜（厚さ： １．Ｏｐ）を成膜した。その後、集束イ
オンビーム装置を用い、加速電圧４０にＶのＡｒイオン
により溝深さ０．２５μのパターンを形成して、情報記
録媒体用の原盤を完成した。
浄し、その上に、活性化反応蒸着法によりＴｉＮの硬質
薄膜（厚さ： １．Ｏｐ）を成膜した。その後、集束イ
オンビーム装置を用い、加速電圧４０にＶのＡｒイオン
により溝深さ０．２５μのパターンを形成して、情報記
録媒体用の原盤を完成した。
（発明の効果）
本発明によって、次のような効果が得られた。
の硬度、強度の高い基材と硬質膜とを利用しているため
従来の電鋳による金型に比べ耐久性が向上する。
従来の電鋳による金型に比べ耐久性が向上する。
０フオトレジスト膜を用いるフォトリソグラフィー工程
が不要になるため製造工程の低減が可能である。
が不要になるため製造工程の低減が可能である。
Ｏ電鋳型に比べ製作時間が著しく短かく、コスト低減が
可能である。
可能である。
Ｑ前記従来法（特開昭５８−１０４１９０号の方法）に
おける剥離工程のような、スムーズに実施できない工程
を利用しなくてもよい。
おける剥離工程のような、スムーズに実施できない工程
を利用しなくてもよい。
■転写工程が不要であるので、高鯖度のパターン形状を
有する情報記録媒体用原盤が製造できる。
有する情報記録媒体用原盤が製造できる。
第１図、第２図はそれぞれ本発明の金型製作法の実施態
様を、工程順に示す図である。 １：基材、 ２．２ａ、２ｂ：硬質薄膜。
様を、工程順に示す図である。 １：基材、 ２．２ａ、２ｂ：硬質薄膜。
Claims (3)
- （１）基材上に硬質薄膜を成膜し、集束イオンビームの
照射により、該硬質薄膜をエッチング加工して、パター
ンを形成することを特徴とする、情報記録媒体用原盤の
製造方法。 - （２）前記硬質薄膜を無機窒化物、無機炭化物、無機酸
化物、無機硼化物または半導体とする特許請求の範囲第
１項記載の情報記録媒体用原盤の製造方法。 - （３）前記硬質薄膜をＴｉＮ、Ｓｉ＿３Ｎ＿４、ＣｒＮ
、ＴｉＣ、ＳｉＣ、ＷＣ、Ａｌ＿２Ｏ＿３、ＺｒＯ＿２
、ＴｉＯ＿２、ＳｉＯ＿２、ＨｆＢ＿２、ＴｉＢ＿２、
Ｓｉ、Ｇｅ及びＢから成る群より選ばれた１種以上とす
る特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体用原盤の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26388686A JPS63119039A (ja) | 1986-11-07 | 1986-11-07 | 情報記録媒体用原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26388686A JPS63119039A (ja) | 1986-11-07 | 1986-11-07 | 情報記録媒体用原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63119039A true JPS63119039A (ja) | 1988-05-23 |
Family
ID=17395616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26388686A Pending JPS63119039A (ja) | 1986-11-07 | 1986-11-07 | 情報記録媒体用原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63119039A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04259937A (ja) * | 1991-02-14 | 1992-09-16 | Victor Co Of Japan Ltd | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 |
-
1986
- 1986-11-07 JP JP26388686A patent/JPS63119039A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04259937A (ja) * | 1991-02-14 | 1992-09-16 | Victor Co Of Japan Ltd | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 |
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