JPS63131152U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63131152U JPS63131152U JP2316587U JP2316587U JPS63131152U JP S63131152 U JPS63131152 U JP S63131152U JP 2316587 U JP2316587 U JP 2316587U JP 2316587 U JP2316587 U JP 2316587U JP S63131152 U JPS63131152 U JP S63131152U
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- JP
- Japan
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- element isolation
- isolation region
- diffusion layer
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- region
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- Granted
Links
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Landscapes
- Bipolar Transistors (AREA)
Description
第1図aおよびbはそれぞれ本考案の一実施例
を示す部分平面図および断面図、第2図aおよび
bは従来の代表的なバイポーラ型半導体装置の部
分平面図および断面図である。 1……P型シリコン基板、2……N+埋入層、
3……N−エピタキシヤル層からなるコレクタ領
域、4……P型ベース領域、5……P+拡散層か
らなる素子分離領域、6……フイールド絶縁膜、
7,12……コンタクト孔、9……第1層配線の
ベース引出配線、10……スルー・ホール、11
……第2層配線のベース引出配線、13……フイ
ールド・プレート電極、14……層間絶縁膜。
を示す部分平面図および断面図、第2図aおよび
bは従来の代表的なバイポーラ型半導体装置の部
分平面図および断面図である。 1……P型シリコン基板、2……N+埋入層、
3……N−エピタキシヤル層からなるコレクタ領
域、4……P型ベース領域、5……P+拡散層か
らなる素子分離領域、6……フイールド絶縁膜、
7,12……コンタクト孔、9……第1層配線の
ベース引出配線、10……スルー・ホール、11
……第2層配線のベース引出配線、13……フイ
ールド・プレート電極、14……層間絶縁膜。
Claims (1)
- 高濃度のP型拡散層を素子分離領域とし、ベー
ス領域と外部端子とを接続するベース引出配線が
前記P型拡散層の素子分離領域上を横切る布線構
造を備えるNPNバイポーラ・トランジスタを含
む半導体装置において、前記P型拡散層の素子分
離領域とベース領域との間のフイールド絶縁膜上
の素子分離領域とコンタクト孔を介して電気接続
されるフイールド・プレート電極が延在して設け
られることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2316587U JPH0525232Y2 (ja) | 1987-02-18 | 1987-02-18 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2316587U JPH0525232Y2 (ja) | 1987-02-18 | 1987-02-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63131152U true JPS63131152U (ja) | 1988-08-26 |
JPH0525232Y2 JPH0525232Y2 (ja) | 1993-06-25 |
Family
ID=30821214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2316587U Expired - Lifetime JPH0525232Y2 (ja) | 1987-02-18 | 1987-02-18 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0525232Y2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02248078A (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-03 | Fuji Electric Co Ltd | 高耐圧素子を含む半導体装置 |
-
1987
- 1987-02-18 JP JP2316587U patent/JPH0525232Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02248078A (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-03 | Fuji Electric Co Ltd | 高耐圧素子を含む半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0525232Y2 (ja) | 1993-06-25 |