JPS63123392A - ヒアルロン酸の製造方法 - Google Patents
ヒアルロン酸の製造方法Info
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- JPS63123392A JPS63123392A JP26973486A JP26973486A JPS63123392A JP S63123392 A JPS63123392 A JP S63123392A JP 26973486 A JP26973486 A JP 26973486A JP 26973486 A JP26973486 A JP 26973486A JP S63123392 A JPS63123392 A JP S63123392A
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Landscapes
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、醗酵法によるヒアルロン酸の製造法に関する
。さらに詳しくは、栄養要求性が部分的に解除されたス
トレプトコッカス・エキを培養し、ヒアルロン酸を生成
蓄積せしめることを特徴とするヒアルロン酸の製造法に
関する。
。さらに詳しくは、栄養要求性が部分的に解除されたス
トレプトコッカス・エキを培養し、ヒアルロン酸を生成
蓄積せしめることを特徴とするヒアルロン酸の製造法に
関する。
従来ヒアルロン酸はニワ) IJのトサカ、牛の蝋の硝
子体又はWs帝等よシ抽出によって得られてい之。しか
しながら抽出法によるヒアルロン酸製造は、分雌槽裂が
非常に困難等の欠点を有してい友。
子体又はWs帝等よシ抽出によって得られてい之。しか
しながら抽出法によるヒアルロン酸製造は、分雌槽裂が
非常に困難等の欠点を有してい友。
その欠点を改良する之めに、ヒアルロンrRt−生産す
る能力をMする微生Wを培養し、その培養液から直接ヒ
アルロン酸を採暇する方法が開示されている(特開昭5
8−56692号公報、特開昭61−65294号公報
)。
る能力をMする微生Wを培養し、その培養液から直接ヒ
アルロン酸を採暇する方法が開示されている(特開昭5
8−56692号公報、特開昭61−65294号公報
)。
さらに、微生物を培養し、ヒアルロン酸を採噴する方法
につ^て、培養のロットごと生成量を安定化させる九め
、突然変異株を用いる方法が開示されている(?iF開
昭61−219594号会報)。
につ^て、培養のロットごと生成量を安定化させる九め
、突然変異株を用いる方法が開示されている(?iF開
昭61−219594号会報)。
本発明者らは、ヒアルロン酸産生能を有するストレプト
コツカス属の微生物を、培養液の−7,5〜9.0にコ
ントロールすることによシ、高分子歇のヒアルクン酸を
生成蓄積せしめる方法についてすでに提案し九(%願昭
61−17094!1号明細書)。
コツカス属の微生物を、培養液の−7,5〜9.0にコ
ントロールすることによシ、高分子歇のヒアルクン酸を
生成蓄積せしめる方法についてすでに提案し九(%願昭
61−17094!1号明細書)。
微生vJを培養して、ヒアルロン酸の生産を行なうと、
ロットごとの生産瞳が不安定で、1)・工業的に実施す
る際に、大きな問題となる。
ロットごとの生産瞳が不安定で、1)・工業的に実施す
る際に、大きな問題となる。
本発明者らは、かかる問題を解決すべく、1々研究を行
なつ九結果、栄fI!要求性が部分的に解除されたスト
レプトコッカス・エキが意外にも親株よシも、高収瞼で
、しかも装置のバラツキが少なく安定にヒアルロン酸を
生成することを見い出し本発明を完成するに至った。
なつ九結果、栄fI!要求性が部分的に解除されたスト
レプトコッカス・エキが意外にも親株よシも、高収瞼で
、しかも装置のバラツキが少なく安定にヒアルロン酸を
生成することを見い出し本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、栄養要求性が部分的に解除されたス
トレプトコッカス・エキを培養し、ヒアルロン酸を生成
蓄積せしめることを特徴とする醗酵法によるヒアルロン
酸の製造法である。
トレプトコッカス・エキを培養し、ヒアルロン酸を生成
蓄積せしめることを特徴とする醗酵法によるヒアルロン
酸の製造法である。
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明の栄養要求性が部分的に解除されたストレットコ
ツカス・エキは、ヒアル筒ン酸生成ai有するストレプ
トコッカス・エキの突然変異株の中から改得することが
出来る。
ツカス・エキは、ヒアル筒ン酸生成ai有するストレプ
トコッカス・エキの突然変異株の中から改得することが
出来る。
例えば、ストンシトコツカス・エキ ATCC9527
を用い、ポリペプトン1.5%、酵母エキス肌5%、グ
ルコース2%の培地にて、33℃で培養し、対数増N1
@の菌t1低温で遠心分離によシ集醒し、生理*塩水を
用いて、無菌的に5@洗浄する。N−メチル−シーニト
ロ−N−二トロンクアニゾン50aji/mlt:!;
むp)I 5.0.0.05 Mリン酸緩衝液中130
℃で1時間S盪し乏のち、水冷する。
を用い、ポリペプトン1.5%、酵母エキス肌5%、グ
ルコース2%の培地にて、33℃で培養し、対数増N1
@の菌t1低温で遠心分離によシ集醒し、生理*塩水を
用いて、無菌的に5@洗浄する。N−メチル−シーニト
ロ−N−二トロンクアニゾン50aji/mlt:!;
むp)I 5.0.0.05 Mリン酸緩衝液中130
℃で1時間S盪し乏のち、水冷する。
つ^で、生理食塩水を用ηて、低温で陶体を3回洗浄し
た後、ポリペプトン1.5%、酵母、エキス0.5%、
グルコース2%の培地で、55’Q、5時間培養し、ま
た生理食塩水を用いて、低温で菌体’に:3回洗浄する
。表2に示す人工合成培地で、33’C,7日間液体培
養し、増殖してきた培養液をさらに、新し^同じ人工合
成培地にうえつぎ、この操作を3回くシかえす@ 久に寒天をきむ同じ組成の培地上に塗布し、コロニーt
″9離り、、ストレプトコッカス・エキF’M100を
得る。
た後、ポリペプトン1.5%、酵母、エキス0.5%、
グルコース2%の培地で、55’Q、5時間培養し、ま
た生理食塩水を用いて、低温で菌体’に:3回洗浄する
。表2に示す人工合成培地で、33’C,7日間液体培
養し、増殖してきた培養液をさらに、新し^同じ人工合
成培地にうえつぎ、この操作を3回くシかえす@ 久に寒天をきむ同じ組成の培地上に塗布し、コロニーt
″9離り、、ストレプトコッカス・エキF’M100を
得る。
本菌株は、工業技術院微生物工業技術研究所忙、倣工研
菌寄第9027号として受託されている。
菌寄第9027号として受託されている。
ストレプトコッカスFM・100は、部分的に栄養要求
性が解除され、親株でらるATCC9527が生育でき
ない表2に示す培地成分だけからなる人工合成培地によ
く生育することができる。
性が解除され、親株でらるATCC9527が生育でき
ない表2に示す培地成分だけからなる人工合成培地によ
く生育することができる。
ストレプトコッカス・エキFM・100の栄養要求性は
表3に示すとおシである。
表3に示すとおシである。
特定の栄養素の要求性が解除された菌株を吹得するとき
は、表2の培地から、その栄養素を除い之培地を作成し
、上述と同様の操作を行なう。
は、表2の培地から、その栄養素を除い之培地を作成し
、上述と同様の操作を行なう。
また栄II要求性が部分的に解除された菌株は、とくに
人為的に変異処理を行なわなくても、上述のようなうえ
つぎ操作をくシかえずことによシ4得することもできる
。
人為的に変異処理を行なわなくても、上述のようなうえ
つぎ操作をくシかえずことによシ4得することもできる
。
本発明I/C用いる培地は通常の微生物の@養に用いる
もので良く、グルコース、フラクトース、がラクトース
、シュークロース、等の炭素源、リン酸第1カリウム、
リン酸第2カリウム、硫酸マグネシウム、亜硫酸ソーダ
、チオ硫酸ソーダ、リン醸アンモニウム等の無機1頌、
ポリペプトン、カブミノ酸、酵母エキス、コーンステイ
ープリカー、大豆加水分解液等のM機栄#源の他、必要
に応じて各櫨アミノ酸、ビタぐン類等が好適に用いられ
る。
もので良く、グルコース、フラクトース、がラクトース
、シュークロース、等の炭素源、リン酸第1カリウム、
リン酸第2カリウム、硫酸マグネシウム、亜硫酸ソーダ
、チオ硫酸ソーダ、リン醸アンモニウム等の無機1頌、
ポリペプトン、カブミノ酸、酵母エキス、コーンステイ
ープリカー、大豆加水分解液等のM機栄#源の他、必要
に応じて各櫨アミノ酸、ビタぐン類等が好適に用いられ
る。
これらの培地成分は一括仕込又は分割添加いずれでも採
用oT11!である。
用oT11!である。
本発明の培養は、通気・鷹件培#専の公矧の方法でよく
、培養温度は50〜55 ”C!が好ましい。
、培養温度は50〜55 ”C!が好ましい。
培養液の−は、菌の生育と共に低下する念め、力性ソー
ダ、力性カリ、アンモニア等のFJ’(調整剤を添加し
、pH6,5〜7.0にコントロールfる。
ダ、力性カリ、アンモニア等のFJ’(調整剤を添加し
、pH6,5〜7.0にコントロールfる。
このようにして培養すると、ヒアルロン酸の生成と共に
、培養液の粘度が次第に上、昇してくる。
、培養液の粘度が次第に上、昇してくる。
使用炭素源が培養液中で消費された時点で培養を停止し
、遠心分離による除菌後、アルコール等の有機溶媒によ
る析出、限外ろ過による脱塩等の簡単な公刊槽製法によ
シ、高収率でヒアルロン酸が得られる。
、遠心分離による除菌後、アルコール等の有機溶媒によ
る析出、限外ろ過による脱塩等の簡単な公刊槽製法によ
シ、高収率でヒアルロン酸が得られる。
次lC実施例により、本発明の詳細な説明するが、本発
明はこれに限定される本のではない。
明はこれに限定される本のではない。
実施例1
グルコース2%、リン酸第1カリウム0.2%、硫酸マ
グネシウム7水塩0.05%、チオ@改ソーダ0.1%
、ポリペプトン1.0%酵母エキス0.5%かうなる−
8.5の培養液1tに同一培地からなる八 ストレプトコツ力W・エキFM−100の前啼盪液10
ゴを接種し、通気喰1,5vvm、攪拌200回転/分
、温度33゛Cで力性ソーダで−を8.5にコントロー
ルしながら培養し、15時間後に、グルコース2%を分
添し、グルコースが全部消費された時点で@ink停止
した。
グネシウム7水塩0.05%、チオ@改ソーダ0.1%
、ポリペプトン1.0%酵母エキス0.5%かうなる−
8.5の培養液1tに同一培地からなる八 ストレプトコツ力W・エキFM−100の前啼盪液10
ゴを接種し、通気喰1,5vvm、攪拌200回転/分
、温度33゛Cで力性ソーダで−を8.5にコントロー
ルしながら培養し、15時間後に、グルコース2%を分
添し、グルコースが全部消費された時点で@ink停止
した。
r@養液を塩酸で−4に調整後、蒸留水で2倍希択し、
遠心分@により除菌した。得られた除菌液をエチルアル
コールを加え、ヒアルロン酸ソーダを析出せしめる。こ
れtろ別し九後、水に痔解し、セチルピリジニウムクロ
ライドt−加え、生じた沈殿金ろ暇し、2%食塩水に再
俗解後、再びエチルアルコールによる析出をくり返す。
遠心分@により除菌した。得られた除菌液をエチルアル
コールを加え、ヒアルロン酸ソーダを析出せしめる。こ
れtろ別し九後、水に痔解し、セチルピリジニウムクロ
ライドt−加え、生じた沈殿金ろ暇し、2%食塩水に再
俗解後、再びエチルアルコールによる析出をくり返す。
得られたヒアルロンはソーダを室温で減圧乾燥して、培
養液1tあた5 7.2 、Fの白色ヒアルロン酸ソー
ダを得た。
養液1tあた5 7.2 、Fの白色ヒアルロン酸ソー
ダを得た。
得られtヒアルロン酸ソーダは、赤外線吸収スペクトル
、C−13核磁気共鳴スペクトル、ストレプトミセスの
ヒアルロン酸−ぜによる分解実験でヒアルロン酸ソーダ
であることが確認された。
、C−13核磁気共鳴スペクトル、ストレプトミセスの
ヒアルロン酸−ぜによる分解実験でヒアルロン酸ソーダ
であることが確認された。
上記と同様の培養を4回くシかえし、全部で5バッチ行
なつt結果を表3に示す。
なつt結果を表3に示す。
表 5
さらに長期的に@譬を行なり之が、ヒアルロン酸装置は
常に安定して^た◎ 比較例1 親株であるストレプトコッカス・エキATCC9527
を実施例1と同様にして、5回くりかえし次が、得られ
几ヒアルロン戚ンーダはそれぞれ−4,5g、2.3g
、6.5g% 1−2N、5.9gであ夛−収皺は実施
列1に比較して、低く、またばらついていた〇 〔発明の効果〕 本発明によれば、ヒアルロン酸を高収率で1しかも収1
にばらつきなく、安定に生産することができる。また菌
株管理も容易である。
常に安定して^た◎ 比較例1 親株であるストレプトコッカス・エキATCC9527
を実施例1と同様にして、5回くりかえし次が、得られ
几ヒアルロン戚ンーダはそれぞれ−4,5g、2.3g
、6.5g% 1−2N、5.9gであ夛−収皺は実施
列1に比較して、低く、またばらついていた〇 〔発明の効果〕 本発明によれば、ヒアルロン酸を高収率で1しかも収1
にばらつきなく、安定に生産することができる。また菌
株管理も容易である。
本発明によって製造されたヒアルロン酸は、化粧品、医
薬品に配合して使用できる。
薬品に配合して使用できる。
Claims (2)
- (1)栄養要求性が部分的に解除されたストレプトコッ
カス・エキを培養し、ヒアルロン酸を生成蓄積せしめる
ことを特徴とする醗酵法によるヒアルロン酸の製造法。 - (2)親株の増殖しない表1に示す培地成分から成る人
工合成培地に生育できる栄養要求性が部分的に解除され
たストレプトコッカス・エキを培養し、ヒアルロン酸を
生成蓄積せしめることを特徴とする醗酵法によるヒアル
ロン酸の製造法。 表1 ▲数式、化学式、表等があります▼
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26973486A JPS63123392A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | ヒアルロン酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26973486A JPS63123392A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | ヒアルロン酸の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63123392A true JPS63123392A (ja) | 1988-05-27 |
JPH0439997B2 JPH0439997B2 (ja) | 1992-07-01 |
Family
ID=17476421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26973486A Granted JPS63123392A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | ヒアルロン酸の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63123392A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0363561A2 (en) * | 1988-10-12 | 1990-04-18 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for producing sodium hyaluronate by fermentation method |
WO2008041514A1 (ja) | 2006-09-22 | 2008-04-10 | Kochi University | 放射線または抗がん化学療法増感剤 |
US7807657B2 (en) | 2002-08-16 | 2010-10-05 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Separate type medical material |
WO2011114469A1 (ja) * | 2010-03-17 | 2011-09-22 | 電気化学工業株式会社 | ヒアルロン酸及び/又はその塩の溶解方法 |
WO2012026468A1 (ja) | 2010-08-23 | 2012-03-01 | 電気化学工業株式会社 | 架橋ヒアルロン酸組成物及び自己架橋ヒアルロン酸粒子 |
US8137685B2 (en) | 2003-10-29 | 2012-03-20 | Teijin Limited | Hyaluronic acid compound, hydrogel thereof and joint treating material |
WO2015005345A1 (ja) | 2013-07-08 | 2015-01-15 | 電気化学工業株式会社 | コアシェル型架橋ヒアルロン酸ゲル粒子、その製造方法及び医用材料 |
WO2021256427A1 (ja) | 2020-06-15 | 2021-12-23 | 株式会社Kortuc | 抗がん療法の増感剤 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5856692A (ja) * | 1981-09-26 | 1983-04-04 | Shiseido Co Ltd | ヒアルロン酸の製造方法 |
-
1986
- 1986-11-14 JP JP26973486A patent/JPS63123392A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5856692A (ja) * | 1981-09-26 | 1983-04-04 | Shiseido Co Ltd | ヒアルロン酸の製造方法 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP0363561A2 (en) * | 1988-10-12 | 1990-04-18 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for producing sodium hyaluronate by fermentation method |
US7807657B2 (en) | 2002-08-16 | 2010-10-05 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Separate type medical material |
US8137685B2 (en) | 2003-10-29 | 2012-03-20 | Teijin Limited | Hyaluronic acid compound, hydrogel thereof and joint treating material |
US10219997B2 (en) | 2006-09-22 | 2019-03-05 | Kochi University | Radiation sensitizer or anti-cancer chemotherapy sensitizer |
WO2008041514A1 (ja) | 2006-09-22 | 2008-04-10 | Kochi University | 放射線または抗がん化学療法増感剤 |
US10758477B2 (en) | 2006-09-22 | 2020-09-01 | Yasuhiro Ogawa | Radiation sensitizer or anti-cancer chemotherapy sensitizer |
US10512604B2 (en) | 2006-09-22 | 2019-12-24 | Yasuhiro Ogawa | Radiation sensitizer or anti-cancer chemotherapy sensitizer |
WO2011114469A1 (ja) * | 2010-03-17 | 2011-09-22 | 電気化学工業株式会社 | ヒアルロン酸及び/又はその塩の溶解方法 |
JP5603925B2 (ja) * | 2010-03-17 | 2014-10-08 | 電気化学工業株式会社 | ヒアルロン酸及び/又はその塩の溶解方法 |
US9216193B2 (en) | 2010-08-23 | 2015-12-22 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Crosslinked hyaluronic acid composition and self-crosslinking hyaluronic acid particles |
WO2012026468A1 (ja) | 2010-08-23 | 2012-03-01 | 電気化学工業株式会社 | 架橋ヒアルロン酸組成物及び自己架橋ヒアルロン酸粒子 |
WO2015005345A1 (ja) | 2013-07-08 | 2015-01-15 | 電気化学工業株式会社 | コアシェル型架橋ヒアルロン酸ゲル粒子、その製造方法及び医用材料 |
WO2021256427A1 (ja) | 2020-06-15 | 2021-12-23 | 株式会社Kortuc | 抗がん療法の増感剤 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0439997B2 (ja) | 1992-07-01 |
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