JPS63112842A - 光デイスク基板複製用スタンバ−の製造方法 - Google Patents
光デイスク基板複製用スタンバ−の製造方法Info
- Publication number
- JPS63112842A JPS63112842A JP25631786A JP25631786A JPS63112842A JP S63112842 A JPS63112842 A JP S63112842A JP 25631786 A JP25631786 A JP 25631786A JP 25631786 A JP25631786 A JP 25631786A JP S63112842 A JPS63112842 A JP S63112842A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- layer
- glass
- stamper
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 43
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 230000003362 replicative effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 abstract description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 26
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 16
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 208000031513 cyst Diseases 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、コンパクトディスクあるいは光磁気ディスク
等光記録用基板を大量に複製へするためのスタンパ−を
製造する方法に関するものである。
等光記録用基板を大量に複製へするためのスタンパ−を
製造する方法に関するものである。
本発明は、光ディスク用基板を複製するためのスタンパ
−の製造方法において、研磨したガラス基板面にフォト
レジストを塗布して、レーザ光線で露光、現像して露出
したガラス面をエツチング後、レジストを除去し所定の
ピットあるいはグルーブを形成した表面に、第１層とし
てＣｒをコートしその上に第２層として、５Ｘ１０−’
Ω・ｍ以下の比抵抗を有する金属窒化物をコーチ′イン
グした、ガラス基板を、マザーとして用いこれに・電鋳
することにより、光ディスク用基板を複製するためのス
タンパ−を精度良く、多数製作することを可能にするも
のである。
−の製造方法において、研磨したガラス基板面にフォト
レジストを塗布して、レーザ光線で露光、現像して露出
したガラス面をエツチング後、レジストを除去し所定の
ピットあるいはグルーブを形成した表面に、第１層とし
てＣｒをコートしその上に第２層として、５Ｘ１０−’
Ω・ｍ以下の比抵抗を有する金属窒化物をコーチ′イン
グした、ガラス基板を、マザーとして用いこれに・電鋳
することにより、光ディスク用基板を複製するためのス
タンパ−を精度良く、多数製作することを可能にするも
のである。
従来の光ディスク基板複製用・スタンパ−の製造方法は
、表面研磨したガラス基板に、フォトレジストをスピン
コーターで必要な厚みに均一に塗布シ、フレベーク後レ
ーザーカッティングマシーンで露光後、現像して任意の
ピットあるいはグルーブをフォトレジストで形成し、こ
の基板に、銀あるいはニッケルをスパッタして導電化し
た後、ニッケル電鋳を３００μ程度行なう。次に裏面研
磨によりさらに均一な厚みに仕上げた後、ガラス板より
剥がし、内外径加工して完成される。
、表面研磨したガラス基板に、フォトレジストをスピン
コーターで必要な厚みに均一に塗布シ、フレベーク後レ
ーザーカッティングマシーンで露光後、現像して任意の
ピットあるいはグルーブをフォトレジストで形成し、こ
の基板に、銀あるいはニッケルをスパッタして導電化し
た後、ニッケル電鋳を３００μ程度行なう。次に裏面研
磨によりさらに均一な厚みに仕上げた後、ガラス板より
剥がし、内外径加工して完成される。
しかし、前述の従来技術では、マザーとなる、ガラス基
板表面が軟弱なフォトレ、シストの為に、ニッケル電鋳
層を剥がした時に、ピットあるいはグルーブが破壊され
てしまい、１枚のガラス基板から、１枚のスタンパ−し
か得られない。
板表面が軟弱なフォトレ、シストの為に、ニッケル電鋳
層を剥がした時に、ピットあるいはグルーブが破壊され
てしまい、１枚のガラス基板から、１枚のスタンパ−し
か得られない。
スタンパ−を多数レプリカするためには、前記工程で得
られたスタンパ−をマスタートシてニッケル電鋳を行な
いマザーをつくる。
られたスタンパ−をマスタートシてニッケル電鋳を行な
いマザーをつくる。
このニッケル電鋳マザーにさらに電鋳を行ない複数のス
タンパ−をつくることが出来るが、この場合、電鋳によ
る転写をくり返すため、ドロップアウトが多くなり、性
能が低下する欠点がある。
タンパ−をつくることが出来るが、この場合、電鋳によ
る転写をくり返すため、ドロップアウトが多くなり、性
能が低下する欠点がある。
これらの問題を解決するため、ガラス基板を、エツチン
グしたものを、直接マザーとして、スタンパ−を複製す
ることが考えられるが、この方法でも、ガラスの凹凸パ
ターンの機械的強度が不充分であり、またガラスとスパ
ッタされたニッケル等導電化膜との密着力が強いために
、ニッケル電鋳層を剥離する時に凹凸パターンが破壊さ
れ易いために何度も使用出来ない。
グしたものを、直接マザーとして、スタンパ−を複製す
ることが考えられるが、この方法でも、ガラスの凹凸パ
ターンの機械的強度が不充分であり、またガラスとスパ
ッタされたニッケル等導電化膜との密着力が強いために
、ニッケル電鋳層を剥離する時に凹凸パターンが破壊さ
れ易いために何度も使用出来ない。
そこで本発明は、この様な問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、ガラス基板上に形成されたピッ
トあるいはグルーブパターンの強度向上と、ニッケル電
鋳層のガラス基板からの剥離性を改善することにより、
良質のスタンパ−を多数製造することにある。
の目的とするところは、ガラス基板上に形成されたピッ
トあるいはグルーブパターンの強度向上と、ニッケル電
鋳層のガラス基板からの剥離性を改善することにより、
良質のスタンパ−を多数製造することにある。
本発明の光ディスク基板複製用スタンパ−の製造方法は
、ガラス基板表面にフォトレジスト膜を形成し、レジス
ト面にレーザー光線で所定のパターンを露光、現像して
露出したガラス面をエツチング後レジスト除去してピッ
トあるいはグルーブを形成したガラス表面に第１層とし
てＣｒを被覆後筒２層として５ Ｘ １０＝Ω・ｍ以下
″の比抵抗を有する金属窒化物を形成した前記ガラス基
板をマザーとしてスタンパ−を多数レプリカする事を特
徴とする。
、ガラス基板表面にフォトレジスト膜を形成し、レジス
ト面にレーザー光線で所定のパターンを露光、現像して
露出したガラス面をエツチング後レジスト除去してピッ
トあるいはグルーブを形成したガラス表面に第１層とし
てＣｒを被覆後筒２層として５ Ｘ １０＝Ω・ｍ以下
″の比抵抗を有する金属窒化物を形成した前記ガラス基
板をマザーとしてスタンパ−を多数レプリカする事を特
徴とする。
本発明によれば、ピットあるいはグルーブパターンが精
度良く形成されたガラス基板面に、ガラス面との密着性
にすぐれるＯｒと、高硬度で、剥離性の良い金目窒化物
を２層コートすることにより表面凹凸パターンの機械的
強度を増大させるとともに、ニッケル電鋳層の剥離が容
易になり、剥離時の凹凸パターンの破壊がほとんどない
ため品質の良い光ディスク基板複製用スタンパ−を多数
、容易に製造する事が可能になった。
度良く形成されたガラス基板面に、ガラス面との密着性
にすぐれるＯｒと、高硬度で、剥離性の良い金目窒化物
を２層コートすることにより表面凹凸パターンの機械的
強度を増大させるとともに、ニッケル電鋳層の剥離が容
易になり、剥離時の凹凸パターンの破壊がほとんどない
ため品質の良い光ディスク基板複製用スタンパ−を多数
、容易に製造する事が可能になった。
まず、外径２４０ ｒａ 、内径１５ｍｍ、厚す６ＷＩ
＋のガラス基板を光学研磨、洗浄した後、この基板上に
ポジ形レジスト（ヘキストのＡＺ１３５０）をスピンコ
ーターで２０００〜ｘｏｏｏｉの厚みに塗布し、プリベ
ーク後レーザーカッティングマシーンを用いてコンパク
トディスク仕様にレーザーを変調させ、フォトレジスト
を露光し、その後現像により選択的にレジスト層を除去
する。
＋のガラス基板を光学研磨、洗浄した後、この基板上に
ポジ形レジスト（ヘキストのＡＺ１３５０）をスピンコ
ーターで２０００〜ｘｏｏｏｉの厚みに塗布し、プリベ
ーク後レーザーカッティングマシーンを用いてコンパク
トディスク仕様にレーザーを変調させ、フォトレジスト
を露光し、その後現像により選択的にレジスト層を除去
する。
このガラス基板を、平行平板型ドライエツチング装置に
セットし、導入ガスＯＩ（？、、真空度１、ＯＸｌ ０
−２ｔｏｒｒ 、高周波パワー２５０Ｗでフォトレジス
ト膜をレジストとしてガラス面のエツチングを約１０分
間行ない、１２０ｒＬ７７Ｌの深さの所定パターンのピ
ットをガラス基上に形成したフォトレジストは、その後
０□ガスで灰化除夫した。
セットし、導入ガスＯＩ（？、、真空度１、ＯＸｌ ０
−２ｔｏｒｒ 、高周波パワー２５０Ｗでフォトレジス
ト膜をレジストとしてガラス面のエツチングを約１０分
間行ない、１２０ｒＬ７７Ｌの深さの所定パターンのピ
ットをガラス基上に形成したフォトレジストは、その後
０□ガスで灰化除夫した。
このビットを形成したガラス基板表面にスパッタリング
によりまずＯｒ層を２００Ｘ形成し、さらにＴｉＮ層を
ｓｏｏ裏形酸形成。
によりまずＯｒ層を２００Ｘ形成し、さらにＴｉＮ層を
ｓｏｏ裏形酸形成。
この表面層の比抵抗は２ Ｘ １０＝Ω・（７）であっ
た。このガラス基板をマザーとしてニッケル電鋳を直接
行ない約３００μ程度の厚さにした後、ガラス基板より
剥離し、裏面研摩してコンパクトディスク成形に用いる
スタンパ−を得ることが出来た。
た。このガラス基板をマザーとしてニッケル電鋳を直接
行ない約３００μ程度の厚さにした後、ガラス基板より
剥離し、裏面研摩してコンパクトディスク成形に用いる
スタンパ−を得ることが出来た。
このガラス基板を用いて、ニッケル電鋳をくり返し行な
い多数のスタンパ−を作製したが、ガラス基板表面に形
成されたＴｉＮ層によりガラス基板のビットパターン強
度が向上するとともに、ニッケル電鋳層との剥離性が良
いため、同一のガラス基板より複数作製したスタンパ−
は、すべて平ｍａも良＜エラーレートの低いものであっ
た。
い多数のスタンパ−を作製したが、ガラス基板表面に形
成されたＴｉＮ層によりガラス基板のビットパターン強
度が向上するとともに、ニッケル電鋳層との剥離性が良
いため、同一のガラス基板より複数作製したスタンパ−
は、すべて平ｍａも良＜エラーレートの低いものであっ
た。
これはＴｉＮ以外のＯｒＮ、ＺｒＮ、等の金属窒化物に
ついても同様の効果が得られた。
ついても同様の効果が得られた。
金属窒化物の比抵抗については、５×１０−〇・副を越
えると電鋳時のニッケル金属の付着が悪くなり精度良く
ビットあるいは、グルーブが転写されなくなるためで、
５×１０−４Ω・ｍ以下と規定した。
えると電鋳時のニッケル金属の付着が悪くなり精度良く
ビットあるいは、グルーブが転写されなくなるためで、
５×１０−４Ω・ｍ以下と規定した。
尚、第１ＮのＣｊｒ層の膜厚は５０Ｘ以上が望ましい、
これ以下であるとガラス基板との密着性が悪くなってし
まうためである。又、第２層の金属窒化物の膜厚は１０
０′に以上が望ましく、これ以下であるとニッケル電鋳
層との剥離性が悪くなるためである。さらに、第１層と
第２層の合計膜厚は２０００Ｘ以下が望ましいものであ
る。この膜厚以上にすると、ビット形状が変わってしま
い精度の高い複製ができなくなってしまうものである〔
発明の効果〕 以上述べた様に、本発明によれば光ディスク基板複製用
スタンパ−の製造においてガラス基板表面にエツチング
により、ビットあるいはグルーブを形成した後、この表
面にＣｒを第１層として形成し、さらに第２層として５
Ｘ １０−４０・ｍ以下の比抵抗を有する金属窒化物
を形成したガラス基板をマザーとして直接ニッケル電鋳
を行ない、所定の厚み電鋳後剥離することを、くり返す
ことにより、品質の良いスタンパ−を多数容易に製造す
ることが出来る。
これ以下であるとガラス基板との密着性が悪くなってし
まうためである。又、第２層の金属窒化物の膜厚は１０
０′に以上が望ましく、これ以下であるとニッケル電鋳
層との剥離性が悪くなるためである。さらに、第１層と
第２層の合計膜厚は２０００Ｘ以下が望ましいものであ
る。この膜厚以上にすると、ビット形状が変わってしま
い精度の高い複製ができなくなってしまうものである〔
発明の効果〕 以上述べた様に、本発明によれば光ディスク基板複製用
スタンパ−の製造においてガラス基板表面にエツチング
により、ビットあるいはグルーブを形成した後、この表
面にＣｒを第１層として形成し、さらに第２層として５
Ｘ １０−４０・ｍ以下の比抵抗を有する金属窒化物
を形成したガラス基板をマザーとして直接ニッケル電鋳
を行ない、所定の厚み電鋳後剥離することを、くり返す
ことにより、品質の良いスタンパ−を多数容易に製造す
ることが出来る。
ガラス面上に形成する第１層としてのＯｒは、ガラス面
との密着の向上、第２層の金属窒化物は、ビットあるい
はグルーブパターンの強度向上、またニッケル電鋳層の
剥離性を大巾に改善させることが出来る。
との密着の向上、第２層の金属窒化物は、ビットあるい
はグルーブパターンの強度向上、またニッケル電鋳層の
剥離性を大巾に改善させることが出来る。
第１図（α）〜（ｇ）は、本発明による光ディスク基板
複製用スタンパ−の製造方法を示す工程断面図。 １・・・・・・・・・ガラス基板 ２・・・・・・・・・フォトレジスト膜３・・・・・・
・・・ピッ）−４たはグルーブ４・・・・・・・・・Ｏ
ｒ層 ５・・・・・・・・・金属窒化物層 ６・・・・・・・・・スタンパ− 以上
複製用スタンパ−の製造方法を示す工程断面図。 １・・・・・・・・・ガラス基板 ２・・・・・・・・・フォトレジスト膜３・・・・・・
・・・ピッ）−４たはグルーブ４・・・・・・・・・Ｏ
ｒ層 ５・・・・・・・・・金属窒化物層 ６・・・・・・・・・スタンパ− 以上
Claims (1)
- ガラス基板表面にフォトレジスト膜を形成し、レジスト
面にレーザー光線で所定のパターンを露光現像して露出
したガラス面をエッチング後、レジスト除去してピット
あるいはグルーブを形成した前記ガラス基板表面に、第
１層としてＣｒを被覆後、第２層として、５×１０＾−
＾４・ｃｍ以下の比抵抗を有する金属窒化物を形成した
前記ガラス基板をマザーとして、光ディスク基板複製用
スタンパーを、多数レプリカすることを特徴とする、光
ディスク基板複製用スタンパーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25631786A JPS63112842A (ja) | 1986-10-28 | 1986-10-28 | 光デイスク基板複製用スタンバ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25631786A JPS63112842A (ja) | 1986-10-28 | 1986-10-28 | 光デイスク基板複製用スタンバ−の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63112842A true JPS63112842A (ja) | 1988-05-17 |
Family
ID=17290984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25631786A Pending JPS63112842A (ja) | 1986-10-28 | 1986-10-28 | 光デイスク基板複製用スタンバ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63112842A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2671657A1 (fr) * | 1991-01-16 | 1992-07-17 | Digipress Sa | Disque optique ou matrice de pressage pour la fabrication de tels disques. |
| EP0610125A1 (fr) * | 1993-02-03 | 1994-08-10 | Digipress | Disques maîtres pour la réalisation de matrices de pressage, notamment de disques optiques, et leurs procédés de fabrication |
| US6454970B1 (en) * | 1998-10-14 | 2002-09-24 | Amic Ab And Gyros Ab | Matrix, method of producing and using the matrix and machine including the matrix |
| US9332651B2 (en) * | 2008-02-08 | 2016-05-03 | Tokyo University Of Science Foundation | Process for producing structure with metal film, mother die for use in the process, and structure produced by the process |
-
1986
- 1986-10-28 JP JP25631786A patent/JPS63112842A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2671657A1 (fr) * | 1991-01-16 | 1992-07-17 | Digipress Sa | Disque optique ou matrice de pressage pour la fabrication de tels disques. |
| EP0610125A1 (fr) * | 1993-02-03 | 1994-08-10 | Digipress | Disques maîtres pour la réalisation de matrices de pressage, notamment de disques optiques, et leurs procédés de fabrication |
| SG96158A1 (en) * | 1993-02-03 | 2003-05-23 | Digipress Sa | Master disks for making dies for pressing in particular optical disks & their methods of manufacture as well as the pressing dies obtained from the master disks and optical disks obtained from these p |
| US6454970B1 (en) * | 1998-10-14 | 2002-09-24 | Amic Ab And Gyros Ab | Matrix, method of producing and using the matrix and machine including the matrix |
| US7182890B2 (en) | 1998-10-14 | 2007-02-27 | Gyros Patent Ab | Matrix and method of producing said matrix |
| US9332651B2 (en) * | 2008-02-08 | 2016-05-03 | Tokyo University Of Science Foundation | Process for producing structure with metal film, mother die for use in the process, and structure produced by the process |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6814897B2 (en) | Method for manufacturing a molding tool used for substrate molding | |
| JPS6126952A (ja) | 情報記録担体の製造法 | |
| JPH0562254A (ja) | 光デイスクの製造方法 | |
| TW200300936A (en) | Fabrication method of parent template for information medium, fabrication method of child template for information medium, fabrication device of parent template for information medium, and fabrication device of child template for information medium | |
| JPS63112842A (ja) | 光デイスク基板複製用スタンバ−の製造方法 | |
| JP2001234383A (ja) | スタンパーの製造方法 | |
| JPS59180801A (ja) | スタンパ用のデイスクの製造方法 | |
| EP0354773B1 (en) | Optical disk manufacture | |
| JPS6079351A (ja) | スタンパの作製法 | |
| JPS60173737A (ja) | 光学デイスク用スタンパ−の製造方法 | |
| JPS6262450A (ja) | スタンパの製法 | |
| JPS59209834A (ja) | 複製母型 | |
| JPH10312585A (ja) | 光学記録媒体作製用スタンパ、スタンパ用原盤、および光学記録媒体の製造方法 | |
| JPS61221392A (ja) | スタンパ− | |
| JP2523947B2 (ja) | 光ディスクのスタンパ作製方法 | |
| JPH01235044A (ja) | 光ディスク基板およびその製造方法 | |
| JPH0758564B2 (ja) | 情報記憶ディスク用原板および情報記憶ディスク用基板の製造方法 | |
| JPS6177152A (ja) | 光デイスク用スタンパの製作法 | |
| JPH0250995A (ja) | 光デイスク複製用スタンパの製造方法 | |
| JP2753388B2 (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JPS6284450A (ja) | 光デイスク用基板の製造方法 | |
| JPS63302439A (ja) | スタンパ作製方法 | |
| JPH04259938A (ja) | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 | |
| JPS615454A (ja) | 音盤，記録盤の複製方法 | |
| JPS62291732A (ja) | スタンパ−型 |