JPS59209834A - 複製母型 - Google Patents
複製母型Info
- Publication number
- JPS59209834A JPS59209834A JP8535583A JP8535583A JPS59209834A JP S59209834 A JPS59209834 A JP S59209834A JP 8535583 A JP8535583 A JP 8535583A JP 8535583 A JP8535583 A JP 8535583A JP S59209834 A JPS59209834 A JP S59209834A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- matrix
- nickel
- fluorocarbon
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の技術分野
本発明は複製母型に関する。特に、強度のすぐれた樹脂
例えばポリカーボネート樹脂の成型に使用される複製母
型のパターン転写精度を向上し母型耐久性を良好にする
改良に関する。
例えばポリカーボネート樹脂の成型に使用される複製母
型のパターン転写精度を向上し母型耐久性を良好にする
改良に関する。
（２）技術の背景
表面に微細パターンを有するプラスチック製品がある。
例えば、情報パターンとしての微細凹凸を表面に有する
光ディスク等である。かかるプラスチック製品は、プラ
スチック成形方法を使用して製造されるが、極めて高度
のパターン転写精度。
光ディスク等である。かかるプラスチック製品は、プラ
スチック成形方法を使用して製造されるが、極めて高度
のパターン転写精度。
を必要とする。その微細凹凸が情報を表わしているから
である。
である。
ところで、従来光ディスクにはアクリル樹脂が使用され
ていたがワーページ（そり）が発生しやすく寿命が短い
ので、近時ポリカーボネート樹脂か使用されるようにな
った。強度的にすぐれており長期安定使用が可能だから
である。
ていたがワーページ（そり）が発生しやすく寿命が短い
ので、近時ポリカーボネート樹脂か使用されるようにな
った。強度的にすぐれており長期安定使用が可能だから
である。
（３）従来技術と問題点
かかるプラスチック製光ディスクの成形加工には複製母
型が使用されるが、かかる目的に使用される複製母型と
しては表面に０．１ｇｍ程度の凹凸を有し厚さが０．３
ｍｍ程度のニッケル（Ｎｉ）板またはニッケル（Ｎｉ）
とコバルト（Ｇｏ）との合金板が一般であり、所望によ
り表面にクロム（Ｃｒ）コートされる。
型が使用されるが、かかる目的に使用される複製母型と
しては表面に０．１ｇｍ程度の凹凸を有し厚さが０．３
ｍｍ程度のニッケル（Ｎｉ）板またはニッケル（Ｎｉ）
とコバルト（Ｇｏ）との合金板が一般であり、所望によ
り表面にクロム（Ｃｒ）コートされる。
凹凸の深さは上記のとおり ０．１ｐｍ程度ではありパ
ターンが極めて微細である故、プラスチングが母型のパ
ターン上に残留固化して成形機能を阻害してパターン転
写精度を低下させ母型の寿命を短縮するという問題があ
る。この問題は、ポリカーボネートｍ脂のように粘着性
が大きいプラスチックを使用する場合、特に顕著であり
重大な欠点をなしている。
ターンが極めて微細である故、プラスチングが母型のパ
ターン上に残留固化して成形機能を阻害してパターン転
写精度を低下させ母型の寿命を短縮するという問題があ
る。この問題は、ポリカーボネートｍ脂のように粘着性
が大きいプラスチックを使用する場合、特に顕著であり
重大な欠点をなしている。
（４）発明の目的
本発明の目的はこの欠点を解消することにあり、プラス
チング特に強度のすぐれた樹脂例えばポリカーボネート
樹脂の成形に使用される複製母型において、パターン転
写精度がすぐれており耐久性が大きく寿命の長い複製母
型を提供することにある。
チング特に強度のすぐれた樹脂例えばポリカーボネート
樹脂の成形に使用される複製母型において、パターン転
写精度がすぐれており耐久性が大きく寿命の長い複製母
型を提供することにある。
（５）発明の構成
本発明の構成は、表面に情報パターンを表わす凹凸が形
成されており、表面の材料はニッケル（Ｎｉ） 、コバ
ルト（Ｃ：ｏ） 、または、クロム（１：ｒ）である板
状部材の表面に、フロロカーボン（０２Ｆ４）、二酸化
シリコン（Ｓｉ０２） 、またはリンガラスよりなる薄
膜が形成されてなる複製母型にある。
成されており、表面の材料はニッケル（Ｎｉ） 、コバ
ルト（Ｃ：ｏ） 、または、クロム（１：ｒ）である板
状部材の表面に、フロロカーボン（０２Ｆ４）、二酸化
シリコン（Ｓｉ０２） 、またはリンガラスよりなる薄
膜が形成されてなる複製母型にある。
本発明は、上記の欠点の原因が、複製母型の表面の材料
と成形されるプラスチック材料との粘着。
と成形されるプラスチック材料との粘着。
性が強いことにある点に着目し、複製母型の表面の材料
と密着性は良好であるが成形されるプラスチック材料と
は剥離しやすい材料をもって複製母型表面を覆っておけ
ば上記の欠点を解消しうるとの着想にもとづき完成され
たものであり、複製母型の表面の材料としてニッケル（
Ｎｉ） 、コバルト（Ｇｏ） 、またはクローム（Ｏｒ
）等が一般に使用される事実と、成形されるプラスチッ
ク材はポリカーボネートｐ脂等粘着力の大きい材料であ
る点に着目して、各種の材料について実験を繰り返えし
て、フロロカーボン（Ｃ２Ｆ４）、二酸化シリコン（Ｓ
１０２）またはリン、ガラスにおいてすぐれた結果を発
見し、更に、これらの材料をもって表面が覆われた複製
母型を試作し、これらの試作された複製母型を使用して
ポリカーボネート樹脂の試験成形をなして効果を確認の
上水発明を完成した。
と密着性は良好であるが成形されるプラスチック材料と
は剥離しやすい材料をもって複製母型表面を覆っておけ
ば上記の欠点を解消しうるとの着想にもとづき完成され
たものであり、複製母型の表面の材料としてニッケル（
Ｎｉ） 、コバルト（Ｇｏ） 、またはクローム（Ｏｒ
）等が一般に使用される事実と、成形されるプラスチッ
ク材はポリカーボネートｐ脂等粘着力の大きい材料であ
る点に着目して、各種の材料について実験を繰り返えし
て、フロロカーボン（Ｃ２Ｆ４）、二酸化シリコン（Ｓ
１０２）またはリン、ガラスにおいてすぐれた結果を発
見し、更に、これらの材料をもって表面が覆われた複製
母型を試作し、これらの試作された複製母型を使用して
ポリカーボネート樹脂の試験成形をなして効果を確認の
上水発明を完成した。
ところで、上記の表面を覆う層の厚さは極力薄いことが
望ましく数百Ａ以下であることが必要であるから、フロ
ロカーボン（ＣＦ ）膜の場合はプラズマ重合法等の気
層成長法等を使用して形成することが望ましく、二酸化
シリコン（Ｓ１０２） 膜の場合は高周波スパッタ法等
を使用して形成することが望ましく、リンガラス膜の場
合はＣＶＤ法等を使用して形成することが望ましい。
望ましく数百Ａ以下であることが必要であるから、フロ
ロカーボン（ＣＦ ）膜の場合はプラズマ重合法等の気
層成長法等を使用して形成することが望ましく、二酸化
シリコン（Ｓ１０２） 膜の場合は高周波スパッタ法等
を使用して形成することが望ましく、リンガラス膜の場
合はＣＶＤ法等を使用して形成することが望ましい。
（６）発明の実施例
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施例に係る複製母
型について更に説明する。
型について更に説明する。
第１図参照
ガラス基板ｌ上にフォトレジストを塗布してフォトレジ
スト膜２を形成した後、フォトリソグラフィー法を使用
して所望のパターンにフォトレジスト膜２をパターニン
グする。その後、ニッケル（Ｎ１）の薄膜（図示せず）
を蒸着してメッキ用電極を形成し、ニッケル（旧）の厚
メッキをなして０．３ｍｍ厚のニッケル（旧）膜３を形
成する。このニッケル（Ｎｉ）膜３が複製母型の基体で
ある。
スト膜２を形成した後、フォトリソグラフィー法を使用
して所望のパターンにフォトレジスト膜２をパターニン
グする。その後、ニッケル（Ｎ１）の薄膜（図示せず）
を蒸着してメッキ用電極を形成し、ニッケル（旧）の厚
メッキをなして０．３ｍｍ厚のニッケル（旧）膜３を形
成する。このニッケル（Ｎｉ）膜３が複製母型の基体で
ある。
第２図参照
ニッケル（Ｎｉ）膜３をガラス基板ｌから剥離してフォ
トレジストを溶解除去した後、テトラフロロエチレン（
０２Ｆ４）を用いてなすプラズマ重合法を使用して、ニ
ッケル（Ｎｉ）膜３の凹凸上にフロロカーボン（０２Ｆ
４）膜４を約４０ＯＡ厚に形成する。
トレジストを溶解除去した後、テトラフロロエチレン（
０２Ｆ４）を用いてなすプラズマ重合法を使用して、ニ
ッケル（Ｎｉ）膜３の凹凸上にフロロカーボン（０２Ｆ
４）膜４を約４０ＯＡ厚に形成する。
以上の工程をもって製造した複製母型を使用してポリカ
ーボネート樹脂を成形せるところ、すぐれた転写パター
ンをもって長期間安定に成形加工をなすことが可能であ
った。
ーボネート樹脂を成形せるところ、すぐれた転写パター
ンをもって長期間安定に成形加工をなすことが可能であ
った。
同様にして、フロロカーボン（０２Ｆ４）膜に代えて二
酸化シリコン（ＳＩ０２）膜（図示せず）を高周波スパ
ッタ法により、又、リンガラス膜（図示せず）をＣＶＤ
法により形成してこれらの膜をもって母型基体の表面を
覆った複製母型を製造し、これらを使用してポリカーボ
ネート樹脂を成形せるところ、上側と同様、すぐれた転
写パターンをもって長期間安定に成形加工をなすことが
可能であった。
酸化シリコン（ＳＩ０２）膜（図示せず）を高周波スパ
ッタ法により、又、リンガラス膜（図示せず）をＣＶＤ
法により形成してこれらの膜をもって母型基体の表面を
覆った複製母型を製造し、これらを使用してポリカーボ
ネート樹脂を成形せるところ、上側と同様、すぐれた転
写パターンをもって長期間安定に成形加工をなすことが
可能であった。
（７）発明の詳細
な説明せるとおり、本発明によれば、プラスチック特に
強度のすぐれた樹脂例えばポリカーボネート樹脂の成形
に使用される複製母型において、パターン転写精度がす
ぐれており耐久性が大きく寿命の長い複製母型を提供す
ることができる。
強度のすぐれた樹脂例えばポリカーボネート樹脂の成形
に使用される複製母型において、パターン転写精度がす
ぐれており耐久性が大きく寿命の長い複製母型を提供す
ることができる。
第１図、第２図は１本発明の一実施例に係る複製母型の
主要製造工程完了後の断面図である。 ｌ・・・・・・カラス基板、 ２・・・・・・フォト
レジスト膜、３・・・・・・ニンケルＭ（母ｆｆ１２ｉ
１）、 ４・・・・・・フロロカーボン膜。 第１図 第２図
主要製造工程完了後の断面図である。 ｌ・・・・・・カラス基板、 ２・・・・・・フォト
レジスト膜、３・・・・・・ニンケルＭ（母ｆｆ１２ｉ
１）、 ４・・・・・・フロロカーボン膜。 第１図 第２図
Claims (1)
- 表面に情報パターンを表わす凸凹を有し、表面はニッケ
ル、コバルトまたはクロムよりなる板状部材の前記表面
が、フロロカーボン、二酸化シリコンまたはリンカラス
よりなる薄膜によって覆われてなる複製母型
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8535583A JPS59209834A (ja) | 1983-05-16 | 1983-05-16 | 複製母型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8535583A JPS59209834A (ja) | 1983-05-16 | 1983-05-16 | 複製母型 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59209834A true JPS59209834A (ja) | 1984-11-28 |
Family
ID=13856382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8535583A Pending JPS59209834A (ja) | 1983-05-16 | 1983-05-16 | 複製母型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59209834A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5112025A (en) * | 1990-02-22 | 1992-05-12 | Tdk Corporation | Molds having wear resistant release coatings |
| JP2006026966A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | Dainippon Printing Co Ltd | エンボス離型紙製造用エンボス版及びその製造方法 |
-
1983
- 1983-05-16 JP JP8535583A patent/JPS59209834A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5112025A (en) * | 1990-02-22 | 1992-05-12 | Tdk Corporation | Molds having wear resistant release coatings |
| JP2006026966A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | Dainippon Printing Co Ltd | エンボス離型紙製造用エンボス版及びその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS59209834A (ja) | 複製母型 | |
| JP2005044390A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体用スタンパーおよび磁気記録媒体用中間体 | |
| JPH0243380A (ja) | 光ディスク基板成形用金型及びその製造方法 | |
| JPH0337842A (ja) | 情報記録媒体用スタンパーの製造方法 | |
| JPS63112842A (ja) | 光デイスク基板複製用スタンバ−の製造方法 | |
| JPS63275053A (ja) | スタンパ−の製造方法 | |
| JPS6262450A (ja) | スタンパの製法 | |
| JPH02154344A (ja) | 両面型スタンパおよびその製造方法 | |
| JPH04118213A (ja) | 樹脂シートの製造方法 | |
| JPS6079351A (ja) | スタンパの作製法 | |
| JPH04305431A (ja) | ロール状ワークスタンパーの製造方法 | |
| JPH02154343A (ja) | 両面型スタンパの製造方法 | |
| JPH03156747A (ja) | 光情報記録媒体用スタンパーの製造方法 | |
| JPH03280230A (ja) | 光ディスク用スタンパ | |
| JPS6190344A (ja) | 光デイスク成形用スタンパ | |
| JPH03198234A (ja) | 光記録媒体用スタンパ及びその製造方法 | |
| JPS63228414A (ja) | 磁気デイスク基板およびその製造方法 | |
| JPS59173287A (ja) | 複製母型の製造方法 | |
| JPH03180322A (ja) | 成型ロール及びその作成方法 | |
| JPS63117347A (ja) | 光デイスク用マザ− | |
| JPH01107338A (ja) | 光デイスク用スタンパの作製方法 | |
| JPS59218646A (ja) | 母型の製造方法 | |
| JPH04293076A (ja) | ホログラム複製方法 | |
| JPH08255383A (ja) | 光デイスク用直接記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH03280229A (ja) | 光ディスク基板作製装置 |