JPS6292208A - 垂直磁気ヘツド - Google Patents
垂直磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6292208A JPS6292208A JP23382185A JP23382185A JPS6292208A JP S6292208 A JPS6292208 A JP S6292208A JP 23382185 A JP23382185 A JP 23382185A JP 23382185 A JP23382185 A JP 23382185A JP S6292208 A JPS6292208 A JP S6292208A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- stage
- magnetic field
- heat treatment
- main
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ） 産業上の利用分野
本発明は、記録媒体の厚み方向に情報を記録する垂直磁
気記録再生方式に用いられる垂「σ磁気ヘッドに関する
ものである。
気記録再生方式に用いられる垂「σ磁気ヘッドに関する
ものである。
（ロ）従来の技術 ・
近年、祈る垂直磁気記録再生方式に用いられる垂直磁気
ヘッドとして主磁極励磁型のものが脚光を浴びて来てお
り、祈る主磁極励磁型の垂直磁気ヘッドは例えば特開昭
５８−１５３２１６号公報等に示されているように軟磁
性薄膜よりなる主磁極を、この主磁極とｆｆ１気的に接
合される補助°磁極部とこの主磁極の磁束のリターンパ
スとなるリターンパス部とが夫々形成された一対の補助
部材にて両側から挾持して構成されている。ところが、
祈る垂直磁気ヘッドでは各補助部材のリターンパス部が
直接記録媒体側に臨んでいないなめ、記録媒体とのスベ
ーＶングロスが大きくなっていた。
ヘッドとして主磁極励磁型のものが脚光を浴びて来てお
り、祈る主磁極励磁型の垂直磁気ヘッドは例えば特開昭
５８−１５３２１６号公報等に示されているように軟磁
性薄膜よりなる主磁極を、この主磁極とｆｆ１気的に接
合される補助°磁極部とこの主磁極の磁束のリターンパ
スとなるリターンパス部とが夫々形成された一対の補助
部材にて両側から挾持して構成されている。ところが、
祈る垂直磁気ヘッドでは各補助部材のリターンパス部が
直接記録媒体側に臨んでいないなめ、記録媒体とのスベ
ーＶングロスが大きくなっていた。
そこで、リターンパス部を直接記録媒体側に臨ませた第
１０図に示すような垂直磁気ヘッドも提案されており、
＋Ｂは軟磁性＃膜よりなる主磁極、（２）ぼは主磁極（
１）をその両側から挟持する一対の補助部材で、該各補
助部材（刃咀ｒは、主磁極（１）と磁気的に接合され巻
線が施される補助磁極部（３ａ）（３ａ′）と主磁極（
１）の磁束のリターンパスとなるリターンパス部（３ｂ
）（３ｂ’）とを分離する溝部（３ｃ）（３ｃ’）が形
成された磁性材部（３）！３どと、この磁性材部［３１
ｒ３ｆのリターンパス部（３ｂ）（３６′）と主磁極１
１．１とを磁気的に分離する補強用のスペーサ部として
溝部（３ｃ）（３ｃ’）上部に接合される非磁性材部（
＋ ｌ Ｉ４ｆとで構成されている。尚、（５）はＣｏ
−Ｃｒ等の垂直磁化＊ （５ａ ）とＮｆ−Ｆｅ’４
の裏打ちＮ１（５ｂ）（水平磁化９）を有する二層記録
媒体である。
１０図に示すような垂直磁気ヘッドも提案されており、
＋Ｂは軟磁性＃膜よりなる主磁極、（２）ぼは主磁極（
１）をその両側から挟持する一対の補助部材で、該各補
助部材（刃咀ｒは、主磁極（１）と磁気的に接合され巻
線が施される補助磁極部（３ａ）（３ａ′）と主磁極（
１）の磁束のリターンパスとなるリターンパス部（３ｂ
）（３ｂ’）とを分離する溝部（３ｃ）（３ｃ’）が形
成された磁性材部（３）！３どと、この磁性材部［３１
ｒ３ｆのリターンパス部（３ｂ）（３６′）と主磁極１
１．１とを磁気的に分離する補強用のスペーサ部として
溝部（３ｃ）（３ｃ’）上部に接合される非磁性材部（
＋ ｌ Ｉ４ｆとで構成されている。尚、（５）はＣｏ
−Ｃｒ等の垂直磁化＊ （５ａ ）とＮｆ−Ｆｅ’４
の裏打ちＮ１（５ｂ）（水平磁化９）を有する二層記録
媒体である。
（ハ）発明が解決しようとする問題点
そして、この様な垂１宣磁気ヘッドにおいて特に重要な
構成要素は、二層記録媒体（５）の垂直磁化層Ｃ５３）
と直接記録再生【関与する主磁極（１）であり、ヘッド
の性能向上のために社主磁ｆｆ１ｉｌ＋の磁気特性を々
０何に良好にするかが問題であろうここで、主磁極（１
）として代表的なものにスパッタ法等で作製されたＣｏ
系非晶質Ｉ信１１・穿（例えば、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ暎）
があるが、良好な磁気特性を得るためには膜作製後に有
効な熱処理を施さねばならず、この熱処理法の一例とし
て回転磁場中熱処理法が特開昭５９−９０２１７８公報
で提唱されているが、熱処理は通常真空中で行なう之め
、真空中で試料を回転しなければならない等装置が複雑
になると謂う欠点があっ之。
構成要素は、二層記録媒体（５）の垂直磁化層Ｃ５３）
と直接記録再生【関与する主磁極（１）であり、ヘッド
の性能向上のために社主磁ｆｆ１ｉｌ＋の磁気特性を々
０何に良好にするかが問題であろうここで、主磁極（１
）として代表的なものにスパッタ法等で作製されたＣｏ
系非晶質Ｉ信１１・穿（例えば、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ暎）
があるが、良好な磁気特性を得るためには膜作製後に有
効な熱処理を施さねばならず、この熱処理法の一例とし
て回転磁場中熱処理法が特開昭５９−９０２１７８公報
で提唱されているが、熱処理は通常真空中で行なう之め
、真空中で試料を回転しなければならない等装置が複雑
になると謂う欠点があっ之。
に）問題点を解決する念めの手段
本発明は上記した問題点全解決するために、軟磁性／ｌ
膜より成る主磁極全、この主磁極と磁気的に接合される
補助磁極部とこの主磁極の磁束のリターンパス七なるリ
ターンパス都々を夫々有する一対の補助部材にて両側か
ら挾持してなる垂直磁気ヘッドにおいて、前記主磁極が
Ｃｏ系非晶質薄膜より成り、静磁場中熱処理が施される
よう構成したものである。
膜より成る主磁極全、この主磁極と磁気的に接合される
補助磁極部とこの主磁極の磁束のリターンパス七なるリ
ターンパス都々を夫々有する一対の補助部材にて両側か
ら挾持してなる垂直磁気ヘッドにおいて、前記主磁極が
Ｃｏ系非晶質薄膜より成り、静磁場中熱処理が施される
よう構成したものである。
（ホ）作用
上記した本発明型（電磁気ヘッドでは、Ｃｏ系非晶質４
暎より成る主磁極に真空中での静磁場中熱処理を施すよ
うにしているので、祈る主磁極の磁気特性を良好なもの
にすることが出来ると共に、従来の回転磁場中熱処理法
のように真空中で試料を回転させる必要がなくなるため
装置構造が簡単【なる。
暎より成る主磁極に真空中での静磁場中熱処理を施すよ
うにしているので、祈る主磁極の磁気特性を良好なもの
にすることが出来ると共に、従来の回転磁場中熱処理法
のように真空中で試料を回転させる必要がなくなるため
装置構造が簡単【なる。
（へ）実施例
以下、本発明の一実施例について図面と共に説明する。
先ず、垂直磁気ヘッドの主磁極用軟磁性へｇ模としては
、一般に異方性磁界（Ｈｋ： ）、抗磁力（ＨＣ）が共
に小さいＨりが要求される。このうち、異方性磁界（Ｈ
ｋ）はヘッドの透磁率に、抗磁力（Ｈｃ）はヘッドの感
度ＶＣ！Ｔ接関係する量で、異方性磁界（Ｈｋ）の小さ
い膜はど透磁率は高く、抗磁力（Ｈｃ ）の小さい膜は
どＩｆＩＬ度が高いという関係にある。また、Ｃｏ系非
晶質４暎には面内異方性があるが、主磁極として使用す
る際には良好な磁気特性を得るために、祈る膜の磁化困
矯軸がヘッドの励磁方向となる様にする必要がある。
、一般に異方性磁界（Ｈｋ： ）、抗磁力（ＨＣ）が共
に小さいＨりが要求される。このうち、異方性磁界（Ｈ
ｋ）はヘッドの透磁率に、抗磁力（Ｈｃ）はヘッドの感
度ＶＣ！Ｔ接関係する量で、異方性磁界（Ｈｋ）の小さ
い膜はど透磁率は高く、抗磁力（Ｈｃ ）の小さい膜は
どＩｆＩＬ度が高いという関係にある。また、Ｃｏ系非
晶質４暎には面内異方性があるが、主磁極として使用す
る際には良好な磁気特性を得るために、祈る膜の磁化困
矯軸がヘッドの励磁方向となる様にする必要がある。
そこで、本発明では主磁極として用いられるＣ。
系非晶質薄膜にその暎ｊ杉成後真空中での静磁場中熱処
理を二段階に別けてその第一段階目と第二段階目の印加
磁場方向が互いに直交するように、即ち第一段階目はヘ
ッド励磁方向と直角方向に、第二段目はヘッド励磁方向
と同じ方向に磁場全印加したものであり、Ｃｏ系非晶質
薄膜の磁気特性に及ぼす効果は第１段階目、第二段階目
各々について第１図、第２図の様になる。即ち、第１図
からけ熱処理中印加磁場方向と膜の容易「柚とのなす角
（θ）が５°以内に収まっている事がわかる。これは主
磁極としてのＣｏ系非晶質薄１臭を熱処理する際に磁場
をヘッド励磁方向と直角の方向（印加することで印加磁
場方向が膜の磁化容易軸となり、それと直角のヘッド励
磁方向が１漠の磁化困矯軸となるためである。ここで抗
磁力Ｈｅ≦０．１５０ｅと謂う条件で考えると、その熱
処理温度（′ｒ）は第１図から２５０℃〜３２０℃が適
当である。また、第２図からは第二段階目熱処理時の温
度りｒ）を適当なところて選ふと異方性磁界（Ｈｋ）並
びに抗磁力（Ｈｅ ）が共に小さい良好なｔＰＪの得ら
れることが ・判る。即ち、異方性磁界Ｈｋ≦５０ｅ
と謂う条件ではその熱処理温度（Ｔ）は２６０℃〜３１
０°Ｃが適当だと考えられる。
理を二段階に別けてその第一段階目と第二段階目の印加
磁場方向が互いに直交するように、即ち第一段階目はヘ
ッド励磁方向と直角方向に、第二段目はヘッド励磁方向
と同じ方向に磁場全印加したものであり、Ｃｏ系非晶質
薄膜の磁気特性に及ぼす効果は第１段階目、第二段階目
各々について第１図、第２図の様になる。即ち、第１図
からけ熱処理中印加磁場方向と膜の容易「柚とのなす角
（θ）が５°以内に収まっている事がわかる。これは主
磁極としてのＣｏ系非晶質薄１臭を熱処理する際に磁場
をヘッド励磁方向と直角の方向（印加することで印加磁
場方向が膜の磁化容易軸となり、それと直角のヘッド励
磁方向が１漠の磁化困矯軸となるためである。ここで抗
磁力Ｈｅ≦０．１５０ｅと謂う条件で考えると、その熱
処理温度（′ｒ）は第１図から２５０℃〜３２０℃が適
当である。また、第２図からは第二段階目熱処理時の温
度りｒ）を適当なところて選ふと異方性磁界（Ｈｋ）並
びに抗磁力（Ｈｅ ）が共に小さい良好なｔＰＪの得ら
れることが ・判る。即ち、異方性磁界Ｈｋ≦５０ｅ
と謂う条件ではその熱処理温度（Ｔ）は２６０℃〜３１
０°Ｃが適当だと考えられる。
第３図は、上記した様に主磁極に静磁場中で二段階に熱
処理を施した本発明ヘッド（）（）と静磁場中熱処理の
施されていない従来ヘッド（６）′とを記録密度特性に
て比較したもので、本発明ヘッドの再生出力が従来ヘッ
ドに比べて約３倍近くになっていることが判る。ここで
、両方のヘッドの主磁極はその暎厚が共に０．３μｍで
あるが、０．３μｍ〜１μ汎にわたって同様な結果が得
られた。尚、本発明ヘッドではその熱処理温度を第一段
階目３００℃、第二段階目２８０℃とし、その印加磁場
の大きさ並びに熱処理時間を第一段階目、第二段階１共
５０００ｅ１３０分とした。
処理を施した本発明ヘッド（）（）と静磁場中熱処理の
施されていない従来ヘッド（６）′とを記録密度特性に
て比較したもので、本発明ヘッドの再生出力が従来ヘッ
ドに比べて約３倍近くになっていることが判る。ここで
、両方のヘッドの主磁極はその暎厚が共に０．３μｍで
あるが、０．３μｍ〜１μ汎にわたって同様な結果が得
られた。尚、本発明ヘッドではその熱処理温度を第一段
階目３００℃、第二段階目２８０℃とし、その印加磁場
の大きさ並びに熱処理時間を第一段階目、第二段階１共
５０００ｅ１３０分とした。
次に、祈る本発明垂直磁気ヘッド製造方法について、第
４図乃至第９図を参照しながら説明する。
４図乃至第９図を参照しながら説明する。
先ず、ｖＪ４図に示す様にＮｉ−Ｚｎフェライト等より
なる磁性材ブロック（６）の角部に溝加工を施して非磁
性材接合用の＠１の溝部（７）を形成した後、その第１
の溝部（７）に−に溝加工を施して巻線用として第２の
溝部（８）を形成する（第５図参照）。そして、この様
にして得られた磁性材ブロック＋６１の第１の溝部（７
）にガラス等の非磁性材（Ｑｌ全ガラス溶着や樹脂接着
により接合し之後、そのイ」１出（ｌＯ）を接合面とし
て鏡面研磨して＠６図に示す様な第１の半割ブロック（
Ｉｌｌを得る。
なる磁性材ブロック（６）の角部に溝加工を施して非磁
性材接合用の＠１の溝部（７）を形成した後、その第１
の溝部（７）に−に溝加工を施して巻線用として第２の
溝部（８）を形成する（第５図参照）。そして、この様
にして得られた磁性材ブロック＋６１の第１の溝部（７
）にガラス等の非磁性材（Ｑｌ全ガラス溶着や樹脂接着
により接合し之後、そのイ」１出（ｌＯ）を接合面とし
て鏡面研磨して＠６図に示す様な第１の半割ブロック（
Ｉｌｌを得る。
次に、この様にして得られた′＠１の半割ブロック（川
の鏡面研磨面（１０）にＣｏ系非晶質薄暎（例えば、Ｃ
ｏ−Ｚｒ−Ｎｂ非晶質薄膜）をスパッタ法等で形成し、
フォトエツチングにて所定のトラック幅の主磁極（１″
４とし之後、真空中の静磁場中で二段階の熱処理を施し
第２０半割ブロック（唄を得る。即ち、第７図に示す様
に熱処理中の印加磁場方向は第一段階目はヘッド励磁方
向と直角方向、第二段階目はヘッド励磁方向とした。そ
してその熱処理温度は、第一段階目については、第１図
にてＨｃ≦０．１５０ｅという条件で考えると２５０℃
〜３２０℃が適当であり、第二段階目については第２図
にてＨｋ≦５０ｅという条件では、２６．１１０Ｃ〜３
１０’Ｃが適当だと考えら、本実施例では、第−八 段階目３００°Ｃ１第二段階目２８０°Ｃとした。また
、印加磁場の大きさ、熱処理時間け、第一段階目、第二
段階目共５０００ｅ、３０分とした。そして、この様に
主磁Ｖｉ（＋２）の形成された第２の半割ブロック四と
主磁極形成前のｖＪｌの半割ブロック四とを鏡面研磨面
ｕｏ＋ ＋ｔｌｌＪから夫々突き合わせて樹脂接着やガ
ラ、ス溶青等により接合し、箸８図に示す如く所定の幅
でスライスした後、先端形状加工（Ｒ付）ｆｒ：行なっ
て巻線を施すことにより、第９図に示す様な本発明垂直
磁気ヘッドが得られる。
の鏡面研磨面（１０）にＣｏ系非晶質薄暎（例えば、Ｃ
ｏ−Ｚｒ−Ｎｂ非晶質薄膜）をスパッタ法等で形成し、
フォトエツチングにて所定のトラック幅の主磁極（１″
４とし之後、真空中の静磁場中で二段階の熱処理を施し
第２０半割ブロック（唄を得る。即ち、第７図に示す様
に熱処理中の印加磁場方向は第一段階目はヘッド励磁方
向と直角方向、第二段階目はヘッド励磁方向とした。そ
してその熱処理温度は、第一段階目については、第１図
にてＨｃ≦０．１５０ｅという条件で考えると２５０℃
〜３２０℃が適当であり、第二段階目については第２図
にてＨｋ≦５０ｅという条件では、２６．１１０Ｃ〜３
１０’Ｃが適当だと考えら、本実施例では、第−八 段階目３００°Ｃ１第二段階目２８０°Ｃとした。また
、印加磁場の大きさ、熱処理時間け、第一段階目、第二
段階目共５０００ｅ、３０分とした。そして、この様に
主磁Ｖｉ（＋２）の形成された第２の半割ブロック四と
主磁極形成前のｖＪｌの半割ブロック四とを鏡面研磨面
ｕｏ＋ ＋ｔｌｌＪから夫々突き合わせて樹脂接着やガ
ラ、ス溶青等により接合し、箸８図に示す如く所定の幅
でスライスした後、先端形状加工（Ｒ付）ｆｒ：行なっ
て巻線を施すことにより、第９図に示す様な本発明垂直
磁気ヘッドが得られる。
（ト）発明の効果
上述した如く本発明の垂直磁気ヘッドは、Ｃ。
系非晶ノロ薄膜より成る主磁極に真空中での静磁場中熱
処理を施すようにしているので、主磁極の磁気特性を良
好なものにすることが出来ると共に、従来の凹版磁場中
熱処理法のように真空中で試料全回１訳させる必要がな
くなるため装置の構造が簡単になる。
処理を施すようにしているので、主磁極の磁気特性を良
好なものにすることが出来ると共に、従来の凹版磁場中
熱処理法のように真空中で試料全回１訳させる必要がな
くなるため装置の構造が簡単になる。
第１図は第一段階回熱処理後の磁気特性を示す図、第２
図は第二段階目熱処理後の磁気特注を示す図、第３図は
本発明ヘッドと静磁場中熱処理を施していない従来ヘッ
ドとの記録密度特性を比較した図、第４図乃至！ｇ９図
は本発明ヘッドの製造工程を示し、第４図及び第５図は
夫々溝部を形成する工程を示す図、′／ＪＩＪ６図は第
１の半割ブロック図、第７閃は第２の半割ブロックを示
す図、第８図はスライス工程る示す図、＠９図汀本発明
ヘッドを示す図、第１０図は従来ヘッドを示す図である
。 （６）・・・磁性材ブロック、（９）・・・非磁性材、
四・・第１の半割ブロック、９・・・第２の半割ブロッ
ク。
図は第二段階目熱処理後の磁気特注を示す図、第３図は
本発明ヘッドと静磁場中熱処理を施していない従来ヘッ
ドとの記録密度特性を比較した図、第４図乃至！ｇ９図
は本発明ヘッドの製造工程を示し、第４図及び第５図は
夫々溝部を形成する工程を示す図、′／ＪＩＪ６図は第
１の半割ブロック図、第７閃は第２の半割ブロックを示
す図、第８図はスライス工程る示す図、＠９図汀本発明
ヘッドを示す図、第１０図は従来ヘッドを示す図である
。 （６）・・・磁性材ブロック、（９）・・・非磁性材、
四・・第１の半割ブロック、９・・・第２の半割ブロッ
ク。
Claims (3)
- （１）軟磁性薄膜より成る主磁極を、この主磁極と磁気
的に接合される補助磁極部とこの主磁極の磁束のリター
ンパスとなるリターンパス部とを夫々有する一対の補助
部材にて両側から挾持してなる垂直磁気ヘッドにおいて
、前記主磁極がＣＯ系非晶質薄膜より成り、静磁場中熱
処理が施されている事を特徴とした垂直磁気ヘッド。 - （２）前記静磁場中熱処理が二段階に別けて施され、第
一段階目と第二段階目の印加磁場が互いに直交する事を
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の垂直磁気ヘッド
。 - （３）前記第一段階目と第二段階目の静磁場中熱処理の
温度は、第一段階目が２５０℃〜３２０℃で、第二段階
目が２６０℃で〜３１０℃である事を特徴とする特許請
求の範囲第２項記載の垂直磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23382185A JPS6292208A (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 垂直磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23382185A JPS6292208A (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 垂直磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6292208A true JPS6292208A (ja) | 1987-04-27 |
Family
ID=16961089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23382185A Pending JPS6292208A (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 垂直磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6292208A (ja) |
-
1985
- 1985-10-18 JP JP23382185A patent/JPS6292208A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR860001743B1 (ko) | 자기헤드 및 그 제조방법 | |
| JPH02227814A (ja) | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS6292208A (ja) | 垂直磁気ヘツド | |
| JPH06215325A (ja) | 積層型磁気ヘッドコア | |
| JP3772458B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH01149209A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS61229209A (ja) | 垂直磁気ヘッド | |
| JPS58150120A (ja) | 垂直磁気記録ヘツド | |
| JPS6390025A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62266709A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JP2654401B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP2919662B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH05282619A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS6218617A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS6059508A (ja) | 磁気ヘツドの製法 | |
| JPS62119709A (ja) | 高周波用磁気ヘツドコアの製造方法 | |
| JPS58114329A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01158606A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH087847B2 (ja) | インラインギヤツプ型薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPS59229718A (ja) | 補助磁極励磁型垂直磁気記録用磁気ヘツド | |
| JPS6151611A (ja) | 複合磁性材 | |
| JPH04139605A (ja) | 磁気ヘッドコアの製造方法 | |
| JPH06274876A (ja) | 磁気記録媒体の配向装置 | |
| JPH1069613A (ja) | 磁気ヘッド、その製造方法、及びそれを使用した磁気ディスク装置 | |
| JPS62226410A (ja) | 磁気ヘツド |